技術(shù)編號(hào)：9740954
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。目前國內(nèi)所有的西門子法多晶硅生產(chǎn)企業(yè)都是采用的CVD化學(xué)沉淀還原爐，在多晶硅反應(yīng)過程中，隨著多晶硅顆粒的沉淀，也伴隨著少量(約0.3%)HC1氣體的產(chǎn)生，這是化學(xué)反應(yīng)公式?jīng)Q定的，是不可避免的。為保證多晶硅產(chǎn)品質(zhì)量和成本，又必須將反應(yīng)氣體中的HCl組分分離出來。還原尾氣中含有的HCl必需經(jīng)過精餾塔的精餾作用才能使HCl從氯硅烷液體中分離出來，由于其含量非常少，精餾塔的塔回流組分并不是純凈的HCl，而是含有HCl的氯硅烷混合物，所以其精餾出來的產(chǎn)物液體部分并不...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。