技術(shù)編號：9646041
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。半導(dǎo)體器件制造工藝中，光刻是其中的一個重要步驟，在該步驟中利用曝光和顯影對晶圓表面形成的光刻膠進行圖案化，然后通過刻蝕工藝將圖案化光刻膠的圖形轉(zhuǎn)移到晶圓上。光刻工藝通常采用的步驟包括首先，在晶圓表面涂覆光刻膠后，利用特定波長的光對覆蓋晶圓的光刻膠進行選擇性照射，光刻膠中的感光劑會發(fā)生光化學(xué)反應(yīng)；在曝光過程結(jié)束后加入顯影液，一般是通過顯影噴嘴對已曝光的光刻膠噴灑顯影液，正性光刻膠的被照射區(qū)域、負(fù)性光刻膠的未被照射區(qū)域會溶液于顯影液，而剩余的未溶解的部分(正性...
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