技術(shù)編號(hào)：8472326
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及光刻機(jī)領(lǐng)域，特別涉及一種投影曝光裝置。背景技術(shù)將描繪在掩模版上的電路圖形，通過投影曝光裝置成像在涂有感光材料(如光刻膠)的制造電路的基底表面上，之后通過刻蝕等工藝在制造電路的基底上形成圖形，這種光影刻蝕法廣泛地應(yīng)用于各種領(lǐng)域，如集成電路制造領(lǐng)域、印刷電路板制造領(lǐng)域及平板顯示器薄膜晶體管陣列的制造領(lǐng)域。投影曝光裝置是將掩模版上的電路圖形，經(jīng)過投影曝光透鏡等光學(xué)系統(tǒng)做投影曝光，將電路圖形以一定放大或縮小的倍率投影于制造電路的基底上，近年來該投影曝光裝...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。