技術(shù)編號：9577705
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。 納米工藝下，晶體管特征尺寸的降低對制造工藝提出更加苛刻的要求，以前可以 忽略的各種效應(yīng)日漸突出，其中工藝、電壓和溫度對芯片的性能、功能和穩(wěn)定性的影響越來 越明顯。為保證制造出來的芯片能適應(yīng)各種工作環(huán)境，需要在設(shè)計過程中就把可能造成的 影響考慮進(jìn)去，即在進(jìn)行靜態(tài)時序分析時考慮工藝、電壓和溫度對單元和互連線延時的影 響，具體操作過程中主要分兩部分進(jìn)行考慮 (1)片上誤差（OCV，on-chipvariation) 片上誤差是指由于工藝、電壓和溫度的變化，導(dǎo)致...
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