技術(shù)編號：8029359
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。政府利益根據(jù)題為“在微電子制造業(yè)中為等離子蝕刻和清洗反應(yīng)的閉環(huán)工藝控制和優(yōu)化而使用新型薄膜化學(xué)的集成MEMS反應(yīng)腔氣體監(jiān)測器”(“Integrated MEMS Reactor Gas Monitor Using Novel Thin FilmChemistry for the Closed Loop Process Control.and Optimization ofPlasma Etch and Clean Reactions in the Manufacturing ofMicroelectronics”)...
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