專利名稱：熱釋光劑量計(jì)劑量比對(duì)照射支架的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及放射治療輻射劑量質(zhì)量控制和質(zhì)量保證輔助設(shè)備 領(lǐng)域，更具體為熱釋光劑量計(jì)劑量比對(duì)照射支架。
背景技術(shù)：
放射治療的成功與否很大程度上決定于靶區(qū)劑量的準(zhǔn)確度。因?yàn)?，?區(qū)劑量不確定度5%就可能導(dǎo)致放射治療生物學(xué)效應(yīng)的改變。在治療過(guò)程中，放療劑量的 誤差主要來(lái)自以下幾個(gè)環(huán)節(jié)1)、治療機(jī)輸出量的測(cè)量誤差；2)、參考條件下的輸出量轉(zhuǎn)換 成非參考條件下的劑量誤差；3)、從放射治療設(shè)計(jì)(TPS)時(shí)處方劑量轉(zhuǎn)換為治療靶區(qū)劑量 的誤差；4)、患者擺、定位誤差等。其中1)、2)為隨機(jī)誤差，3)、4)為非隨機(jī)(系統(tǒng))誤差。 其中治療機(jī)輸出量的測(cè)量和參考條件下的輸出量轉(zhuǎn)換成非參考條件下的劑量在各放射治 療醫(yī)院或中心的放射治療的質(zhì)量控制(QC)和質(zhì)量保證(QA)中尤為重要，國(guó)際原子能機(jī)構(gòu) (IAEA)和世界衛(wèi)生組織(WHO)等有關(guān)組織有專門(mén)機(jī)構(gòu)負(fù)責(zé)組織經(jīng)常不定期的劑量比對(duì)，掌 握全球各國(guó)放療機(jī)構(gòu)QA和QC的執(zhí)行情況和確?；颊呤苷談┝康陌踩?。目前這種各地區(qū)和 各單位間的劑量比對(duì)采用的方法主要是熱釋光劑量計(jì)(TLD)測(cè)量法。熱釋光劑量計(jì)有如下 劑量學(xué)的優(yōu)點(diǎn)有寬的劑量應(yīng)用范圍，從10_7 105Gy線性響應(yīng)；有良好的組織等效性；可 以做成各種尺寸和形狀的元件，郵寄方便，在使用中不受空間位置的限制；可在0 109Gy/ s劑量率范圍內(nèi)測(cè)量長(zhǎng)期的累積劑量，無(wú)依賴性；測(cè)量精度好于3% ；熱釋光材料對(duì)環(huán)境因 素(溫度、濕度、氣壓)不靈敏；熱釋光劑量計(jì)讀出方便、迅速，計(jì)算簡(jiǎn)單，可實(shí)現(xiàn)大規(guī)模的測(cè) 量，隨時(shí)提供結(jié)果。為了確保比對(duì)條件的一致性和盡量減少測(cè)量系統(tǒng)誤差，IAEA和WHO向 各參與機(jī)構(gòu)發(fā)放放置TLD的各種支架。然而這種支架由多種構(gòu)件拼組而成，安裝、定位、使 用不盡方便，在基層放療單位使用時(shí)往往由于操作稍有不慎面導(dǎo)致比對(duì)結(jié)果失敗。發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型的目的是為了克服現(xiàn)有支架安裝、定位、使用不方便的缺 陷，提供一種專門(mén)應(yīng)用于放療時(shí)參考條件和非參考條件下，集成度高，安裝調(diào)節(jié)使用方便， 適用面廣的熱釋光劑量計(jì)劑量比對(duì)照射支架。本實(shí)用新型的目的是通過(guò)下述技術(shù)方案來(lái)實(shí)現(xiàn)的本實(shí)用新型的熱釋光劑量計(jì)劑量比對(duì)照射支架由底座和滑動(dòng)支架組成，其特征在 于盤(pán)形底座上安裝有水平調(diào)節(jié)螺釘，水平座標(biāo)尺和支架桿；滑動(dòng)支架由套軌環(huán)和元件支撐 桿組成，其中，元件支撐桿為十字形，十字形一臂的一端與套軌環(huán)連接，另一端有劑量計(jì)位 置孔，十字形的另一臂有劑量計(jì)位置孔；滑動(dòng)支架通過(guò)套軌環(huán)與支架桿連接，并由定位螺釘 固定。上述方案中，所述滑動(dòng)支架由套軌環(huán)和電子線支架組成，其中，電子線支架由支桿 和盤(pán)形架構(gòu)成，支桿的一端與套軌環(huán)連接，另一端與盤(pán)形架連接，盤(pán)形架的側(cè)面有劑量計(jì)位 置孔；滑動(dòng)支架通過(guò)套軌環(huán)與支架桿連接，并由定位螺釘固定。上述方案中，所述盤(pán)形底座為圓形盤(pán)、方形盤(pán)、三角形盤(pán)、多邊形盤(pán)、波浪形盤(pán)或花 瓣形盤(pán)。上述方案中，所述支架桿上帶有數(shù)字刻度標(biāo)識(shí)。上述方案中，所述元件支撐桿為T(mén)、r、Y或W形，其底端與套軌環(huán)連接，其余臂上 有劑量計(jì)位置孔。
3[0010]本實(shí)用新型的熱釋光劑量計(jì)(TLD)劑量比對(duì)照射支架的使用過(guò)程為將底座放入30cmX30cmX30cm標(biāo)準(zhǔn)測(cè)量水箱或30cm X 30cm X 20cm測(cè)量水箱，連 接并固定安置有TLD的滑動(dòng)支架，調(diào)節(jié)水平調(diào)整螺釘使支架保持水平，小心往水箱注入潔 凈水，根據(jù)不同檢測(cè)目的，在帶有刻度的支架桿上移動(dòng)調(diào)整套軌環(huán)，使滑動(dòng)支架上TLD元件 距水面的高度符合要求后，便可在不同參考條件或非參考條件下進(jìn)行射束照射，照射結(jié)束 后，取下TLD元件測(cè)量，即可獲取比對(duì)數(shù)據(jù)。本實(shí)用新型具有如下特點(diǎn)(1)集成度高，安裝調(diào)節(jié)使用方便。本實(shí)用新型的TLD劑量比對(duì)照射支架僅由底座和滑動(dòng)支架兩大件組成，包括電子 線支架總共3件附件(IAEA/WHO推薦的為8件)，一般情況時(shí)僅用兩件。底座上附有三個(gè)水 平調(diào)節(jié)螺釘，可方便調(diào)節(jié)元件支撐桿的水平狀態(tài)。底座和滑動(dòng)支架采用滑套連接，支架桿上 有數(shù)字刻度標(biāo)識(shí)，可極為方便的調(diào)節(jié)元件與水面的高度，適應(yīng)不同測(cè)量的需求。(2)功能多。本實(shí)用新型的TLD劑量比對(duì)照射支架使用功能較多，可以測(cè)量幾乎全部劑量比對(duì) 參數(shù)，如參考條件下，給定參考照射野，指定水下參考點(diǎn)深度的劑量學(xué)參數(shù)；非參考條件 下，光子束和電子束軸向最大劑量點(diǎn)，劑量隨照射野、深度、離軸距離、楔形板角度等變化的 臨床劑量學(xué)參數(shù)。也可以用于機(jī)器日常規(guī)QA/AC劑量監(jiān)測(cè)使用。(3)適用面廣。本實(shí)用新型的TLD劑量比對(duì)照射支架既適合參考條件下測(cè)量又適合在非參考條 件下測(cè)量。參考條件下，光子束(鈷-60伽瑪射線和各種高中低X線)，在指定水下參考 點(diǎn)深度(如最大劑量點(diǎn)，5cm，10cm，20cm)，給定參考照射野(如:5cmX 5cm，lOcmX 10cm， 20cmX20cm)條件下參考點(diǎn)處的劑量學(xué)參數(shù)。非參考條件下，光子束和電子束軸向最大劑量 點(diǎn)，劑量隨照射野、深度、離軸距離、楔形板角度等變化的臨床劑量學(xué)參數(shù)。(4)便于在基層單位推廣使用。本實(shí)用新型的TLD劑量比對(duì)照射支架由于具有上述特點(diǎn)，非常適合在中國(guó)廣大基 層放射治療單位推廣應(yīng)用，特別是在一個(gè)中心省市的放療質(zhì)控中心采用TLD方法去對(duì)數(shù)個(gè) 或數(shù)十個(gè)下屬單位放療QA/QC的劑量監(jiān)控和指導(dǎo)，對(duì)提高當(dāng)?shù)胤派渲委熕綍?huì)起到積極的 質(zhì)量保證作用。因此，本實(shí)用新型的TLD劑量比對(duì)照射支架克服了現(xiàn)有支架安裝、定位、使用不方 便的缺陷，集成度高，安裝調(diào)節(jié)使用方便，適用面廣。

圖1是本實(shí)用新型底座的結(jié)構(gòu)示意圖。圖2是本實(shí)用新型實(shí)施例一的滑動(dòng)支架結(jié)構(gòu)示意圖。圖3是本實(shí)用新型實(shí)施例二的滑動(dòng)支架結(jié)構(gòu)示意圖。圖4是本實(shí)用新型實(shí)施例一的組裝示意圖。圖5是本實(shí)用新型實(shí)施例二的組裝示意圖。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖及實(shí)施例進(jìn)一步詳述本實(shí)用新型，但本實(shí)用新型不僅限于所述實(shí)施例。附圖中，各數(shù)字的含義為1 底座；2 水平調(diào)節(jié)螺釘；3 水平座標(biāo)尺；4 支架桿； 5 套軌環(huán)；6 定位螺釘；7 劑量計(jì)位置孔；8 劑量計(jì)位置孔；9 電子線支架；10 劑量計(jì)位 置孔；11 元件支撐桿。實(shí)施例一本例的熱釋光劑量計(jì)劑量比對(duì)照射支架如圖一、圖二和圖四所示，由底座1和滑 動(dòng)支架組成，其特征在于圓形盤(pán)底座1上安裝有水平調(diào)節(jié)螺釘2，水平座標(biāo)尺3和支架桿4 ； 滑動(dòng)支架由套軌環(huán)5和元件支撐桿11組成，其中，元件支撐桿11為十字形，十字形一臂的 一端與套軌環(huán)5連接，另一端有劑量計(jì)位置孔7，十字形的另一臂有劑量計(jì)位置孔8 ；滑動(dòng)支 架通過(guò)套軌環(huán)5與支架桿4連接，并由定位螺釘6固定。實(shí)施例二本例的熱釋光劑量計(jì)劑量比對(duì)照射支架如圖五所示，由底座1和滑動(dòng)支架組成， 底座1同實(shí)施例一?；瑒?dòng)支架如圖三所示，由套軌環(huán)5和電子線支架9組成，其中，電子線 支架9由支桿和盤(pán)形架構(gòu)成，支桿的一端與套軌環(huán)5連接，另一端與盤(pán)形架連接，盤(pán)形架的 側(cè)面有劑量計(jì)位置孔10 ；滑動(dòng)支架通過(guò)套軌環(huán)5與支架桿4連接，并由定位螺釘6固定。實(shí)施例三本例的熱釋光劑量計(jì)劑量比對(duì)照射支架由底座1和滑動(dòng)支架組成，底座1為波浪 形盤(pán)，支架桿4上帶有數(shù)字刻度標(biāo)識(shí)，其它同實(shí)施例一。滑動(dòng)支架同實(shí)施例二。實(shí)施例四本例的熱釋光劑量計(jì)劑量比對(duì)照射支架由底座1和兩個(gè)滑動(dòng)支架組成，底座1為 等邊三角形盤(pán)，支架桿4上帶有數(shù)字刻度標(biāo)識(shí)，其它同實(shí)施例一。一個(gè)滑動(dòng)支架同實(shí)施例 一，另一個(gè)滑動(dòng)支架同實(shí)施例二。實(shí)施例五本例的熱釋光劑量計(jì)劑量比對(duì)照射支架除底座1為正方形盤(pán)，支架桿上帶有數(shù)字 刻度標(biāo)識(shí)，元件支撐桿為T(mén)形，其底端與套軌環(huán)連接，橫臂上有劑量計(jì)位置孔外，其余同實(shí) 施例一。實(shí)施例六本例的熱釋光劑量計(jì)劑量比對(duì)照射支架除元件支撐桿為r形，其底端與套軌環(huán) 連接，橫臂上有劑量計(jì)位置孔外，其余同實(shí)施例五。實(shí)施例七本例的熱釋光劑量計(jì)劑量比對(duì)照射支架除元件支撐桿為Y形，其底端與套軌環(huán)連 接，另外兩臂上有劑量計(jì)位置孔外，其余同實(shí)施例五。實(shí)施例八本例的熱釋光劑量計(jì)劑量比對(duì)照射支架除元件支撐桿為▽形，其底端與套軌環(huán) 連接，另外三臂上有劑量計(jì)位置孔外，其余同實(shí)施例五。
權(quán)利要求一種熱釋光劑量計(jì)劑量比對(duì)照射支架，由底座(1)和滑動(dòng)支架組成，其特征在于盤(pán)形底座(1)上安裝有水平調(diào)節(jié)螺釘(2)，水平座標(biāo)尺(3)和支架桿(4)；滑動(dòng)支架由套軌環(huán)(5)和元件支撐桿(11)組成，其中，元件支撐桿(11)為十字形，十字形一臂的一端與套軌環(huán)(5)連接，另一端有劑量計(jì)位置孔(7)，十字形的另一臂有劑量計(jì)位置孔(8)；滑動(dòng)支架通過(guò)套軌環(huán)(5)與支架桿(4)連接，并由定位螺釘(6)固定。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的熱釋光劑量計(jì)劑量比對(duì)照射支架，其特征在于所述滑動(dòng)支架 由套軌環(huán)(5)和電子線支架(9)組成，其中，電子線支架(9)由支桿和盤(pán)形架構(gòu)成，支桿的 一端與套軌環(huán)(5)連接，另一端與盤(pán)形架連接，盤(pán)形架的側(cè)面有劑量計(jì)位置孔(10)；滑動(dòng)支 架通過(guò)套軌環(huán)(5)與支架桿(4)連接，并由定位螺釘(6)固定。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的熱釋光劑量計(jì)劑量比對(duì)照射支架，其特征在于所述盤(pán)形底座 (1)為圓形盤(pán)、方形盤(pán)、三角形盤(pán)、多邊形盤(pán)、波浪形盤(pán)或花瓣形盤(pán)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的熱釋光劑量計(jì)劑量比對(duì)照射支架，其特征在于所述支架桿 (4)上帶有數(shù)字刻度標(biāo)識(shí)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的熱釋光劑量計(jì)劑量比對(duì)照射支架，其特征在于所述元件支撐 桿(11)為τ、Γ、γ或Ψ形，其底端與套軌環(huán)(5)連接，其余臂上有劑量計(jì)位置孔。
專利摘要本實(shí)用新型是放射治療輻射劑量質(zhì)量控制和質(zhì)量保證輔助設(shè)備領(lǐng)域中的熱釋光劑量計(jì)劑量比對(duì)照射支架，由底座和滑動(dòng)支架組成，其特征在于盤(pán)形底座上安裝有水平調(diào)節(jié)螺釘，水平座標(biāo)尺和支架桿；滑動(dòng)支架由套軌環(huán)和元件支撐桿組成，其中，元件支撐桿為十字形，十字形一臂的一端與套軌環(huán)連接，另一端有劑量計(jì)位置孔，十字形的另一臂有劑量計(jì)位置孔；滑動(dòng)支架通過(guò)套軌環(huán)與支架桿連接，并由定位螺釘固定。本實(shí)用新型的熱釋光劑量計(jì)劑量比對(duì)照射支架克服了現(xiàn)有支架安裝、定位、使用不方便的缺陷，集成度高，安裝調(diào)節(jié)使用方便，適用面廣。
文檔編號(hào)A61N5/00GK201609551SQ200920176540
公開(kāi)日2010年10月20日 申請(qǐng)日期2009年9月3日 優(yōu)先權(quán)日2009年9月3日
發(fā)明者萬(wàn)斌, 吳大可, 李建, 王培 , 祁國(guó)海, 郎錦義, 鐘海洛 申請(qǐng)人:四川省腫瘤醫(yī)院