斜坡型上頜竇內(nèi)提升器的制造方法
【專利摘要】本實用新型涉及一種斜坡型上頜竇內(nèi)提升器，包括桿體和桿柄，所述桿體和桿柄通過固定裝置連接，桿體頂端的桿頂設置為斜坡型，桿體外壁設置有刻度，所述刻度上部的桿體外壁上依次設置有方位標識安置槽一、方位標識安置槽二、方位標識安置槽三和方位標識安置槽四，刻度下部的桿體外壁上設置有止停環(huán)，本實用新型能夠?qū)ｉT用于斜坡型上頜竇底的內(nèi)提升術(shù)，同時可以按操作需求調(diào)整提升器械的使用方位。
【專利說明】斜坡型上頜竇內(nèi)提升器
【技術(shù)領域】
[0001]本實用新型涉及醫(yī)療器械領域，尤其涉及一種斜坡型上頜竇內(nèi)提升器。
【背景技術(shù)】
[0002]隨著口腔種植技術(shù)得到迅猛發(fā)展，上頜竇內(nèi)提升術(shù)已成為牙列缺損及缺失的一種重要修復手段。許多長期缺牙患者牙槽骨的吸收程度較重，上頜竇底骨薄，為保證種植質(zhì)量，常需要在植入種植體前進行上頜竇內(nèi)提升，現(xiàn)有的提升器形狀多為桿狀，提升器械頂端為凹面，由于不同患者生理解剖條件不同及牙槽骨吸收的方向并不完全一樣，臨床中常有出現(xiàn)需要提升的上頜竇底呈現(xiàn)斜坡型，若使用平底圓凹面的提升器械，易發(fā)生竇底骨板穿孔或無法成功提升。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本實用新型的目的是提供一種斜坡型上頜竇內(nèi)提升器，能夠?qū)ｉT用于斜坡型上頜竇底的內(nèi)提升術(shù)，同時可以按操作需求調(diào)整提升器械的使用方位。
[0004]為實現(xiàn)上述目的，本實用新型所設計的一種斜坡型上頜竇內(nèi)提升器，包括桿體和桿柄，所述桿體和桿柄通過固定裝置連接，桿體頂端的桿頂設置為斜坡型，桿體外壁設置有刻度。
[0005]進一步地，所述刻度上部的桿體外壁上依次設置有方位標識安置槽一、方位標識安置槽二、方位標識安置槽三和方位標識安置槽四。
[0006]更近一步地，所述方位標識安置槽一、方位標識安置槽二、方位標識安置槽三和方位標識安置槽四內(nèi)分別設置有四個方位標識。
[0007]進一步地，所述刻度下部的桿體外壁上設置有止停環(huán)。
[0008]更近一步地，所述止停環(huán)為彈性卡抱環(huán)。
[0009]進一步地，所述桿頂?shù)男逼聝A斜的角度范圍為10度至80度。
[0010]進一步地，所述固定裝置包括桿體底端設置的上螺孔、桿柄頂端設置的中空下螺孔和螺栓。
[0011 ] 更近一步地，所述螺栓可旋入中空下螺孔和上螺孔中間。
[0012]更近一步地，所述桿體底端外側(cè)設置有若干卡座，桿柄頂端內(nèi)側(cè)設置有若干卡槽，所述卡座與卡槽卡合連接。
[0013]進一步地，所述桿柄彎曲設置，所述刻度范圍為7毫米至18毫米，所述桿體、桿柄2和固定裝置為不銹鋼材質(zhì)。
[0014]本實用新型的有益效果是:桿柄頂端的桿頂設置為斜坡型，能夠?qū)ｉT用于斜坡型上頜竇底的內(nèi)提升術(shù)；桿柄彎曲設置，可以滿足后牙區(qū)的提升，符合口腔生理特征；根據(jù)方位標識安置槽一、方位標識安置槽二、方位標識安置槽三和方位標識安置槽四內(nèi)分別設置的四個方位標識，調(diào)節(jié)固定裝置使桿柄處于操作時所需的使用方位，不用頻繁更換桿體，使用方便?！緦＠綀D】

【附圖說明】
[0015]圖1為本實用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0016]圖2為本實用新型的桿柄旋轉(zhuǎn)180度后的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0017]圖3為固定裝置(4)的局部示意圖。
[0018]圖中，I—桿體、2—桿柄、3—桿頂、4一固定裝置、41—螺栓、42—中空下螺孔、43—上螺孔、4a—卡座、4b—卡槽、5—刻度、6—止停環(huán)，71一方位標識安置槽一、72—方位標識安置槽二、73—方位標識安置槽三、74—方位標識安置槽四。
【具體實施方式】
[0019]以下結(jié)合附圖和具體實施例對本實用新型作進一步的詳細描述。
[0020]如圖1至2所示一種斜坡型上頜竇內(nèi)提升器，包括桿體I和桿柄2，所述桿體I和桿柄2通過固定裝置4連接，桿體I頂端的桿頂3設置為斜坡型，桿體I外壁設置有刻度5。
[0021]此外，所述刻度5上部的桿體I外壁上依次設置有方位標識安置槽一 71、方位標識安置槽二 72、方位標識安置槽三73和方位標識安置槽四74。所述方位標識安置槽一 71、方位標識安置槽二 72、方位標識安置槽三73和方位標識安置槽四74內(nèi)分別設置有四個方位標識。
[0022]此外，所述刻度5下部的桿體I外壁上設置有止停環(huán)6。所述止停環(huán)6為彈性卡抱環(huán)。
[0023]所述桿頂3的斜坡傾斜的角度范圍為10度至80度。
[0024]此外，所述固定裝置4包括桿體I底端設置的上螺孔43、桿柄2頂端設置的中空下螺孔42和螺栓41。所述螺栓41可旋入中空下螺孔42和上螺孔43中間。所述桿體I底端外側(cè)設置有若干卡座4a,桿柄2頂端內(nèi)側(cè)設置有若干卡槽4b,所述卡座4a與卡槽4b卡合連接。
[0025]所述桿柄2彎曲設置，所述刻度5范圍為7毫米至18毫米，所述桿體1、桿柄2和固定裝置4為不銹鋼材質(zhì)。
[0026]使用時，根據(jù)方位標識的含義，例如可以將四個方位標識分別設置為B、P、L、R，分別代表頰側(cè)、腭側(cè)、左側(cè)、右側(cè)。根據(jù)所需使用的不同的提升位點，將桿體I和桿柄2調(diào)整為所需使用的角度，并將卡座4a嵌入卡槽4b中，可使桿體I和桿柄2的定位更加精準，此時桿體I底端設置的上螺孔43與桿柄2頂端設置的中空下螺孔42對齊，再將相配合的螺栓41旋入中空下螺孔42和上螺孔43中間直至旋緊固定。此時握住桿柄2，即可實施上頜竇內(nèi)提升術(shù)。
[0027]以上所述的桿體I的上部，根據(jù)所需不同，可設計不同的直徑，并保持桿體I下部尺寸和桿體I底端設置的上螺孔43的尺寸不變，以實現(xiàn)一個桿柄2適配多個不同直徑的桿體1，可以滿足各類操作需求。
[0028]實用新型的所公布的是較佳的實施例，但并不局限于此，本領域的普通技術(shù)人員，極易根據(jù)上述實施例，不能以此來限定本實用新型之權(quán)利范圍，因此依本實用新型范圍所作的等效變化，仍屬本實用新型的保護范圍。
【權(quán)利要求】
1.一種斜坡型上頜竇內(nèi)提升器，包括桿體(I)和桿柄(2)，其特征在于:所述桿體(I)和桿柄(2)通過固定裝置(4)連接，桿體(I)頂端的桿頂(3)設置為斜坡型，桿體(I)外壁設置有刻度(5)。
2.如權(quán)利要求1所述的斜坡型上頜竇內(nèi)提升器，其特征在于:所述刻度(5)上部的桿體(I)外壁上依次設置有方位標識安置槽一(71)、方位標識安置槽二(72)、方位標識安置槽三(73)和方位標識安置槽四(74)。
3.如權(quán)利要求2所述的斜坡型上頜竇內(nèi)提升器，其特征在于:所述方位標識安置槽一(71)、方位標識安置槽二(72)、方位標識安置槽三(73)和方位標識安置槽四(74)內(nèi)分別設置有四個方位標識。
4.如權(quán)利要求1所述的斜坡型上頜竇內(nèi)提升器，其特征在于:所述刻度(5)下部的桿體(I)外壁上設置有止停環(huán)(6)。
5.如權(quán)利要求4所述的斜坡型上頜竇內(nèi)提升器，其特征在于:所述止停環(huán)(6)為彈性卡抱環(huán)。
6.如權(quán)利要求1所述的斜坡型上頜竇內(nèi)提升器，其特征在于:所述桿頂(3)的斜坡傾斜的角度范圍為10度至80度。
7.如權(quán)利要求1所述的斜坡型上頜竇內(nèi)提升器，其特征在于:所述固定裝置(4)包括桿體(I)底端設置的上螺孔(43)、桿柄(2)頂端設置的中空下螺孔(42)和螺栓(41)。
8.如權(quán)利要求7所述的斜坡型上頜竇內(nèi)提升器，其特征在于:所述螺栓(41)可旋入中空下螺孔(42 )和上螺孔(43 )中間。
9.如權(quán)利要求7所述的斜坡型上頜竇內(nèi)提升器，其特征在于:所述桿體(I)底端外側(cè)設置有若干卡座(4a),桿柄(2)頂端內(nèi)側(cè)設置有若干卡槽(4b),所述卡座(4a)與卡槽(4b)卡合連接。
10.如權(quán)利要求1所述的斜坡型上頜竇內(nèi)提升器，其特征在于:所述桿柄(2)彎曲設置，所述刻度(5)范圍為7毫米至18毫米，所述桿體(I)、桿柄(2)和固定裝置(4)為不銹鋼材質(zhì)。
【文檔編號】A61C8/00GK203564353SQ201320791202
【公開日】2014年4月30日 申請日期:2013年12月5日 優(yōu)先權(quán)日:2013年12月5日
【發(fā)明者】王敏, 鄢明東, 夏海斌, 吳東亮, 尹鳳英, 施斌 申請人:武漢大學