專利名稱:X 光機(jī)及其控制方法和裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本發(fā)明涉及X光領(lǐng)域,具體而言,涉及一種X光機(jī)及其控制方法和裝置。
背景技術(shù):
目前,由于做手術(shù)透視或拍片的需要,醫(yī)生對(duì)X光機(jī)提出了更高的需要,不僅需要X光機(jī)在更短的時(shí)間內(nèi)成像,而且還需要最佳的圖像質(zhì)量。這樣不僅讓醫(yī)生在最短的時(shí)間得到最佳的圖像,而且也會(huì)減少X光對(duì)醫(yī)生和病人的輻射。如何控制X光機(jī)在盡量短的時(shí)間內(nèi)輸出最合適劑量的X射線成為亟待解決的問(wèn)題。針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)中難以控制X光機(jī)在盡量短的時(shí)間內(nèi)輸出最合適劑量的X射線的問(wèn)題,目前尚未提出有效的解決方案。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的主要目的在于提供一種X光機(jī)及其控制方法和裝置,以解決現(xiàn)有技術(shù)中難以控制X光機(jī)在盡量短的時(shí)間內(nèi)輸出最合適劑量的X射線的問(wèn)題。為了實(shí)現(xiàn)上述目的,根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方面,提供了一種X光機(jī)的控制方法,包括:步驟Sll:控制X光機(jī)輸出預(yù)設(shè)劑量的X射線;步驟S12:檢測(cè)目標(biāo)圖像的質(zhì)量值,其中,目標(biāo)圖像為在X光機(jī)照射下的成像;步驟S13:比較檢測(cè)質(zhì)量值與第一預(yù)設(shè)值和第二預(yù)設(shè)值的大小,其中,檢測(cè)質(zhì)量值為檢測(cè)到的目標(biāo)圖像的質(zhì)量值;步驟S14:在比較出檢測(cè)質(zhì)量值大于或等于第一預(yù)設(shè)值,并且小于或等于第二預(yù)設(shè)值的情況下,控制X光機(jī)停止輸出X射線;步驟S15:在比較出檢測(cè)質(zhì)量值小于第一預(yù)設(shè)值的情況下,增大預(yù)設(shè)劑量,并返回步驟Sll;以及步驟S16:在比較出檢測(cè)質(zhì)量值大于第二預(yù)設(shè)值的情況下,減小預(yù)設(shè)劑量,并返回步驟SI I。
進(jìn)一步地,檢測(cè)目標(biāo)圖像的質(zhì)量值包括:檢測(cè)目標(biāo)圖像的亮度值;以及將亮度值轉(zhuǎn)換為電壓值,得到檢測(cè)質(zhì)量值。進(jìn)一步地,X光機(jī)中存儲(chǔ)有多個(gè)斷點(diǎn)及與多個(gè)斷點(diǎn)相對(duì)應(yīng)的劑量,其中,多個(gè)斷點(diǎn)中第η斷點(diǎn)對(duì)應(yīng)的劑量小于多個(gè)斷點(diǎn)中第η+1斷點(diǎn)對(duì)應(yīng)的劑量,η為正整數(shù),控制X光機(jī)輸出預(yù)設(shè)劑量的X射線包括:控制X光機(jī)輸出與預(yù)設(shè)斷點(diǎn)相對(duì)應(yīng)劑量的X射線,其中,預(yù)設(shè)斷點(diǎn)相對(duì)應(yīng)的劑量為預(yù)設(shè)劑量,增大預(yù)設(shè)劑量包括:將預(yù)設(shè)斷點(diǎn)的斷點(diǎn)值加1,減小預(yù)設(shè)劑量包括:將預(yù)設(shè)斷點(diǎn)的斷點(diǎn)值減I。進(jìn)一步地,在比較出檢測(cè)質(zhì)量值大于或等于第一預(yù)設(shè)值,并且小于或等于第二預(yù)設(shè)值的情況下,控制X光機(jī)停止輸出X射線包括:比較檢測(cè)質(zhì)量值與第三預(yù)設(shè)值和第四預(yù)設(shè)值的大小,其中,第三預(yù)設(shè)值大于第一預(yù)設(shè)值,并且小于第四預(yù)設(shè)值,第四預(yù)設(shè)值小于第二預(yù)設(shè)值;在比較出檢測(cè)質(zhì)量值大于或等于第三預(yù)設(shè)值,并且小于或等于第四預(yù)設(shè)值的情況下,控制X光機(jī)停止輸出X射線;以及在比較出檢測(cè)質(zhì)量值小于第三預(yù)設(shè)值的情況下,或在比較出檢測(cè)質(zhì)量值大于第四預(yù)設(shè)值的情況下,調(diào)節(jié)預(yù)設(shè)劑量,并控制X光機(jī)輸出調(diào)節(jié)后的預(yù)設(shè)劑量的X射線,以及然后控制X光機(jī)停止輸出X肘線。
進(jìn)一步地,調(diào)節(jié)預(yù)設(shè)劑量包括:按照以下公式計(jì)算預(yù)設(shè)劑量的調(diào)節(jié)量:
權(quán)利要求
1.一種X光機(jī)的控制方法,其特征在于,包括: 步驟Sll:控制所述X光機(jī)輸出預(yù)設(shè)劑量的X射線; 步驟S12:檢測(cè)目標(biāo)圖像的質(zhì)量值,其中,所述目標(biāo)圖像為在所述X光機(jī)照射下的成像;步驟S13:比較檢測(cè)質(zhì)量值與第一預(yù)設(shè)值和第二預(yù)設(shè)值的大小,其中,所述檢測(cè)質(zhì)量值為檢測(cè)到的所述目標(biāo)圖像的質(zhì)量值; 步驟S14:在比較出所述檢測(cè)質(zhì)量值大于或等于所述第一預(yù)設(shè)值,并且小于或等于所述第二預(yù)設(shè)值的情況下,控制所述X光機(jī)停止輸出所述X射線; 步驟S15:在比較出所述檢測(cè)質(zhì)量值小于所述第一預(yù)設(shè)值的情況下,增大所述預(yù)設(shè)劑量,并返回步驟Sll;以及 步驟S16:在比較出所述檢測(cè)質(zhì)量值大于所述第二預(yù)設(shè)值的情況下,減小所述預(yù)設(shè)劑量,并返回步驟S11。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的控制方法,其特征在于,檢測(cè)目標(biāo)圖像的質(zhì)量值包括 檢測(cè)所述目標(biāo)圖像的亮度值;以及 將所述亮度值轉(zhuǎn)換為電壓值 ,得到所述檢測(cè)質(zhì)量值。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的控制方法,其特征在于,所述X光機(jī)中存儲(chǔ)有多個(gè)斷點(diǎn)及與所述多個(gè)斷點(diǎn)相對(duì)應(yīng)的劑量,其中,所述多個(gè)斷點(diǎn)中第η斷點(diǎn)對(duì)應(yīng)的劑量小于所述多個(gè)斷點(diǎn)中第η+1斷點(diǎn)對(duì)應(yīng)的劑量,η為正整數(shù), 控制所述X光機(jī)輸出預(yù)設(shè)劑量的X射線包括:控制所述X光機(jī)輸出與預(yù)設(shè)斷點(diǎn)相對(duì)應(yīng)劑量的X射線,其中,所述預(yù)設(shè)斷點(diǎn)相對(duì)應(yīng)的劑量為所述預(yù)設(shè)劑量, 增大所述預(yù)設(shè)劑量包括:將所述預(yù)設(shè)斷點(diǎn)的斷點(diǎn)值加1, 減小所述預(yù)設(shè)劑量包括:將所述預(yù)設(shè)斷點(diǎn)的斷點(diǎn)值減I。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的控制方法,其特征在于,在比較出所述檢測(cè)質(zhì)量值大于或等于所述第一預(yù)設(shè)值,并且小于或等于所述第二預(yù)設(shè)值的情況下,控制所述X光機(jī)停止輸出所述X射線包括: 比較所述檢測(cè)質(zhì)量值與第三預(yù)設(shè)值和第四預(yù)設(shè)值的大小,其中,所述第三預(yù)設(shè)值大于所述第一預(yù)設(shè)值,并且小于所述第四預(yù)設(shè)值,所述第四預(yù)設(shè)值小于所述第二預(yù)設(shè)值; 在比較出所述檢測(cè)質(zhì)量值大于或等于所述第三預(yù)設(shè)值,并且小于或等于所述第四預(yù)設(shè)值的情況下,控制所述X光機(jī)停止輸出所述X射線;以及 在比較出所述檢測(cè)質(zhì)量值小于所述第三預(yù)設(shè)值的情況下,或在比較出所述檢測(cè)質(zhì)量值大于所述第四預(yù)設(shè)值的情況下,調(diào)節(jié)所述預(yù)設(shè)劑量,并控制所述X光機(jī)輸出調(diào)節(jié)后的所述預(yù)設(shè)劑量的X射線,以及然后控制所述X光機(jī)停止輸出所述X射線。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的控制方法,其特征在于,調(diào)節(jié)所述預(yù)設(shè)劑量包括: 按照以下公式計(jì)算所述預(yù)設(shè)劑量的調(diào)節(jié)量:m, +/W4 mn-----1 Am =----, k 其中,m0為所述檢測(cè)質(zhì)量值,m3為所述第三預(yù)設(shè)值,Hl4為所述第四預(yù)設(shè)值,△!!!為所述調(diào)節(jié)量,k為預(yù)設(shè)參數(shù);以及 計(jì)算所述預(yù)設(shè)劑量與所述調(diào)節(jié)量之和,得到調(diào)節(jié)后的所述預(yù)設(shè)劑量。
6.—種X光機(jī)的控制裝置,其特征在于,包括: 控制單元,用于控制所述X光機(jī)輸出預(yù)設(shè)劑量的X射線; 檢測(cè)單元,用于檢測(cè)目標(biāo)圖像的質(zhì)量值,其中,所述目標(biāo)圖像為在所述X光機(jī)照射下的成像; 比較單元,用于比較檢測(cè)質(zhì)量值與第一預(yù)設(shè)值和第二預(yù)設(shè)值的大小,其中,所述檢測(cè)質(zhì)量值為檢測(cè)到的所述目標(biāo)圖像的質(zhì)量值; 停止單元,用于在比較出所述檢測(cè)質(zhì)量值大于或等于所述第一預(yù)設(shè)值,并月小于或等于所述第二預(yù)設(shè)值的情況下,控制所述X光機(jī)停止輸出所述X射線; 第一處理單元,用于在比較出所述檢測(cè)質(zhì)量值小于所述第一預(yù)設(shè)值的情況下,增大所述預(yù)設(shè)劑量,以使所述控制單元控制所述X光機(jī)輸出增大后所述預(yù)設(shè)劑量的X射線;以及第二處理單元,用于在比較出所述檢測(cè)質(zhì)量值大于所述第二預(yù)設(shè)值的情況下,減小所述預(yù)設(shè)劑量,以使所述控制單元控制所述X光機(jī)輸出減小后所述預(yù)設(shè)劑量的X射線。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的X光機(jī)的控制裝置,其特征在于,所述檢測(cè)單元包括: 檢測(cè)模塊,用于檢測(cè)所述目標(biāo)圖像的亮度值;以及 轉(zhuǎn)換模塊,用于將所述亮度值轉(zhuǎn)換為電壓值,得到所述檢測(cè)質(zhì)量值。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的X光機(jī)的控制裝置,其特征在于,所述停止單元包括: 比較模塊,用于比較所述檢測(cè)質(zhì)量值與第三預(yù)設(shè)值和第四預(yù)設(shè)值的大小,其中,所述第三預(yù)設(shè)值大于所述第一預(yù)設(shè)值,并且小于所述第四預(yù)設(shè)值,所述第四預(yù)設(shè)值小于所述第二預(yù)設(shè)值; 第一停止模塊,用于在比較出所述檢測(cè)質(zhì)量值大于或等于所述第三預(yù)設(shè)值,并且小于或等于所述第四預(yù)設(shè)值的情況下,控制所述X光機(jī)停止輸出所述X射線;以及 第二停止模塊,用于在比較出所述檢測(cè)質(zhì)量值小于所述第三預(yù)設(shè)值的情況下,或在比較出所述檢測(cè)質(zhì)量值大于所述第四預(yù)設(shè)值的情況下,調(diào)節(jié)所述預(yù)設(shè)劑量,并控制所述X光機(jī)輸出調(diào)節(jié)后的所述預(yù)設(shè)劑量的X射線,以及然后控制所述X光機(jī)停止輸出所述X射線。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的X光機(jī)的控制裝置,其特征在于,所述第二停止模塊包括: 第一計(jì)算子模塊,用于按照以下公式計(jì)算所述預(yù)設(shè)劑量的調(diào)節(jié)量
10.一種X光機(jī),其特征在于,包括權(quán)利要求6至9中任一項(xiàng)所述的X光機(jī)的控制裝置。
全文摘要
本發(fā)明公開(kāi)了一種X光機(jī)及其控制方法和裝置。其中,X光機(jī)的控制方法包括:控制X光機(jī)輸出預(yù)設(shè)劑量的X射線;檢測(cè)目標(biāo)圖像的質(zhì)量值;比較檢測(cè)質(zhì)量值與第一預(yù)設(shè)值和第二預(yù)設(shè)值的大小;在比較出檢測(cè)質(zhì)量值大于或等于第一預(yù)設(shè)值,并且小于或等于第二預(yù)設(shè)值的情況下,控制X光機(jī)停止輸出X射線;在比較出檢測(cè)質(zhì)量值小于第一預(yù)設(shè)值的情況下,增大預(yù)設(shè)劑量,并重新控制X光機(jī)輸出增大后的預(yù)設(shè)劑量的X射線;以及在比較出檢測(cè)質(zhì)量值大于第二預(yù)設(shè)值的情況下,減小預(yù)設(shè)劑量,并重新控制X光機(jī)輸出減小后的預(yù)設(shè)劑量的X射線。通過(guò)本發(fā)明,解決了現(xiàn)有技術(shù)中的問(wèn)題,達(dá)到了控制X光機(jī)按照實(shí)際需要輸出合適劑量的X射線、減少X光對(duì)醫(yī)生和病人的輻射。
文檔編號(hào)A61B6/00GK103211607SQ20131015670
公開(kāi)日2013年7月24日 申請(qǐng)日期2013年4月28日 優(yōu)先權(quán)日2013年4月28日
發(fā)明者鄒鳳, 李揚(yáng) 申請(qǐng)人:北京東方惠爾圖像技術(shù)有限公司