技術(shù)編號(hào):7205743
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明的各實(shí)施方式大致是關(guān)于處理基板的方法,且特別是有關(guān)于在摻雜工藝中 用來(lái)測(cè)量基板上的摻雜物濃度的方法。背景技術(shù)在諸如等離子體增強(qiáng)型化學(xué)氣相沉積(plasma-enhanced chemical vapor deposition, PE-CVD)工藝、高密度等離子體化學(xué)氣相沉積(high density plasma chemical vapor deposition, HDP-CVD)工藝、等離子體浸沒(méi)式離子注入(plasma immersion io...
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。