專(zhuān)利名稱(chēng)：低溫等離子體滅菌機(jī)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種滅菌消毒的設(shè)備，特別涉及一種低溫等離子體滅 菌機(jī)。
技術(shù)背景在等離子體滅菌機(jī)工作過(guò)程中，需要做到定量注入過(guò)氧化氫，從而保證滅菌效果的穩(wěn)定，目前國(guó)內(nèi)外公開(kāi)的等離子體滅菌機(jī)中，過(guò)氧化氫經(jīng)過(guò)2 次氣化后，以氣體的方式注入到滅菌工作室內(nèi)。這種方法大大降低了過(guò)氧 化氫液體的利用率，假設(shè)滅菌工作室的容積是100升，兩次氣化所需的氣 化室容積分別為10升，需要注入的過(guò)氧化氫的量為2毫升，那么，這2毫 升的過(guò)氧化氫相當(dāng)于對(duì)120升的腔體進(jìn)行滅菌工作，而不是100%的都作用 在100升容積的滅菌工作室內(nèi)，可這兩個(gè)氣化室內(nèi)是不會(huì)放置需要滅菌的 器械的，這樣就造成了過(guò)氧化氫的浪費(fèi)，使滅菌工作室內(nèi)過(guò)氧化氫氣體的 濃度降低；另外氣化后的過(guò)氧化氫經(jīng)過(guò)2次氣化后需要接觸的零部件較多， 行程較長(zhǎng)，大大增加了過(guò)氧化氫遇冷凝結(jié)的機(jī)率，這也會(huì)造成真正到達(dá)滅 菌工作室內(nèi)的過(guò)氧化氫大打折扣；另外過(guò)氧化氫經(jīng)過(guò)2次氣化，所需裝置 較多，制造復(fù)雜，增加了不必要的成本。 發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型為解決公知技術(shù)中存在的技術(shù)問(wèn)題而提供一種提高過(guò)氧化 氫利用率并在保證必要等離子體濃度的情況下減少過(guò)氧化氫的注入量的低 溫等離子體滅菌機(jī)。本實(shí)用新型為解決公知技術(shù)中存在的技術(shù)問(wèn)題所采取的技術(shù)方案是 一種低溫等離子體滅菌機(jī)，包括設(shè)有可開(kāi)啟和關(guān)閉的門(mén)的滅菌工作室、真 空裝置、注液裝置、射頻裝置、溫控裝置，所述滅菌工作室分別與所述真 空裝置、注液裝置、射頻裝置、溫控裝置相連接，所述滅菌工作室內(nèi)固接 與注液裝置相通的接液盤(pán)，接液盤(pán)與滅菌工作室相通。本實(shí)用新型還可以采用如下技術(shù)方案所述的所述滅菌工作室內(nèi)設(shè)有一個(gè)與其內(nèi)腔形狀適配、，與其內(nèi)壁間距 均勻的網(wǎng)孔狀電極圈，所述電極圈與滅菌工作室內(nèi)壁絕緣間隔，與射頻裝 置的電源正負(fù)極分別相連，所述電極圈與滅菌工作室內(nèi)壁間形成放電區(qū)，所述接液盤(pán)穿過(guò)放電區(qū)間。所述接液盤(pán)上設(shè)置均布網(wǎng)孔。所述電極圈的網(wǎng)孔直徑為5~8mm。 所述電極圈與滅菌工作室內(nèi)壁的間距為10 20rnrn。 所述溫控裝置為綁在滅菌工作室內(nèi)外表上的加熱帶。 所述滅菌工作室的可開(kāi)啟和關(guān)閉的門(mén)為自動(dòng)門(mén)。 所述真空裝置包括進(jìn)氣過(guò)濾裝置和排氣過(guò)濾裝置。 所述滅菌工作室內(nèi)設(shè)置載物架。 所述滅菌工作室含有預(yù)留接口 。本實(shí)用新型具有的優(yōu)點(diǎn)和積極效果是本實(shí)用新型由于采用滅菌工作 室內(nèi)固接與注液裝置相通的接液盤(pán)，接液盤(pán)與滅菌工作室相通的結(jié)構(gòu)，接 液盤(pán)直接接取來(lái)自注液裝置的液態(tài)過(guò)氧化氫，過(guò)氧化氫液體的氣化和等離 子體化都在滅菌工作室內(nèi)進(jìn)行，液態(tài)過(guò)氧化氫只需經(jīng)一次氣化即可提供滅 菌工作室滅菌所需的過(guò)氧化氫的等離子體，提高了過(guò)氧化氫的利用率，在 過(guò)氧化氫的注入量相等的情況下，提高了過(guò)氧化氫等離子體濃度，在保證 必要等離子體濃度的情況下減少了過(guò)氧化氫的注入量；減少了單獨(dú)的氣化 裝置，使整體結(jié)構(gòu)更加簡(jiǎn)單，成本低。

圖1是本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。圖中l(wèi)-自動(dòng)門(mén)，2-接液盤(pán)，4-器械或物品，5-注液裝置，6-溫控裝置， 7-預(yù)留接口， 8-電極圈，9-滅菌工作室，10-進(jìn)氣過(guò)濾裝置，ll-真空裝置， 12-排氣過(guò)濾裝置，13-載物架，14-射頻裝置。
具體實(shí)施方式
為能進(jìn)一步了解本實(shí)用新型的發(fā)明內(nèi)容、特點(diǎn)及功效，茲例舉以下實(shí)施 例，并配合附圖詳細(xì)說(shuō)明如下請(qǐng)參見(jiàn)圖1，本實(shí)用新型有一個(gè)可開(kāi)啟和關(guān)閉的自動(dòng)門(mén)1的滅菌工作室9，當(dāng)自動(dòng)門(mén)l關(guān)閉時(shí)，滅菌工作室9即處于密封狀態(tài)，滅菌工作室9分別 與真空裝置ll、注液裝置5、射頻裝置14、溫控裝置6相連接，滅菌工作 室9內(nèi)固接與注液裝置5相通的接液盤(pán)2,接液盤(pán)2可通過(guò)在接液盤(pán)上設(shè)置 均布網(wǎng)孔的方式與滅菌工作室9相通。液態(tài)過(guò)氧化氫通過(guò)注液裝置5注入 滅菌工作室9內(nèi)的接液盤(pán)2上，由于低壓和環(huán)境溫度的共同作用，液體過(guò)氧化氫在接液盤(pán)2上氣化，并擴(kuò)散到整個(gè)滅菌工作室9內(nèi)，過(guò)氧化氫液體 的氣化和等離子體化都在滅菌工作室9內(nèi)進(jìn)行，提高了過(guò)氧化氫的利用率， 減少了單獨(dú)的氣化裝置，使整體結(jié)構(gòu)更加簡(jiǎn)單。所述注液裝置5用于存儲(chǔ) 過(guò)氧化氫和將定量的液態(tài)過(guò)氧化氫注入滅菌工作室9內(nèi)；所述射頻裝置14 用于給滅菌工作室9內(nèi)的負(fù)載提供能量，產(chǎn)生等離子體。所述滅菌工作室9內(nèi)設(shè)置一個(gè)與其內(nèi)腔形狀適配、與其內(nèi)壁間距均勻 的、平行于滅菌工作室9內(nèi)壁的網(wǎng)孔狀電極圈8，電極圈8與滅菌工作室9 內(nèi)壁絕緣間隔，與射頻裝置14的電源正負(fù)極分別相連，電極圈8與滅菌工 作室9內(nèi)壁間形成放電區(qū)，過(guò)氧化氫氣體在兩者之間通過(guò)兩者之間的放電 被激發(fā)，生成過(guò)氧化氫等離子體，接液盤(pán)2穿過(guò)放電區(qū)間。所述電極圈8網(wǎng)孔直徑為5-8mm，材質(zhì)為不銹鋼，表面處理為雙面拋 光，亮度為8K以上級(jí)別，采用焊接工藝圍成圓筒型。所述電極圈8與滅菌工作室9內(nèi)壁的間距為10 20mrn。所述溫控裝置6為綁在滅菌工作室9內(nèi)外表上的加熱帶，對(duì)滅菌工作 室9內(nèi)的溫度進(jìn)行控制。所述滅菌工作室9內(nèi)設(shè)有可自由移動(dòng)、自由拆卸的載物架B，方便操 作者擺放和移動(dòng)需要放到滅菌工作室9內(nèi)的器械。所述真空裝置11用于調(diào)節(jié)滅菌工作室9內(nèi)的壓強(qiáng)；真空裝置11含有 過(guò)濾進(jìn)、出滅菌工作室9氣體的進(jìn)氣過(guò)濾裝置10和排氣過(guò)濾裝置12，用于 過(guò)濾雜質(zhì)。所述滅菌工作室9含有預(yù)留接口 7,用于設(shè)備的升級(jí)和參數(shù)的檢測(cè)。 本實(shí)用新型滅菌的實(shí)現(xiàn)過(guò)程打開(kāi)滅菌工作室9外的自動(dòng)門(mén)1，拉出載物架13,將需要滅菌的器械 或物品4放置到載物架13上；滅菌工作室9外的溫控裝置6開(kāi)始加熱，使 滅菌工作室9內(nèi)的溫度達(dá)到工作溫度范圍；注液裝置5為注液做好備；真 空裝置ll開(kāi)始工作，對(duì)滅菌工作室9抽真空，并對(duì)排出滅菌工作室9外的 空氣進(jìn)行過(guò)濾，當(dāng)滅菌工作室9內(nèi)壓強(qiáng)達(dá)到工作壓強(qiáng)后，過(guò)氧化氫液體注 入滅菌工作室9內(nèi)的接液盤(pán)2上，由于低壓和環(huán)境溫度的共同作用，液體 過(guò)氧化氫在接液盤(pán)2上氣化，并擴(kuò)散到整個(gè)滅菌工作室9內(nèi)，大約幾分鐘 后，啟動(dòng)射頻裝置14對(duì)滅菌工作室內(nèi)的過(guò)氧化氫氣體進(jìn)行放電，產(chǎn)生過(guò)氧 化氫等離子體，作用適當(dāng)時(shí)間后，打開(kāi)真空裝置ll的進(jìn)氣閥，使空氣經(jīng)過(guò)過(guò)濾后進(jìn)入滅菌工作室9，直到滅菌工作室9內(nèi)的壓強(qiáng)重新回復(fù)到一個(gè)大氣 壓，過(guò)氧化氫轉(zhuǎn)變成水和氧氣，滅菌工作結(jié)束。此時(shí)打開(kāi)滅菌工作室9的 門(mén)取出被滅菌器械或物品。本實(shí)用新型不僅適用于過(guò)氧化氫，還可適用于其他消毒或滅菌劑。
權(quán)利要求1.一種低溫等離子體滅菌機(jī)，包括設(shè)有可開(kāi)啟和關(guān)閉的門(mén)(1)的滅菌工作室(9)、真空裝置(11)、注液裝置(5)、射頻裝置(14)、溫控裝置(6)，所述滅菌工作室(9)分別與所述真空裝置(11)、注液裝置(5)、射頻裝置(14)、溫控裝置(6)相連接，其特征在于所述滅菌工作室(9)內(nèi)固接與注液裝置(5)相通的接液盤(pán)(2)，接液盤(pán)(2)與滅菌工作室(9)相通。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的低溫等離子體滅菌機(jī)，其特征在于所述滅菌工作 室(9)內(nèi)設(shè)有一個(gè)與其內(nèi)腔形狀適配、與其內(nèi)壁間距均勻的網(wǎng)孔狀電極 圈(8)，所述電極圈(8)與滅菌工作室(9)內(nèi)壁絕緣間隔，與射頻裝 置(14)的電源正負(fù)極分別相連，所述電極圈(8)與滅菌工作室(9) 內(nèi)壁間形成放電區(qū)，所述接液盤(pán)(2)穿過(guò)放電區(qū)間。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的低溫等離子體滅菌機(jī)，其特征在于所述接液 盤(pán)(2)上設(shè)置均布網(wǎng)孔。
4. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的低溫等離子體滅菌機(jī)，其特征在于所述電極圈(8) 的網(wǎng)孔直徑為5 8mm。
5. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的低溫等離子體滅菌機(jī)，其特征在于所述電極圈(8) 與滅菌工作室(9)內(nèi)壁的間距為10 20mm。
6. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的低溫等離子體滅菌機(jī)，其特征在于所述溫控裝置(6) 為綁在滅菌工作室(9)內(nèi)外表上的加熱帶。
7. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的低溫等離子體滅菌機(jī)，其特征在于所述滅菌工作 室(9)的可開(kāi)啟和關(guān)閉的門(mén)(1)為自動(dòng)門(mén)。
8. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的低溫等離子體滅菌機(jī)，其特征在于所述真空裝置(11)包括進(jìn)氣過(guò)濾裝置(10)和排氣過(guò)濾裝置(12)。
9. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的低溫等離子體滅菌機(jī)，其特征在于所述滅菌工作 室(9)內(nèi)設(shè)置載物架(13)。
10. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的低溫等離子體滅菌機(jī)，其特征在于所述滅菌工作 室(9)含有預(yù)留接口 (7)。
專(zhuān)利摘要本實(shí)用新型涉及一種低溫等離子體滅菌機(jī)。其特點(diǎn)是包括設(shè)有可開(kāi)啟和關(guān)閉的門(mén)的滅菌工作室、真空裝置、注液裝置、射頻裝置、溫控裝置，所述滅菌工作室分別與所述真空裝置、注液裝置、射頻裝置、溫控裝置相連接，所述滅菌工作室內(nèi)固接與注液裝置相通的接液盤(pán)，接液盤(pán)與滅菌工作室相通。本實(shí)用新型提高了過(guò)氧化氫的利用率，在過(guò)氧化氫的注入量相等的情況下，提高了過(guò)氧化氫等離子體濃度，在保證必要等離子體濃度的情況下減少了過(guò)氧化氫的注入量；減少了單獨(dú)的氣化裝置，使整體結(jié)構(gòu)更加簡(jiǎn)單，成本低。
文檔編號(hào)A61L2/14GK201105022SQ200720099869
公開(kāi)日2008年8月27日 申請(qǐng)日期2007年10月11日 優(yōu)先權(quán)日2007年10月11日
發(fā)明者鄒德潤(rùn), 鄒晨光, 鄒晨星, 鄒辰明 申請(qǐng)人:天津凱斯普科技有限公司;牡丹江等離子體物理應(yīng)用科技有限公司