技術編號：9709782
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及對基板進行處理的基板處理方法以及基板處理裝置。成為處理對象的基板例如包括半導體晶片、液晶顯示裝置用基板、等離子體顯示器用基板、FED (FieldEmiss1n Display場致發(fā)射顯示器)用基板、光盤用基板、磁盤用基板、光磁盤用基板、光掩模用基板、陶瓷基板、太陽電池用基板等。背景技術日本特開2012-44144號公報公開了向在表面形成有圖案的基板供給藥液等處理液，然后使所述基板干燥的方法。在該方法中，為了一邊抑制或防止圖案倒塌的發(fā)生一邊使基板...
注意：該技術已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權人授權前，僅供技術研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術人員進行技術研發(fā)參考以及查看自身技術是否侵權，增加技術思路，做技術知識儲備，不適合論文引用。