技術(shù)編號：7042433
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。一種噴墨設(shè)備包括泵唧室，由壁界定；壓電層，設(shè)置在所述泵唧室以上；環(huán)電極，具有設(shè)置在所述壓電層上的環(huán)狀較低部分。濕氣阻擋層覆蓋所述泵唧室之上的所述壓電層的未由所述環(huán)電極的所述環(huán)狀較低部分覆蓋的其余部分。專利說明環(huán)電極的鈍化[0001]本發(fā)明涉及噴墨設(shè)備上的環(huán)電極。背景技術(shù)[0002]流體噴射系統(tǒng)典型地包括從流體供應(yīng)物至噴嘴組件的流體路徑，噴嘴組件包括噴嘴，流體液滴從該噴嘴噴射。能夠通過利用致動器對流體路徑中的流體進行加壓來控制流體液滴噴射，致動器諸 如是壓電...
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