技術(shù)編號：9519625
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及物理氣相沉積(PVD)系統(tǒng)。更具體地，本發(fā)明涉及用于PVD系統(tǒng)的陰極組件。PVD描述了各種真空沉積方法，真空沉積方法用于通過將蒸汽形式的期望的薄膜材料冷凝至各個(gè)工件的表面上來沉積薄膜。PVD是實(shí)質(zhì)上蒸汽涂布技術(shù)，涉及在原子水平上轉(zhuǎn)移材料。PVD的方法主要包括物理工藝，諸如高溫真空蒸汽和隨后的冷凝或等離子體濺射轟擊Ο等離子體濺射轟擊是一種由于靶標(biāo)通過能量粒子的轟擊使得原子從靶標(biāo)噴射出的工藝。從靶標(biāo)噴射出的原子趨于沉積在真空室中的所有表面上。因此，放...
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