專利名稱：全自動豆?jié){機的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及一種全自動豆?jié){機。
背景技術：
現(xiàn)有的全自動豆?jié){機，需要循環(huán)磨才能保證正常工作，如
CN1270661C中公布的豆?jié){機，循環(huán)磨豆導致結構復雜，需增加換向閥 及其控制部件，磨漿時間長，故障率和成本增加，清洗不便。

實用新型內容
本實用新型提供一種全自動豆?jié){機，以解決現(xiàn)有全自動豆?jié){機因 循環(huán)磨豆導致結構復雜、磨漿時間長、故障率和成本增加、清洗不便 的技術問題。
為了解決以上技術問題，本實用新型采取以下技術方案 一種全自動豆?jié){機，它包括供水部件、磨漿部件、煮漿部件、電 控部件；供水部件包括水箱、水泵、上水管、加熱管、水箱溫度傳感 器，磨漿部件包括電機、粉碎裝置、料斗、排漿管，所述粉碎裝置包 括動磨頭、靜磨頭、腔體、葉輪；所述煮漿部件包括濾漿框、煮漿桶、 加熱盤；電控部件包括電子控制板，其特征在于，還包括水箱余量測 量器，所述上水管一端通過水泵與水箱相連，另一端位于料斗上部， 所述排漿管一端通過粉碎裝置與料斗底部連通，另一端位于煮漿桶上 部，所述水箱余量測量器與電控部件連接控制豆?jié){機的清洗。所述水箱余量測量器為設置"于水箱下銀的下永位，測量器。
所述水箱余量測量器為設置于上水管的流量計。
還包括設置于水箱上部的上水位測量器，所述上水位測量器與電 控部件連接控制水箱的最大水量。
在采用了上述技術方案后，由于取消了循環(huán)磨和采用水箱余量測 量器控制豆?jié){機的清洗，減少了磨漿時間，大大簡化了機器結構，降 低了機器的故障率和成本并采用了測量水量來控制清洗，解決了現(xiàn)有 全自動豆?jié){機因循環(huán)磨豆導致結構復雜、磨漿時間長、故障率和成本 增加、清洗不便的技術問題。


圖l是本實用新型豆?jié){機實施例一的結構示意圖 圖2是本實用新型豆?jié){機實施例二的結構示意圖； 圖中1、漿桶蓋；2、槳桶溫度傳感器；3、濾漿框；4、煮漿桶； 5、加熱盤；6、水箱；7、加熱管；8、水泵；9、殼體；10、排漿管； 11、上水管；12、料斗蓋；13、水位電極；14、料斗；15、水箱上水 位測量器；16、動磨頭；17、靜磨頭；18、腔體；19、葉輪；20、電 機；21、水箱溫度傳感器；22、水箱下水位測量器；23、電子控制板；
24、流量計。
具體實施方式
實施例一
如圖1所示， 一種全自動豆?jié){機，包括供水部件、磨漿部件、煮漿部件、電控部件，供水部件包'括—水箱6、水夷8、上水管ll、水箱上
水位測量器15、水箱余量測量器、加熱管7、水箱溫度傳感器21，上 水管11一端通過水泵8與水箱6相連，另一端位于料斗14上部，排漿管 10—端通過粉碎裝置與料斗14底部連通，另一端位于煮漿桶4上部，
水箱余量測量器與電控部件連接控制豆?jié){機的清洗。水箱余量測量器 為水箱下水位測量器22，其中水箱上水位測量器15和水箱下水位測量 器22可以是一組水位電極，水箱下水位測量器22用來測量水箱6中剩 余水量，保證磨漿和清洗用水量；磨漿部件包括電機20、粉碎裝置、 料斗14、排向煮漿桶4的排漿管10，料斗蓋12，粉碎裝置包括動磨頭 16、靜磨頭17、腔體18、葉輪19;煮漿部件包括濾漿框3、煮漿桶4、 加熱盤5、漿桶溫度傳感器2、漿桶蓋l，漿桶溫度傳感器2控制加熱過 程；電控部件包括電子控制板23，通過程序控制水箱6加熱、料斗14 給水、電機20磨漿、加熱盤5煮槳，保證各部分工作匹配。機器工作 程序如下向料斗14內放入預定原料，水箱上水位測量器15檢測水量 到位，加熱管7開始加熱，水箱溫度傳感器21控制加熱過程，當水溫 達到要求時，水泵8向料斗14加水，由水位電極13控制上水量，達到 預定水位后開始磨漿程序先向加熱盤5排入預定水量，并開始煮漿 桶4加熱，由漿桶溫度傳感器2控制加熱盤5加熱，達到預定溫度后開 始磨漿，向濾漿框3內排入漿液，經過濾后濾向煮漿桶4，這期間加熱 盤5—直由漿桶溫度傳感器2控制加熱，同時水泵8向料斗14內排水， 當水箱下水位測量器22檢測到水位信號后開始清洗程序，清洗程序結 束后進入煮漿程序，由漿桶溫度傳感器2和時間控制程序，完成整個 制作過程。實施例二
如圖1所示， 一種全自動豆?jié){機，包括供水部件、磨漿部件、煮
漿部件、電控部件，供水部件包括水箱6、水泵8、上水管ll、水箱上 水位測量器15、水箱余量測量器、加熱管7、水箱溫度傳感器21，上 水管11一端通過水泵8與水箱6相連，另一端位于料斗14上部，排漿管 10—端通過粉碎裝置與料斗14底部連通，另一端位于煮漿桶4上部， 水箱余量測量器為流量計24，其中水箱上水位測量器15可以是一組水 位電極，流量計24用來測量水箱6中剩余水量，保證磨漿和清洗用水 量；磨漿部件包括電機20、粉碎裝置、料斗14、排向煮漿桶4的排漿 管IO，料斗蓋12，粉碎裝置包括動磨頭16、靜磨頭17、腔體18、葉輪 19>;煮漿部件包括濾漿框3、煮漿桶4、加熱盤5、漿桶溫度傳感器2、 漿桶蓋l，漿桶溫度傳感器2控制加熱過程；電控部件包括電子控制板 23，通過程序控制水箱6加熱、料斗14給水、電機20磨漿、加熱盤5 煮漿，保證各部分工作匹配。機器工作程序如下向料斗14內放入預 定原料，水箱上水位測量器15檢測水量到位，加熱管7開始加熱，水 箱溫度傳感器21控制加熱過程，當水溫達到要求時，水泵8向料斗14 加水，由水位電極13控制上水量，達到預定水位后開始磨漿程序先 向煮漿桶4排入預定水量，并開始加熱盤5加熱，由漿桶溫度傳感器2 控制加熱盤5加熱，達到預定溫度后開始磨漿，向濾漿框3內排入漿液， 經過濾后濾向煮漿桶4，這期間加熱盤5—直由漿桶溫度傳感器2控制 加熱，同時水泵8向料斗14內排水，當電子控制板23和流量計24檢測 到水箱中的剩余水量到位后開始清洗程序，清洗程序結束后進入煮漿 程序，由漿桶溫度傳感器2和時間控制程序，完成整個制作過程。
權利要求1、一種全自動豆?jié){機，它包括供水部件、磨漿部件、煮漿部件、電控部件；供水部件包括水箱、水泵、上水管、加熱管、水箱溫度傳感器，磨漿部件包括電機、粉碎裝置、料斗、排漿管，所述粉碎裝置包括動磨頭、靜磨頭、腔體、葉輪；所述煮漿部件包括濾漿框、煮漿桶、加熱盤；電控部件包括電子控制板，其特征在于，還包括水箱余量測量器，所述上水管一端通過水泵與水箱相連，另一端位于料斗上部，所述排漿管一端通過粉碎裝置與料斗底部連通，另一端位于煮漿桶上部，所述水箱余量測量器與電控部件連接控制豆?jié){機的清洗。
2、 如權利要求l所述的全自動豆?jié){機，其特征在于，所述水箱余 量測量器為設置于水箱下部的下水位測量器。
3、 如權利要求l所述的全自動豆?jié){機，其特征在于，所述水箱余 量測量器為設置于上水管的流量計。、
4、 如權利要求1或2或3所述的全自動豆?jié){機，其特征在于，還包 括設置于水箱上部的上水位測量器，所述上水位測量器與電控部件連 接控制水箱的最大水量。
專利摘要本實用新型涉及一種全自動豆?jié){機。包括供水部件、磨漿部件、煮漿部件、電控部件；供水部件包括水箱、上水管、水箱余量測量器等；磨漿部件包括粉碎裝置、料斗、排漿管等；煮漿部件包括煮漿桶等；電控部件包括電子控制板。上水管一端通過水泵與水箱相連，另一端位于料斗上部，排漿管一端通過粉碎裝置與料斗底部連通，另一端位于煮漿桶上部，水箱余量測量器與電控部件連接控制豆?jié){機的清洗。由于取消了循環(huán)磨和采用水箱余量測量器控制豆?jié){機的清洗，減少了磨漿時間，大大簡化了機器結構，降低了機器的故障率和成本并采用了測試水量來控制清洗。
文檔編號A23L1/20GK201226770SQ2008200958
公開日2009年4月29日 申請日期2008年7月22日 優(yōu)先權日2008年7月22日
發(fā)明者程靜安 申請人:程靜安