技術(shù)編號(hào)：9418972
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。 半導(dǎo)體器件和電路制作中需要對(duì)晶片進(jìn)行多次光刻。光刻的目的是選擇性的曝光 晶片上的光刻膠，W滿足后續(xù)工藝的需要。光刻的基本過(guò)程就是將光刻版和晶片進(jìn)行對(duì)準(zhǔn) 后，使用紫外光等光波對(duì)事先涂好光刻膠的晶片進(jìn)行曝光，由于光刻版對(duì)紫外光具有選擇 透過(guò)性，而光刻膠是對(duì)紫外光敏感的化學(xué)物質(zhì)，光照可W引起光刻膠的性質(zhì)變化，光照部分 的光刻膠會(huì)由可在顯影液中溶解變成不可在顯影液中溶解或者由不可在顯影液中溶解變 成可W在顯影液中溶解，從而選擇性的保留晶片上光刻膠的圖案，進(jìn)而對(duì)晶...
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