技術(shù)編號：8281628
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。電子束曝光技術(shù)是20世紀(jì)60年代從掃描電子顯微鏡基礎(chǔ)上發(fā)展起來的一種微細(xì)加工技術(shù)。由于電子束無需考慮衍射效應(yīng)且其產(chǎn)生、聚焦、偏轉(zhuǎn)等技術(shù)成熟，所以該技術(shù)得到了廣泛應(yīng)用。近些年隨著納米科學(xué)技術(shù)的發(fā)展，電子束曝光技術(shù)成為制作和實現(xiàn)納米尺度結(jié)構(gòu)的重要手段，電子束曝光技術(shù)不需要掩模版即可直寫任意圖形，其加工分辨率達(dá)到10個納米以下，是目前最靈活的高分辨率納米加工技術(shù)。但是電子束光刻效率很低，尤其是在采用小束斑的情況下。例如JBX 6300FS采用2nm束斑，曝光20...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。