技術(shù)編號：8399275
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及能夠形成微細(xì)且高精度的曝光圖案的，特別涉及適合在平板顯示器的制造中使用的技術(shù)。本申請基于2012年12月27日于日本申請的日本特愿2012-285846號主張優(yōu)先權(quán)，在此引用其內(nèi)容。背景技術(shù)在半導(dǎo)體設(shè)備及FPD的制造工序中，為了在形成于由硅或玻璃等構(gòu)成的基板的抗蝕劑膜上對微細(xì)圖案進(jìn)行曝光、轉(zhuǎn)印而使用相移掩膜。由于Fro用的玻璃基板比半導(dǎo)體用的硅基板面積大，因此為了以充分的曝光光量對Fro用的基板進(jìn)行曝光而使用g線、h線及i線的復(fù)合波長的曝光光。當(dāng)...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。