技術(shù)編號：8174474
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。技術(shù)領(lǐng)域本發(fā)明涉及一種在對半導(dǎo)體晶圓等作用由微波產(chǎn)生的等離 子來施加處理時使用的等離子處理裝置。背景技術(shù)近年來，隨著半導(dǎo)體制品的高密度化和高微細化，在半導(dǎo) 體制品的制造工序中，為了成膜、蝕刻、灰化等處理使用等離子處理裝置。特別是，即使在O，lmTorr( 13.3mPa )~幾十mTorr (幾Pa)左右的壓力比較低的高真空狀態(tài)下，也可以穩(wěn)定地產(chǎn) 生等離子，因此，有使用采用微波產(chǎn)生高密度等離子的微波等 離子裝置的傾向。這樣的等離子處理裝置在日本特開平3-191073號公報、日 本特開平5-343334號公報、日本特...
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