技術(shù)編號：7440550
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種陡下降沿低功耗的等離子浸沒離子注入用高壓脈沖調(diào)制器及調(diào) 制方法，屬于脈沖功率。背景技術(shù)等離子浸沒離子注入技術(shù)是一種先進(jìn)的表面改性技術(shù)，近年來引起人們的廣泛關(guān) 注。等離子浸沒離子注入過程中，被處理工件被放置在真空室內(nèi)，真空室內(nèi)由外部等離子體 源激發(fā)產(chǎn)生等離子體，在被處理工件上施加負(fù)的脈沖高壓，由于等離子中電子和離子的質(zhì) 量差異，電子迅速被排斥遠(yuǎn)離工件，而離子相對靜止，這樣在工件周圍便形成一個等離子壓 降區(qū)，即等離子鞘層區(qū)。鞘層內(nèi)的離子在鞘層電壓...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。