技術(shù)編號(hào)：7169760
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒(méi)有賬戶(hù)請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及利用靜電力將下述器件保持到支承臺(tái)上的吸盤(pán)- 在制造器件時(shí)用光刻投影技術(shù)處理的基底；或- 在光刻投影設(shè)備、諸如掩膜檢驗(yàn)或清潔設(shè)備等掩膜處理設(shè)備或掩膜制造設(shè)備中的光刻投影掩膜或掩膜坯料；所述吸盤(pán)包括第一介電元件。本發(fā)明還涉及光刻投影設(shè)備，該光刻投影設(shè)備包括- 輻射系統(tǒng)，用于提供輻射投影光束；- 支承結(jié)構(gòu)，用于支承圖案形成裝置，該圖案形成裝置根據(jù)所需圖案將投影光束形成圖案；- 基底臺(tái)，用于支承基底；- 投影系統(tǒng)，用于將形成圖案的光束投影到基...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專(zhuān)利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專(zhuān)利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專(zhuān)利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。