技術編號：8295374
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。目前高世代液晶面板生產(chǎn)工藝中，陣列制程需要用到銅鑰膜蝕刻液，蝕刻的金屬膜層結構為銅/鑰合金。已知有例如過氧化氫蝕刻液、雙氧水+氟化物蝕刻液等。公開號為CN103668208A以及CN103924242A公開的中國專利的銅鑰合金膜或銅/鑰膜的蝕刻液組合物由雙氧水、雙氧水穩(wěn)定劑、氟化物、螯合劑、蝕刻抑制劑、蝕刻添加劑等組成；在蝕刻的過程中，隨著金屬離子不斷的析出，雙氧水的穩(wěn)定性逐漸降低，當金屬離子含量在2000ppm左右時，產(chǎn)生的重金屬離子Cu，F(xiàn)e會促進H2...
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