技術(shù)編號：7214929
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及利用庫侖力的靜電吸盤。背景技術(shù) 原來，在半導(dǎo)體制造工序或液晶制造工序中的曝光、PVD(Physical VaporDeposition物理氣相沉積)、CVD(Chemical Vapor Deposition化學(xué)氣相沉積)、蝕刻等工序中，使用了吸附并保持半導(dǎo)體基板或玻璃基板的靜電吸盤。在靜電吸盤中，有利用庫侖力來吸附基板的，也有利用約翰遜拉別克Johnsen-Rahbeck(以下稱為J-R)力來吸附基板的。一直以來，曝光、PVD、CVD、蝕刻等工...
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