用于確定植體仿體位置的參考構(gòu)件和系統(tǒng)的制作方法
【專利摘要】提供了用于確定植體仿體位置的參考構(gòu)件，其包括具有第一側(cè)面和基本上平行的第二側(cè)面的梯形體。第一側(cè)面限定第一尺寸，第二側(cè)面限定出比第一尺寸大的第二尺寸。還提供了用于確定植體仿體位置的系統(tǒng)。
【專利說明】用于確定植體仿體位置的參考構(gòu)件和系統(tǒng)
[0001]優(yōu)先權(quán)聲明
[0002]本實用新型基于35U.S.C.§ 119(e)要求下述的優(yōu)先權(quán)利，美國臨時專利申請?zhí)?1 / 718，462，發(fā)明人Geier，發(fā)明名稱“用于確定植體或仿體位置的配合支撐架和參考體”，申請日2012年10月25日，美國臨時專利申請?zhí)?1 / 747，620，發(fā)明人Geier，發(fā)明名稱“用于確定植體或仿體位置的配合支撐架和參考體”，申請日2012年12月31日，以及美國臨時專利申請?zhí)?1 / 800，899，發(fā)明人Geier，發(fā)明名稱“用于確定植體仿體位置的參考構(gòu)件”，申請日2013年3月15日，通過參考其全文而將其每個的內(nèi)容結(jié)合與此。
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0003]本專利文件一般涉及用于在三維(3-D)空間中確定植體仿體位置的裝置。
【背景技術(shù)】
[0004]確定植體仿體的位置是困難的?？蓪⒅搀w仿體嵌入工作模型中。目前，可將參考構(gòu)件旋擰至植體仿體，并且可通過多個掃描器確定植體仿體的對準(zhǔn)和位置。參考構(gòu)件是帶有扁平段的圓柱形的或錐形的柱體，所述扁平段可用于構(gòu)件體的幾何定向。參考構(gòu)件可與許多植體仿體系統(tǒng)中的每個相匹配。因此，需要高度的使用技巧和專注度來將參考構(gòu)件匹配到每個植體仿體系統(tǒng)。為了在數(shù)據(jù)處理過程中降低可能存在的誤差，可以在選擇對應(yīng)的幾何形狀時手動地記錄或者完成參考構(gòu)件的對準(zhǔn)或位置。
[0005]參考構(gòu)件的尺寸受到鄰近的牙齒的制約，使得柱體不能比大約5毫米(mm)更厚。參考構(gòu)件的測量可以 是接觸式的以及視覺式的嘗試。接觸式測量可包括測量柱體的蓋表面，其由圓形和平面限定。圓形的中心和描述平面位置的矢量可以表示參考構(gòu)件的方向。由于所測柱體的高度已知，可以表述出植體仿體的位置和方向。參考構(gòu)件的視覺式測量可被掃描，并且軟件能壓縮數(shù)據(jù)。同樣使用該技術(shù)，可以獲得蓋表面的中心。
[0006]確定植體仿體位置的另一種方法是最優(yōu)擬合函數(shù)。在該技術(shù)中，可相對于其它物體對參考構(gòu)件掃描或三角化處理。
實用新型內(nèi)容
[0007]本實用新型所要解決的技術(shù)問題是提供用于確定植體仿體位置的參考構(gòu)件和系統(tǒng)。
[0008]為更好的圖示這里公開的參考構(gòu)件以及相關(guān)的方法，此處提供了一系列非限制性的實施例:
[0009]實施例1中，用于確定植體仿體位置的參考構(gòu)件，其包括具有第側(cè)一面和基本上平行的第側(cè)二面的梯形體，第一側(cè)面限定第一尺寸，第二側(cè)面限定比第一尺寸大的第二尺寸；置于梯形體根端上的根面層，其包括根孔；以及置于梯形體冠狀端上的冠面層，其至少包括第一參考碼和第二參考碼。
[0010]實施例2中，實施例1的參考構(gòu)件可選地配置為使得根面層和冠面層與梯形體形成一體。
[0011]實施例3中，實施例1-2的參考構(gòu)件的任一或任意組合可選地配置為使得根面層和冠面層形成為與梯形體相聯(lián)接的分開的部件。
[0012]實施例4中，實施例1-3的參考構(gòu)件的任一或任意組合可選地配置為使得第一參考碼與第二參考碼不同。
[0013]實施例5中，實施例1-4的參考構(gòu)件的任一或任意組合可選地配置為使得第一參考碼位于第一側(cè)面和冠面層中心之間。
[0014]實施例6中，實施例1-5的參考構(gòu)件的任一或任意組合可選地配置為使得第二參考碼位于第二側(cè)面和冠面層中心之間。
[0015]實施例7中，實施例1-6的參考構(gòu)件的任一或任意組合可選地配置為使得第一和第二參考碼的至少一個是12位編碼，32位編碼以及64位編碼之一。
[0016]實施例8中，實施例1-7的參考構(gòu)件的任一或任意組合可選地配置為使得第一參考碼和第二參考碼被配置為在掃描時提供參考構(gòu)件的定向。
[0017]實施例9中，實施例1-8的參考構(gòu)件的任一或任意組合可選地配置為使得第一和第二參考碼被配置為在掃描參考碼時識別預(yù)定的植體仿體。
[0018]實施例10中，實施例1-9的參考構(gòu)件的任一或任意組合可選地配置為使得第一和第二參考碼被配置為在掃描參考碼時識別預(yù)定的植體仿體的位置。
[0019]實施例11中，實施例1-10的參考構(gòu)件的任一或任意組合可選地配置為使得柱從梯形體根面層延伸，該柱包括與根孔相連通的鉆孔。
[0020]實施例12中，實施例1-11的參考構(gòu)件的任一或任意組合可選地配置為使得該柱被配置為與植體仿體搭扣配合或壓配合。
[0021]實施例13中，實施例1-12的參考構(gòu)件的任一或任意組合可選地配置為使得可穿過在參考構(gòu)件的冠面層上形成的冠孔夠到植體仿體。
[0022]實施例13中，實施例1-12的參考構(gòu)件的任一或任意組合可選地配置為使得參考構(gòu)件是口外型的。
[0023]實施例14中，實施例1-13的參考構(gòu)件的任一或任意組合可選地配置為使得可穿過在參考構(gòu)件的冠面層上形成的冠孔夠到植體仿體。
[0024]實施例15中，用于確定植體仿體位置的方法，其包括:提供或獲取參考構(gòu)件，該參考構(gòu)件包括具有第一側(cè)面和基本上平行的第二側(cè)面的梯形體，第一側(cè)面限定第一側(cè)寬度，第二側(cè)面限定比第一側(cè)寬度大的第二側(cè)寬度，置于梯形體根端上的根面層，該根面層包括根孔，從梯形體根面層延伸的柱，該柱包括與根孔相連通的鉆孔，以及置于梯形體冠狀端上的冠面層，該冠面層至少包括第一參考碼和第二參考碼，第一和第二參考碼與預(yù)定的植體相關(guān)聯(lián)，將參考構(gòu)件與植體仿體相聯(lián)接，其包括將植體仿體容納在鉆孔中，以及使用掃描器至少對參考構(gòu)件進(jìn)行掃描。
[0025]實施例16中，實施例15的方法可選地配置為從多個掃描的圖像產(chǎn)生參考構(gòu)件或預(yù)定的植體的虛擬幾何形狀。
[0026]實施例17中，實施例15或16的方法的任一或任意組合可選地配置為使得產(chǎn)生虛擬幾何形狀包括互相重疊多個掃描的圖像的至少一部分。
[0027]實施例18中，實施例15-17的方法的任一或任意組合可選地配置為使得基于第一參考碼的定向和第二參考碼的定向而進(jìn)行重疊。
[0028]實施例19中，實施例15-18的方法的任一或任意組合可選地配置為使得掃描參考構(gòu)件包括識別預(yù)定的植體。
[0029]實施例20中，實施例15-19的方法的任一或任意組合可選地配置為將參考構(gòu)件所產(chǎn)生的虛擬幾何形狀與已存儲的幾何進(jìn)行比較，其中，參考構(gòu)件具體為植體仿體。
[0030]實施例21中，實施例15-20的方法的任一或任意組合可選地配置為定位虛擬基牙以適配在由所產(chǎn)生的虛擬幾何形狀所限定的邊界內(nèi)。
[0031]實施例22中，用于確定預(yù)定的植體仿體位置的系統(tǒng)，其配置為種植在牙腔中，以及參考構(gòu)件，其包括:具有第一側(cè)面和基本上平行的第二側(cè)面的梯形體，第一側(cè)面限定第一側(cè)寬度，第二側(cè)面限定比第一側(cè)寬度大的第二側(cè)寬度，置于梯形體根端上的根面層，該根面層包括根孔，從梯形體根面層延伸的柱，該柱包括與根孔相連通并且配置為容納預(yù)定的植體仿體的鉆孔，以及置于梯形體冠狀端上的冠面層，該冠面層至少包括第一參考碼和第二參考碼，第一和第二參考碼配置為提供預(yù)定的植體仿體的位置。
[0032]實施例23中，實施例1-22的參考構(gòu)件，方法或系統(tǒng)的任一或任意組合可選地配置為使得列舉的所有元件或選項都能夠使用或從其中選出。
[0033]通過對上述各實施例的描述，本實用新型的技術(shù)效果在于:所提供的參考構(gòu)件可以是預(yù)定的幾何形狀，從而能與各種牙科的植體仿體一起使用；該參考構(gòu)件可配置為最優(yōu)化在工作模型中可用的空間量；可通過參考構(gòu)件上的一個或多個參考碼來確定參考構(gòu)件在工作模型中的定向，從而能夠大幅減少用戶的失誤。
[0034]該實用新型內(nèi)容旨在提供本實用新型主題的非限制性實施例——其不是為了提出排他的或窮舉的說明。下文的【具體實施方式】將提供關(guān)于本實用新型的配合支撐架，參考構(gòu)件以及方法的更多的信息。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0035]在不需要按比例繪制的圖中，同樣的附圖標(biāo)記可被用于描述多個圖中的類似的部分。附圖通常以實施例的方式而不是限制性的方式來圖示本文所討論的各種實施例。
[0036]圖1A是根據(jù)至少一個實施例的參考構(gòu)件的透視圖；
[0037]圖1B是根據(jù)至少一個實施例的參考構(gòu)件的頂視圖；
[0038]圖2是根據(jù)至少一個實施例的參考構(gòu)件的截面圖；
[0039]圖3是根據(jù)至少一個實施例的與工作模型相結(jié)合的植體仿體的透視圖；以及
[0040]圖4是圖示用于確定植體仿體或類似物位置的示例方法的流程圖。
【具體實施方式】
[0041]本實用新型描述了用于確定在病人口中或腔內(nèi)的植體仿體位置的參考體，例如口外型的參考體(例如配合支撐架)。這里描述的參考體可以是預(yù)定的幾何形狀，以使參考體能與各種牙科的植體仿體一起使用。這里描述的參考體可配置為最優(yōu)化在工作模型中可用的空間量。而且，參考體在工作模型中的定向可通過參考體上的一個或多個參考碼所確定，以使得能夠大幅減少用戶的失誤。進(jìn)一步地，一個或多個參考碼可表征植體仿體的特定樣式或類型，或者與植體仿體的特定樣式或類型相關(guān)聯(lián)。雖然以下的介紹集中在單個的牙腔，所描述的實施例同樣也可用于多個牙腔。
[0042]圖1A是根據(jù)本實用新型至少一個實施例的參考構(gòu)件16的透視圖。參考構(gòu)件16的一個或多個組件可由生物相容性材料制成，例如在活體組織中不會產(chǎn)生有毒，有害或免疫反應(yīng)的材料。生物相容性材料可包括但不限于陶瓷，合成聚合物材料，以及金屬材料例如鈦，鈦合金，鈷鉻，鈷鉻鑰，鉭或鉭合金。在各種實施例中，參考構(gòu)件16可被重復(fù)使用，例如消毒后。在實施例中，參考構(gòu)件16由聚合物，例如聚醚醚酮(PEEK)制成。
[0043]如圖1A所示，參考構(gòu)件16可包括梯形體17，其包括第一側(cè)面2，基本上平行的第二側(cè)面4，以及冠面層6。梯形體17可配置為最優(yōu)化工作模型中腔的空間。腔的空間通常受到鄰近牙齒和腔形狀的制約。典型的參考構(gòu)件一般是圓柱形或錐形圓柱形的，其具有用于定向參考構(gòu)件的扁平段。然而，構(gòu)造這樣的圓柱形參考構(gòu)件沒有考慮到鄰近的牙齒，其通常將參考體的直徑限制為5毫米或更小，使得扁平段的表面積小于約19.5mm2。參考構(gòu)件16的梯形體17能考慮到由鄰近牙齒帶來的空間限制。在實施例中，由于是梯形的形狀，參考構(gòu)件16的冠面層6可具有大于約25_2的表面積。更大表面積的冠面層6可允許在植體仿體上確定參考構(gòu)件16位置或定向的提高的精確度，例如如下所述為參考碼提供增大的面積。而且，與之前的方法相比，更大形狀的參考構(gòu)件16可增加例如通過用戶對參考構(gòu)件16或植體仿體的光學(xué)定位的精確度。
[0044]冠面層6可與梯形體17 —體成形，或者形成為與梯形體17聯(lián)接的分開的組件。如圖1A所示，冠面層6可包括一個或多個參考碼，例如第一參考碼10和第二參考碼12。在實施例中，第一參考碼10與梯形體17的第一側(cè)面2相關(guān)聯(lián)，第二參考碼12與梯形體17的第二側(cè)面4相關(guān)聯(lián)。第一參考碼10可位于冠面層6的中心C和第一側(cè)面2之間的冠面層6上。第二參考碼12位于冠面層6的中心C和第二側(cè)面4之間的冠面層6上。
[0045]第一和第二參考碼10，12是不同的編碼，使得每個參考碼可以如本文所述是在光學(xué)上或由掃描設(shè)備而唯一可識別的。第一和第二參考碼10，12可允許用戶通過使用能對參考構(gòu)件16的冠面層6上的參考碼10，12掃描的口內(nèi)設(shè)備而例如光測量地留下植體仿體或基牙的印象或計算機化的形象。這些參考碼10，12可提供確定參考構(gòu)件16或植體仿體方向的信息。參考碼10，12可包括任意類型的可掃描的或視覺上可分辨的物體或標(biāo)記，例如圖1A所示出的那些，其包括但不限于條形碼或快速閱讀碼。例如，如第一和第二參考碼的參考碼可包括含有任意幾何形狀的可掃描形狀的圖案或預(yù)定順序?？蓲呙璧男螤羁砂ü诿鎸?的對比色或描影的形狀，在紅外線，紫外線或可見光波長中的至少一個或其任意組合中的可掃描的形狀。而且，參考碼10，12可例如通過激光雕刻被刻在冠面層6上。參考碼10，12包括編碼，例如12位，32位或64位編碼，使得通過將參考碼10，12的兩個編碼進(jìn)行組合來描述超過1900個不同的幾何形狀。參考碼10，12在被掃描時能識別植體仿體的類型或樣式。
[0046]參考構(gòu)件16可包括延伸穿過冠面層6的冠孔8。冠孔8可配置為允許工具例如螺絲刀插入到梯形體17中。盡管所示的冠孔8是圓形的，可預(yù)期的是孔8可以是包括但不限于正方形，長方形，星形等的任意幾何形狀。冠孔8位于冠面層6的任何一處，例如在中心C處。
[0047]如圖1A所示，參考構(gòu)件16可包括從梯形體17延伸的柱14。正如之后將詳細(xì)討論的，柱14可配置為與植體仿體搭扣配合或壓配合。[0048]圖1B是根據(jù)本實用新型至少一個實施例的參考構(gòu)件16的頂視圖。如前所述，冠面層6包括朝向第一側(cè)面2和第二側(cè)面4放置的第一和第二參考碼10，12。參考圖1B，第一面2限定了第一尺寸3，第二面4限定了第二尺寸5。第一和第二尺寸3，5可分別代表參考構(gòu)件16的第一和第二側(cè)面2，4的長度。第一尺寸3可小于第二尺寸5，從而限定梯形體17的一部分。在實施例中，第一尺寸3可小于約5mm，第二尺寸5可小于約7mm。在實施例中，第一尺寸大約是3mm，第二尺寸大約是5mm。第三尺寸7例如是從第一側(cè)面2到第二側(cè)面4的長度，其可大于第一和第二尺寸3，5之一或比二者都大。在實施例中，第三尺寸7可大約是5mm到約10mm。冠孔8可限定第四尺寸9，例如冠孔8的直徑。在實施例中，第四尺寸可小于大約3mm。
[0049]圖2是根據(jù)本實用新型至少一個實施例的參考構(gòu)件16的截面圖。如圖2所示，冠孔8可與梯形體17的腔室25相連通。腔室25的周長可由梯形體17的內(nèi)壁23所限定。腔室25可具有梯形形狀，其基本上與梯形體17相似但是比梯形體17更小。然而，梯形體17的內(nèi)壁23可成形且配置為使得腔室25在梯形體17的邊界之中限定出任何所需的形狀。
[0050]在梯形體17的腔室25的根端處，可設(shè)有包括根孔28的根面層26。在各種實施例中，根面層26可與梯形體17 —體成形，或形成為與梯形體17相聯(lián)接的分開的組件。如圖2所示，根孔28可配置為保持延伸穿過根孔28的植體仿體附連構(gòu)件24。例如，所述植體仿體附連構(gòu)件24可包括頭部27，其直徑大于根孔28的直徑，使得頭部27將植體仿體附連構(gòu)件24保持在根孔28中。將植體仿體附連構(gòu)件24保持在根孔28中的一個好處包括防止植體仿體附加構(gòu)件24從腔室25分離或掉落。可對植體仿體附連構(gòu)件24調(diào)整尺寸并配置為使得頭部27可放置于腔室25中，身體部分29可延伸穿過根孔28并且至少部分地延伸至柱14的鉆孔22中。在各種實施例中，植體仿體附連構(gòu)件24的身體部分29可超出柱14延伸，或者可完全位于鉆孔22中。
[0051]植體仿體附連構(gòu)件24可包括配置為接合植體仿體的任何緊固件，如文中所述，例如配置為螺紋接合植體仿體的螺釘或螺栓。植體仿體附連構(gòu)件24可配置為例如包括搭扣配合連接或壓配合連接的其它連接類型。植體仿體附連構(gòu)件24與植體仿體間的接合能緊固參考構(gòu)件16，以使得無需更多關(guān)注于對參考構(gòu)件16的定向，所述關(guān)注例如在工作模型的牙腔中對參考構(gòu)件手動的用戶操作。植體仿體附連構(gòu)件24可使用工具例如螺絲刀經(jīng)由冠孔8夠到。
[0052]圖3是根據(jù)本實用新型至少一個實施例的工作模型30和植體仿體32的透視圖。工作模型30可以是病人下頜或上頜的鑄模。工作模型30可由例如石頭，聚合物或其它材料制成。工作模型可包括例如由缺失牙齒形成的一個或多個牙腔38。牙腔38大約鄰近牙齒34。植體仿體32可通過螺接或?qū)⒅搀w仿體32壓入工作模型30來插入牙腔38中。而且，植體仿體可包括放置在牙冠上或遠(yuǎn)離牙齦線的方向上的植體仿體孔36，使得植體仿體附連構(gòu)件24可與植體仿體32接合。植體仿體孔36可包括配置為與植體仿體附連構(gòu)件24螺紋接合的內(nèi)螺紋37，使得可在參考構(gòu)件16的鉆孔22中容納植體仿體32。
[0053]圖4是圖示確定植體仿體位置的示例方法70的流程圖。該方法包括提供或獲得72參考構(gòu)件。參考構(gòu)件例如可包括具有第一側(cè)面以及基本上平行的第二側(cè)面的梯形體，第一側(cè)面限定第一側(cè)面寬度，第二側(cè)面限定比第一側(cè)面寬度大的第二側(cè)面寬度。而且，參考構(gòu)件可包括朝向梯形體根端放置的根面層，其中根端限定根孔。參考構(gòu)件可包括植體仿體附連構(gòu)件，其延伸穿過根孔，以及置于梯形體冠狀端上的冠面層，冠面層包括一個或多個參考碼，例如第一參考碼和第二參考碼。
[0054]方法70可包括將參考構(gòu)件聯(lián)接74到預(yù)定的植體，其包括將植體仿體在鉆孔中接合。對植體仿體進(jìn)行接合可包括將植體仿體附連構(gòu)件與植體仿體孔螺紋接合。
[0055]方法70可進(jìn)一步包括使用掃描器至少對參考構(gòu)件進(jìn)行掃描76。掃描器可以是徒手掃描器，其配置為由用戶進(jìn)行操作(例如，不是常數(shù)，已知零點或參考點)。
[0056]方法70還可包括多個選項。例如，該方法可包括獲取參考構(gòu)件與植體仿體接合的多個掃描的圖像。該掃描的圖像可以是參考構(gòu)件部分或完整的圖像。參考構(gòu)件的虛擬幾何形狀可由多個掃描的圖像產(chǎn)生。產(chǎn)生虛擬幾何形狀可包括將多個掃描的圖像的一部分互相重疊，以形成參考構(gòu)件單一的，統(tǒng)一的虛擬幾何形狀。重疊可基于第一參考碼的定向和第二參考碼的定向，以使得將參考碼對準(zhǔn)來產(chǎn)生參考構(gòu)件統(tǒng)一的圖像。
[0057]參考構(gòu)件的定向可通過兩個參考碼的結(jié)合以及在參考構(gòu)件上對參考碼的布置來描述。因此，根據(jù)多個掃描，可以確定冠面層的空間位置，側(cè)表面的矢量，參考碼的空間定向，或者所述碼內(nèi)容的幾何類型。因此，可減少，最小化或者去除手動的用戶輸入。通過處理軟件的變換矩陣可提供結(jié)果信息，因此與之前的方法相比減少或最小化了誤差率。掃描參考構(gòu)件可包括識別植體仿體的類型或樣式，例如參考碼可識別植體仿體。
[0058]在實施例中，產(chǎn)生的參考構(gòu)件的虛擬幾何形狀可與已存儲的參考構(gòu)件的幾何形狀進(jìn)行比較，其中參考構(gòu)件可具體化為植體仿體。而且，該方法可包括對虛擬基牙的定位以適配在由所產(chǎn)生的虛擬幾何形狀限定的邊界內(nèi)，所述虛擬基牙例如在虛擬3D環(huán)境中的植體基牙。
[0059]綜上所述，本實用新型提供了一種技術(shù)，其中用戶可將參考構(gòu)件旋擰在植體仿體上，使得用戶無需過多關(guān)注于例如對參考構(gòu)件定向的手動操作。參考構(gòu)件的冠面層上的參考碼可提供植體仿體的位置，例如不考慮參考構(gòu)件的定向。盡管可使用具有任何適合形狀的參考構(gòu)件，在各種實施例中，梯形參考構(gòu)件可配置為在牙腔中最優(yōu)化可用空間量。因此，以光學(xué)的方法可提高準(zhǔn)確度。
[0060]上述【具體實施方式】包含了對附圖的參考，附圖形成為【具體實施方式】的一部分。附圖通過圖示的方式示出實用新型可以實施的具體例子。這些例子在本文中同樣指的是“實施例”。這種實施例可包括除了已經(jīng)示出或描述之外的元件。然而，本實用新型同樣提供僅設(shè)有那些已示出或已描述的元件的實施例。此外，本實用新型還或者關(guān)于特定的實施例(或它們的一個或多個方面)，或者關(guān)于本文已示出或已描述的其它的實施例(或它們的一個或多個方面)來提供使用這些已示出或已描述的元件(或它們的一個或多個方面)的任意組合或排列的實施例。
[0061]如果在本文與其它引用作為參考的文獻(xiàn)之間存在不一致的用法，以本文的用法為準(zhǔn)。
[0062]本文中，使用了專利文件中常用的術(shù)語“一”來包括一個或多于一個，以獨立于其它對“至少一個”或“一個或多個”的例子或用法。本文中，除非特別說明，使用術(shù)語“或者”指的是非專有的或者，例如“A或B”包括“是A，不是B”，“是B，不是A”，以及“A和B”。本文中，術(shù)語“包括”和“在其中”等同于通俗英語中各自的術(shù)語“包含”和“其中”。另外，在以下的權(quán)利要求中，術(shù)語“包括”和“包含”是開放式的，也就是系統(tǒng)，裝置，制品，組分，配方或方法除了那些列在權(quán)利要求該術(shù)語后面的之外的元件仍然落入權(quán)利要求的范圍內(nèi)。此外，在以下的權(quán)利要求中，術(shù)語“第一”，“第二”和“第三”等僅用作標(biāo)識，并不意圖于對其客體施加數(shù)值的要求。
[0063]上述【具體實施方式】旨在示意性說明而不是限制。例如，上述實施例(或它們的一個或多個方面)可彼此組合使用。可由例如本領(lǐng)域技術(shù)人員之一基于對上述【具體實施方式】的回顧而使用其它的實施例。另外，在上述【具體實施方式】中，可將各種特征集合在一起以使得本實用新型更合理化。不應(yīng)當(dāng)理解為未要求權(quán)利而公開的技術(shù)特征對任何權(quán)利要求是必不可少的。相反，實用新型的技術(shù)主題可由少于特定公開實施例中全部的特征來展現(xiàn)。因此，以下的權(quán)利要求作為實施例或帶有單獨實施例的每個獨立的權(quán)利要求的實施例而結(jié)合到【具體實施方式】部分，并且可預(yù)期的是在各種組合或排列中可將這些實施例彼此結(jié)合。本實用新型的范圍參照附加的權(quán)利要求連同所授予權(quán)利的該權(quán)利要求等價的全部范圍一起來確定。
[0064]所提供的摘要符合37C.F.R.§ 1.72 (b)，允許讀者快速的獲取本技術(shù)公開的實質(zhì)?？梢砸徊⒗斫獾?是其不作為權(quán)利要求范圍或含義的解釋或限制。
【權(quán)利要求】
1.用于確定植體仿體位置的參考構(gòu)件(16)，其特征在于包括: 具有第一側(cè)面(2)和平行的第二側(cè)面(4)的梯形體(17)，所述第一側(cè)面(2)限定第一尺寸(3)，所述第二側(cè)面(4)限定比所述第一尺寸(3)大的第二尺寸(5)； 根面層(26)，其置于所述梯形體(17)的根端上，包括根孔(28);以及 冠面層出)，其置于所述梯形體(17)的冠狀端上，至少包括第一參考碼(10)和一個第二參考碼(12)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于確定植體仿體位置的參考構(gòu)件(16)，其特征在于:所述根面層(26)和冠面層(6)與所述梯形體(17)形成一體。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于確定植體仿體位置的參考構(gòu)件(16)，其特征在于:所述根面層(26)和冠面層(6)形成為與所述梯形體(17)相聯(lián)接的分開部件。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于確定植體仿體位置的參考構(gòu)件(16)，其特征在于:所述第一參考碼(10)具有不同于所述第二參考碼(12)的編碼。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于確定植體仿體位置的參考構(gòu)件(16)，其特征在于:所述第一參考碼(10)位于所述第一側(cè)面(2)和冠面層(6)的中心(C)之間。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的用 于確定植體仿體位置的參考構(gòu)件(16)，其特征在于:所述第二參考碼(12)位于所述第二側(cè)面(4)和冠面層(6)的中心(C)之間。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于確定植體仿體位置的參考構(gòu)件(16)，其特征在于:所述第一和第二參考碼(10，12)中的至少一個包括12位編碼，32位編碼或者64位編碼。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于確定植體仿體位置的參考構(gòu)件(16)，其特征在于:所述第一參考碼(10)和第二參考碼(12)為在掃描所述參考碼(10，12)時提供所述參考構(gòu)件(16)的定向的編碼。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于確定植體仿體位置的參考構(gòu)件(16)，其特征在于:所述第一和第二參考碼(10，12)為在掃描所述參考碼(10，12)時識別預(yù)定的植體仿體(32)的編碼。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于確定植體仿體位置的參考構(gòu)件(16)，其特征在于:所述第一和第二參考碼(10，12)為在掃描所述參考碼(10，12)時識別預(yù)定的植體仿體(32)的位置的編碼。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于確定植體仿體位置的參考構(gòu)件(16)，其特征在于進(jìn)一步包括柱(14)，所述柱(14)從所述梯形體(17)的根面層(26)延伸，所述柱(14)包括與所述根孔(28)相連通的鉆孔(22)。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的用于確定植體仿體位置的參考構(gòu)件(16)，其特征在于:所述柱(14)與所述植體仿體(32)搭扣配合或壓配合。
13.根據(jù)權(quán)利要求11所述的用于確定植體仿體位置的參考構(gòu)件(16)，其特征在于:所述植體仿體(32)通過在所述參考構(gòu)件(16)的冠面層(6)中形成的冠孔(8)被接近。
14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于確定植體仿體位置的參考構(gòu)件(16)，其特征在于:所述參考構(gòu)件(16)是口外型的。
15.用于確定植體仿體(32)位置的系統(tǒng)，其特征在于包括: 預(yù)定的植體仿體(32)，其種植在牙腔(38)中；以及參考構(gòu)件(16)，其包括: 具有第一側(cè)面(2)和平行的第二側(cè)面(4)的梯形體(17)，所述第一側(cè)面(2)限定第一側(cè)寬度(3)， 所述第二側(cè)面(4)限定比所述第一側(cè)寬度(3)大的第二側(cè)寬度(5)； 置于所述梯形體(17)的根端上的根面層(26)，所述根面層(26)包括根孔(28)；從所述梯形體(17)的根面層(26)延伸的柱(14)，所述柱(14)包括與所述根孔(28)相連通并且容納預(yù)定的植體仿體(32)的鉆孔(22);以及 置于所述梯形體(17)的冠狀端上的冠面層(6)，所述冠面層(6)至少包括第一參考碼(10)和第二參考碼(12)，所述第一和第二參考碼(10，12)為提供預(yù)定的植體仿體的位置指示的編碼。
【文檔編號】A61C8/00GK203693782SQ201320756446
【公開日】2014年7月9日 申請日期:2013年10月25日 優(yōu)先權(quán)日:2012年10月25日
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