技術(shù)編號：7100887
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及一種六自由度定位設(shè)備，尤其涉及一種無接觸式粗精動疊層六自由度定位設(shè)備，主要應(yīng)用于半導(dǎo)體光刻設(shè)備中，屬于超精密加工和檢測設(shè)備。背景技術(shù)具有納米級運動定位精度的超精密微動平臺是半導(dǎo)體裝備關(guān)鍵部件之一，如光刻機中的硅片臺、掩模臺等。為實現(xiàn)超精密定位要求，以氣浮和磁浮約束為支撐方式的執(zhí)行單元作為一種超精密運動臺被廣泛應(yīng)用。氣浮約束作為支撐和導(dǎo)向作用時，減小了機械結(jié)構(gòu)傳動引起的摩擦力等作用，提高了系統(tǒng)運動定位精度。以直線電機為驅(qū)動單元時，由通電線圈在永磁陣...
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