技術(shù)編號：7214452
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及光刻設(shè)備和光刻方法。背景技術(shù) 光刻設(shè)備是將所需圖形施加到襯底的目標(biāo)部分上的機(jī)器。例如，光刻設(shè)備可以用于集成電路(IC)的制造中。在這種情況下，輻射束經(jīng)過照明系統(tǒng)并照射構(gòu)圖裝置?？煞Q為掩模或標(biāo)線的構(gòu)圖裝置可以用于產(chǎn)生相應(yīng)于IC單層的電路圖形。該圖形可以在具有輻射敏感材料(抗蝕劑)層的襯底(例如，硅晶片)上的目標(biāo)部分(例如，包括一個或幾個管芯的部分)上成像。通常，單個襯底包括依次曝光的相鄰目標(biāo)部分的網(wǎng)絡(luò)。常規(guī)光刻設(shè)備包括通過將整個圖形一次曝光在目標(biāo)部...
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