技術(shù)編號(hào):9728887
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。在功率轉(zhuǎn)換器件中,基于晶體管單元密度和其他各種優(yōu)勢(shì)的考慮,柵極可以形成在自半導(dǎo)體硅襯底的表面向下延伸的溝槽之中,典型的例子就是溝槽式M0SFET,其他的例如還包括溝槽式的絕緣柵極雙極晶體管等,它們有一個(gè)公共的特征,就是都包括各類具有各種功能的溝槽,但出于器件自身結(jié)構(gòu)的特性,某些時(shí)候,終端區(qū)的溝槽底部處的電場(chǎng)強(qiáng)度顯示出為器件的最大電場(chǎng)密度,在電壓升高到器件進(jìn)入雪崩的點(diǎn)上,在溝槽的角部發(fā)生雪崩擊穿而出現(xiàn)碰撞電離,會(huì)發(fā)生擊穿產(chǎn)生雪崩電流。雪崩擊穿一般容易導(dǎo)致熱載...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。