技術(shù)編號：9596755
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。3D制程工藝中某些層需要用到超深孔蝕刻，而超深孔蝕刻需要很好的保形材料作為硬光罩(Hard Mask)用來傳遞圖案到基材上。業(yè)界現(xiàn)在常用Kodiak膜層作硬光罩(HM)來傳遞圖形。但是這種膜層具有很強的吸光性，光刻做前層對準(zhǔn)時，光基本無法穿透這層膜，導(dǎo)致無前層的對準(zhǔn)Mark光信號被接收，從而出現(xiàn)對準(zhǔn)失敗，無法正常完成后續(xù)光刻制程。發(fā)明內(nèi)容鑒于上述問題，本發(fā)明提供，通過在沉積高吸光膜(Kodiak)層前，刻蝕出新的對準(zhǔn)用Mark作為預(yù)對準(zhǔn)圖形，再利用Kodi...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。