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技術(shù)編號：8467655

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專利說明 本申請要求35U.S.C. § 119 (e)的2013年12月31日提出的美國臨時申請 No. 61/922, 760為優(yōu)先權(quán)，其全部內(nèi)容通過引用全部并入本申請。 本發(fā)明一般涉及電子設(shè)備的制造。更具體地，本發(fā)明涉及可交聯(lián)聚合物和包含這 樣的可交聯(lián)聚合物的底層組合物。所述聚合物和底層組合物能夠應(yīng)用于定向自組裝方法且 被發(fā)現(xiàn)特別適用于，例如半導(dǎo)體設(shè)備制造中精細圖案的形成，或適用于數(shù)據(jù)存儲裝置的制 備。背景技術(shù) 在半導(dǎo)體制造行業(yè)，使用光致抗蝕劑材料的...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。

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