技術編號：7286402
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及新穎性的晶片加工裝置和新穎性的制造晶片加工裝置的方 法。所述裝置包括被涂覆的石墨主體和氮化物、碳化物、碳氮化物、氧氮 化物或其混合物的基本上連續(xù)的一層或多層外涂層，從而形成單一結(jié)構(gòu)的 整體部件，其具有基本上平坦的表面(用于熱不均勻性)，從而克服電/機械 應力局限性。我們現(xiàn)在公開多種制造方法實施方案，從而制造本發(fā)明的晶 片加工裝置。A. 加工步驟在本發(fā)明方法的第一種實施方案中，通過以下方法制 造晶片加工裝置，其包括在附圖說明圖1的示意圖中說明的步驟...
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