技術編號：9450604
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。環(huán)形拋光廣泛應用于大口徑平面光學元件的加工，加工的元件具有較低的中頻誤差。大型環(huán)拋機一般采用大理石基盤，通過在其表面澆制瀝青作為拋光盤(膠盤)。通常，環(huán)拋機的拋光盤的中心位置配置有中心柱，同時拋光盤的側邊位置配置有3個立柱，均通過橋架(橫梁)與中心柱連接，形成3個工位。其中一個工位用于放置校正板，另外兩個工位用于放置工件盤。環(huán)拋技術一直存在的一個難題是元件低頻面形誤差的高效收斂。元件的面形誤差主要取決于拋光過程的運動參量以及元件和膠盤接觸界面的壓力分布。拋...
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