專利名稱：真空隔絕室密封裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及一種真空隔絕室密封裝置。
背景技術(shù)：
真空隔絕室(又稱“加載互鎖真空室”)(load lock chamber)，其結(jié)構(gòu)如圖1所示， 該真空隔絕室的一側(cè)壁開口，所述側(cè)壁稱之為封接面壁Ksealing surface wall)，該開口的大小小于側(cè)壁，為了實現(xiàn)真空隔絕室的密封，在封接面壁外側(cè)設(shè)有隔絕門2(load lock door)以及隔絕門外殼3，為了保證密封效果，通常在封接面壁的開口邊緣上設(shè)有密封件 11，例如用橡膠材料包裹在封接面壁1的開口處。以上真空隔絕室容易受到外界環(huán)境的影響，具體壓力梯度(例如，隔絕門外部的大氣壓力和/或隔絕門內(nèi)部的壓力)可引起隔絕門 2的頂部和底部運(yùn)動并且從而引起隔絕門2的運(yùn)動，所述運(yùn)動可引起密封件11、封接面壁1 與隔絕門2之間的摩擦。這樣的摩擦可使密封件11磨損產(chǎn)生漏處，外部氣體滲入真空隔絕室，引入真空隔絕室缺陷的微粒并且真空隔絕室抽真空不完全。為了改善以上狀況，現(xiàn)有技術(shù)在隔絕門2與外殼3之間增設(shè)氣囊4，所述氣囊4由橡膠材料制成，通過氣囊4的壓力壓在隔絕門2上，使得隔絕門2完全貼合封接面壁1，處于密封狀態(tài)，真空隔絕室抽真空后，由外部的大氣壓壓迫隔絕門2，其不足之處在于，真空隔絕室內(nèi)頻繁的電解氣使氣囊4吹出或表面不對稱以及氣囊4膨脹次數(shù)多了后氣囊4各處伸縮性不一致，造成氣囊4在隔絕門2上的壓力不對稱，壓力不足，增設(shè)氣囊4的真空隔絕室在此情況下亦會由于壓力梯度引起隔絕門2運(yùn)動，此運(yùn)動可引起密封件11、封接面壁1與隔絕門2之間的摩擦。這樣的摩擦使密封件11磨損，真空隔絕腔室產(chǎn)生漏處且氣囊4的壓力不足以使隔絕門2完全貼合在封接面壁1上，外部氣體滲入真空隔絕室，引入真空隔絕室缺陷的微粒并且真空隔絕室抽真空不完全。所述情況下需更換新的厚的氣囊4，以達(dá)到隔絕門2 合適的壓力，使隔絕門2完全貼合在封接面壁1上，所述隔絕門2外的氣囊4使用壽命短， 成本高，且需大量的勞動力進(jìn)行更換。

實用新型內(nèi)容本實用新型為了克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種結(jié)構(gòu)簡單，成本低的真空隔絕室密封裝置。本實用新型的技術(shù)方案如下該真空隔絕室密封裝置，用于真空隔絕室的密封，真空隔絕室一側(cè)壁上具有開口，該側(cè)壁為封接面壁，開口邊緣上設(shè)有密封件，該真空隔絕密封裝置包括隔絕門，其特殊之處在于，所述隔絕門由導(dǎo)磁材料制成，所述真空隔絕腔室的封接面壁上設(shè)有電磁石。作為優(yōu)選所述電磁石呈對邊和/或?qū)菍ΨQ分布。作為優(yōu)選所述密封件由橡膠材料制成。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實用新型具有結(jié)構(gòu)簡單、成本低、無需頻繁更換、減少勞動力， 提高生產(chǎn)效率的優(yōu)點(diǎn)。
圖1為現(xiàn)有技術(shù)的主視圖。圖2為現(xiàn)有技術(shù)的左視圖。圖3為本實用新型的主視圖。圖4為本實用新型的左視圖。
具體實施方式
本實用新型下面將結(jié)合附圖作進(jìn)一步詳述如圖1和圖2所述，現(xiàn)有的真空隔絕室密封裝置，用于真空隔絕室的密封，真空隔絕室一側(cè)壁上具有開口，該側(cè)壁為封接面壁1，開口邊緣上設(shè)有密封件11，該真空隔絕密封裝置包括隔絕門2，隔絕門2固定在通過軸承轉(zhuǎn)動移動的外殼3上，隔絕門2與外殼3之間固設(shè)有氣囊4，真空隔絕室密封裝置在關(guān)閉隔絕門2時，通過氣囊4的壓力壓在隔絕門2上， 使得隔絕門2完全貼合封接面壁1，處于密封狀態(tài)，真空隔絕室抽真空后，由外部的大氣壓壓迫隔絕門2，但是真空隔絕室內(nèi)頻繁的電解氣使氣囊4吹出或表面不對稱，所述氣囊4膨脹次數(shù)多了后，氣囊4各處伸縮性不一致，氣囊4在隔絕門2上的壓力不對稱、壓力不足，真空隔絕室密封裝置在此情況下由于壓力梯度亦會引起隔絕門2的運(yùn)動，所述運(yùn)動可引起密封件11、封接面壁1與隔絕門2之間的摩擦。這樣的摩擦可使密封件11磨損產(chǎn)生漏處，外部氣體滲入真空隔絕室，引入真空隔絕室缺陷的微粒并且真空隔絕室不能完全抽真空。所述情況下需更換新的厚的氣囊4，以達(dá)到隔絕門2合適的壓力，所述隔絕門2外的氣囊4使用壽命短，成本高，且需大量的勞動力。請參閱圖3和圖4所示，在本實施例中，該真空隔絕室密封裝置，真空隔絕室一側(cè)壁上具有開口，該側(cè)壁為封接面壁1，開口邊緣上設(shè)有密封件11，該真空隔絕密封裝置包括隔絕門2，隔絕門2固定在通過軸承轉(zhuǎn)動移動的外殼3上，所述隔絕門2由導(dǎo)磁材料制成， 所述封接面壁1上且位于密封件11外側(cè)設(shè)有電磁石12。所述電磁石12呈對邊對稱分布。 所述電磁石12還可呈對角對稱分布，所述電磁石12還可呈對邊對角對稱分布。所述密封件11由橡膠或金屬材料制成，能適用于不同的真空隔絕室。以上所述僅為本實用新型的較佳實施例，凡依本實用新型權(quán)利要求范圍所做的均等變化與修飾，皆應(yīng)屬本實用新型權(quán)利要求的涵蓋范圍。
權(quán)利要求1.一種真空隔絕室密封裝置，用于真空隔絕室的密封，真空隔絕室一側(cè)壁上具有開口， 該側(cè)壁為封接面壁，開口邊緣上設(shè)有密封件，該真空隔絕密封裝置包括隔絕門，其特征在于所述隔絕門由導(dǎo)磁材料制成，所述真空隔絕室的封接面壁上設(shè)有電磁石。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空隔絕室密封裝置，其特征在于所述電磁石呈對邊和/ 或?qū)菍ΨQ分布。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空隔絕室密封裝置，其特征在于所述密封件由橡膠材料制成。
專利摘要本實用新型涉及一種真空隔絕室密封裝置，用于真空隔絕室的密封，真空隔絕室一側(cè)壁上具有開口，該側(cè)壁為封接面壁，開口邊緣上設(shè)有密封件，該真空隔絕密封裝置包括隔絕門，所述隔絕門由導(dǎo)磁材料制成，所述真空隔絕室的封接面壁上設(shè)有電磁石。在密閉真空隔絕室時，磁鐵吸力吸住隔絕門使隔絕門完全貼合封接面壁，抽真空時處于密封狀態(tài)，氣體不會滲入。所述真空隔絕室密封裝置具有結(jié)構(gòu)簡單，密封效果好，成本低的優(yōu)點(diǎn)。
文檔編號H01L21/00GK202142507SQ20112025585
公開日2012年2月8日 申請日期2011年7月19日 優(yōu)先權(quán)日2011年7月19日
發(fā)明者徐磊 申請人:中芯國際集成電路制造(上海)有限公司