專利名稱：平面狀帽子的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種帽子。
技術(shù)背景-
現(xiàn)有的太陽帽等帽子，為成型的帽子形式，體積大，攜帶、收藏不便。
發(fā)明內(nèi)容
本實(shí)用新型的目的在于提供一種結(jié)構(gòu)合理，體積小，攜帶、收藏方 便的平面狀帽子。
本實(shí)用新型的技術(shù)解決方案是
一種平面狀帽子，其特征是包括平面狀帽體，平面狀帽體上設(shè)有 頭頂中央孔，頭頂中央孔外側(cè)的帽體上設(shè)置穿透帽體的輻射狀槽。 平面狀帽體是彈性平面體。
本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)合理，體積小，攜帶、收藏、使用十分方便。


以下結(jié)合附圖和實(shí)施例對本實(shí)用新型作進(jìn)一步說明。 圖1是本實(shí)用新型一個(gè)實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示圖。 圖2是圖1實(shí)施例的實(shí)用狀態(tài)圖。
具體實(shí)施方式
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一種平面狀帽子，包括彈性平面狀帽體l，平面狀帽體上設(shè)有頭頂中央孔2，頭頂中央孔外側(cè)的帽體上設(shè)置穿透帽體的輻射狀槽3。
權(quán)利要求1、一種平面狀帽子，其特征是包括平面狀帽體，平面狀帽體上設(shè)有頭頂中央孔，頭頂中央孔外側(cè)的帽體上設(shè)置穿透帽體的輻射狀槽。
2、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的平面狀帽子，其特征是平面狀帽體是彈性平面體。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種平面狀帽子，包括平面狀帽體，平面狀帽體上設(shè)有頭頂中央孔，頭頂中央孔外側(cè)的帽體上設(shè)置穿透帽體的輻射狀槽。本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)合理，體積小，攜帶、收藏、使用十分方便。
文檔編號A42B1/04GK201398503SQ200920040219
公開日2010年2月10日 申請日期2009年4月14日 優(yōu)先權(quán)日2009年4月14日
發(fā)明者孫建華 申請人:南通富士美帽業(yè)有限公司