技術(shù)編號：9284841
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。一般真空設(shè)備是用于鍍膜、蝕刻、表面處理等加工，其應(yīng)用的領(lǐng)域有半導(dǎo)體、光電、電機(jī)、電子、民生用品等產(chǎn)業(yè)，過程中都需經(jīng)過多道工藝處理以便形成不同材質(zhì)的膜層結(jié)構(gòu)。為了達(dá)到高品質(zhì)、高產(chǎn)能且低成本的作業(yè)目標(biāo)，現(xiàn)有真空設(shè)備多為連續(xù)式真空設(shè)備?，F(xiàn)有的連續(xù)式真空設(shè)備請參閱圖7所示，包括依序連接的一前外部傳輸機(jī)構(gòu)81、一第一腔體82、一第二真空腔體83、一第三真空腔體84、一第四真空腔體85、一第五腔體86以及一后外部傳輸機(jī)構(gòu)87,并且在該前外部傳輸機(jī)構(gòu)81、該第一腔體82...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。