一種放射性支架及其制備方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種放射性支架，其特征在于，包括一支架本體、一提供放射源的放射層與一保護(hù)層，所述保護(hù)層包覆所述放射層；所述放射層樣貌呈微米級(jí)微粒狀、微米森林狀或復(fù)合樣貌。本發(fā)明所述的放射性支架中，放射性物質(zhì)化學(xué)形態(tài)穩(wěn)定，難溶于各種介質(zhì)，且以微米級(jí)微粒、微米森林或復(fù)合結(jié)構(gòu)的形式附著于普通支架表面，且在聚氨酯覆膜的保護(hù)下，不與人體直接接觸，亦不易發(fā)生滲透泄露，安全性強(qiáng)；放射層與支架為一整體，不易脫落；放射層與保護(hù)層厚度共計(jì)僅有11-110μm，體積小，植入腔道不會(huì)占用過多空間，不會(huì)影響腔道內(nèi)物質(zhì)運(yùn)動(dòng)，實(shí)用性強(qiáng)。
【專利說明】一種放射性支架及其制備方法

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種醫(yī)療器械，尤其是一種放射性支架及其制備方法。

【背景技術(shù)】
[0002]惡性腫瘤是威脅人類健康的重大疾病，因惡性腫瘤所引起的血管、消化道、泌尿生殖道、呼吸道等管腔組織的狹窄和梗阻亦一直困擾著人類。管腔內(nèi)支架對(duì)于緩解此類癥狀具有良好效果，但支架本身對(duì)腫瘤治療并無意義，隨著腫瘤增生可能出現(xiàn)再次狹窄，導(dǎo)致需要再次植入支架。而利用低能放射性核素，如125I和ltl3Pd,進(jìn)行近距離照射在腫瘤治療中已經(jīng)得到肯定。而且，125I和ltl3Pd已經(jīng)作為商業(yè)化產(chǎn)品應(yīng)用于臨床近距離治療腫瘤，臨床效果良好。因此，將管腔內(nèi)支架與放射性核素125I或ltl3Pd結(jié)合起來制成放射性支架，不僅可以利用支架的機(jī)械支撐作用預(yù)防各種管腔再狹窄等癥狀，還可以利用放射性核素的射線殺死殺傷腫瘤細(xì)胞，達(dá)到治療或者控制惡性腫瘤的目的，從而避免再狹窄導(dǎo)致的病情惡化。
[0003]鑒于放射性125I支架的優(yōu)勢，其制備技術(shù)引起廣泛重視，目前將125I應(yīng)用在放射性支架領(lǐng)域主要有如下幾個(gè)思路:在普通支架上捆綁放射性125I粒子制成放射性支架，但是編織管腔支架的金屬絲或塑料絲直徑一般很細(xì)(直徑0.05-0.2mm)，而放射性粒子直徑一般為0.8mm，很難將其固定于管腔支架上；而且該法要借助其他材料包裹或捆綁放射性粒子，體內(nèi)管腔組織內(nèi)徑較小，放射性粒子的引入增大了支架的整體體積，植入腔道占用較大空間，影響正常生理活動(dòng)，官腔內(nèi)物質(zhì)運(yùn)動(dòng)亦容易造成放射性粒子脫落，從而損傷其它組織；另外，放射性核素集中于放射性粒子部位，在支架表面分布不均勻，靠近放射性粒子的腫瘤細(xì)胞能夠得到很好的控制，而遠(yuǎn)離放射性粒子的腫瘤細(xì)胞受射線劑量相對(duì)較小，受控效果較差，引入更多放射性粒子反而會(huì)加重前述問題；另有提出使用離子形態(tài)放射層，使用該法制備的放射性支架，因?yàn)榉派湫院怂匾噪x子狀態(tài)存在，易于在各種高分子材料中擴(kuò)散，易溶于水性介質(zhì)，從而會(huì)被人體吸收并隨代謝分布于體內(nèi)各處，造成體內(nèi)放射性污染，損傷正常組織機(jī)能，因此需要及時(shí)嚴(yán)格的監(jiān)控體內(nèi)放射性核素水平，一旦發(fā)現(xiàn)微量泄露，必須立刻手術(shù)取出支架并進(jìn)行體內(nèi)去除放射性污染處理，容易給病人帶來痛苦及二次傷害，并且，離子形態(tài)的125I滲透能力更強(qiáng)，而且碘元素易于在甲狀腺富集，如果125I滲透并富集于甲狀腺，會(huì)造成甲狀腺功能不可逆轉(zhuǎn)的損傷，這是臨床上不希望見到的。
[0004]ltl3Pd是另外一種常用于放射治療的核素，其半衰期16.96天，平均射線能量21-23keV，初始劑量率0.20-0.24Gy/h，相比1251，其對(duì)于增殖較快、分化較差的腫瘤具有更好的療效，而且其能量較低，易于防護(hù)，穿透射程適中，不會(huì)對(duì)周圍正常組織造成不必要的損害?，F(xiàn)有技術(shù)中曾有使用電鍍工藝將ltl3Pd電鍍于普通支架上，但是由于放射性物質(zhì)質(zhì)量極微，其單分子層總面積不及支架表面積大，在不添加載體的情況下，屬于微觀世界范疇，其反應(yīng)動(dòng)力學(xué)行為難以估摸，一般反應(yīng)難以控制，亦難以實(shí)現(xiàn)在支架上的均勻分布。而且，電鍍工藝與設(shè)備一般較為復(fù)雜，不適于放射性物質(zhì)的操作，也不適用于像放射性粒子、放射性支架之類的體積較小的產(chǎn)品的批量生產(chǎn)。另外，支架屬于彈性體，在使用過程中會(huì)經(jīng)過多次壓縮與彈伸的過程，而該放射性支架中l(wèi)tl3Pd暴露于表面，植入人體后放射性ltl3Pd直接與人體接觸，由于支架壓縮、彈伸的機(jī)械力與官腔組織內(nèi)部物質(zhì)運(yùn)動(dòng)、腐蝕等作用，容易造成ltl3Pd的脫落，從而隨著管腔內(nèi)部物質(zhì)的運(yùn)動(dòng)擴(kuò)散遷移到體內(nèi)其他部位，造成正常組織的損傷，這是臨床中不希望見到的。
[0005]鑒于上述缺陷，本發(fā)明創(chuàng)作者經(jīng)過長時(shí)間的研究和實(shí)踐終于獲得了本創(chuàng)作。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]本發(fā)明的目的在于提供一種放射性支架，用以克服上述技術(shù)缺陷。
[0007]為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供一種放射性支架，其特征在于，包括一支架本體、一提供放射源的放射層與一保護(hù)層，所述保護(hù)層包覆所述放射層；
[0008]所述放射層樣貌呈微米級(jí)微粒狀、微米森林狀或復(fù)合樣貌。
[0009]較佳的，所述放射層包括放射性物質(zhì)，所述放射層覆蓋支架的全部或一部分，所述保護(hù)層包覆支架的全部。
[0010]較佳的，所述放射性物質(zhì)為Ag125I ;所述保護(hù)層材料為聚氨酯。
[0011]較佳的，所述放射性物質(zhì)為ltl3Pd ;所述保護(hù)層材料為聚氨酯。
[0012]較佳的，所述放射層厚度為1-10 μ m，所述保護(hù)層厚度為10-100 μ m。
[0013]一種放射性支架的制備方法，其特征在于包括步驟:
[0014]SI，支架依次經(jīng)過噴砂糙化表面、丙酮清洗除油、硝酸浸蝕除去附著物、水洗除去殘留的酸液；
[0015]S2，采用噴淋法活化支架表面，使支架表面附著晶粒；
[0016]S3，采用化學(xué)沉積的方法，使支架表面均勻覆蓋放射層；
[0017]S4，將支架用去離子水清洗干凈，并在溫和氣流下干燥；
[0018]S5，采用旋轉(zhuǎn)固化的方法，使支架表面形成聚氨酯保護(hù)層。
[0019]較佳的，所述步驟S2具體為，在支架表面噴淋0.5_50g/L銀氨溶液，其中氨水濃度5-25%，隨后噴淋1-20%肼溶液，然后干燥至無明顯液滴附著。
[0020]較佳的，所述步驟S3具體為，
[0021]S3a，先將支架置于由0.5-2.5g/L硝酸銀、15-25 %氫氧化銨、40_80g/L乙二胺四乙酸二鈉、0.2-2%肼組成的溶液中，室溫下攪拌反應(yīng)1-1Oh ；
[0022]S3b，將支架取出并用去離子水清洗干凈；
[0023]S3c，再將支架置于由6_12g/L溴化鈉、0.1-0.5g/L碘化鈉、l_100mg/L氫氧化鈉、5-10g/L鐵氰化鉀及放射性125I組成的溶液中，室溫下攪拌反應(yīng)10-30min。
[0024]較佳的，所述步驟S5具體為，旋轉(zhuǎn)條件下在支架表面涂刷5-20%脂肪族聚碳酸型聚氨酯的四氫呋喃溶液，并一直旋轉(zhuǎn)至干燥，而形成所述保護(hù)層。
[0025]較佳的，其還包括步驟S3b’，所述步驟S3b’在所述步驟S3b與所述步驟S3c之間，具體為，將不需要覆蓋所述放射層的支架部分用0.5-5mol/L的硝酸清洗以除去覆蓋的銀層，并將支架用去離子水清洗干凈。
[0026]較佳的，所述步驟S2具體為，在支架表面噴淋0.2-lg/L氯化鈀溶液，隨后噴淋5-20 %肼溶液，然后干燥至無明顯液滴附著。
[0027]較佳的，所述步驟S3具體為，將支架置于由0.l_2g/L氯化鈀、15-25%氫氧化銨、50-90g/L乙二胺四乙酸二鈉、0.2-2%肼及放射性ltl3Pd組成的溶液中，35_50°C攪拌反應(yīng)2-5h。
[0028]較佳的，所述步驟S5具體為，旋轉(zhuǎn)條件下在支架表面涂刷5-20%聚醚型聚氨酯的四氫呋喃溶液，并一直旋轉(zhuǎn)至干燥，而形成所述保護(hù)層。
[0029]較佳的，對(duì)于支架上不需要覆蓋放射層的部分，在所述步驟SI結(jié)束后，所述步驟S2開始前，用濾紙包裹支架不需要攜帶放射性的部位，再轉(zhuǎn)至步驟S2 ;所述步驟S2結(jié)束后，所述步驟S3開始前，揭去濾紙，轉(zhuǎn)至所述步驟S3。
[0030]與現(xiàn)有技術(shù)比較，本發(fā)明的有益效果在于:
[0031]本發(fā)明所述的放射性支架中，放射性物質(zhì)化學(xué)形態(tài)，如碘化銀(Ag125I)和鈀(ltl3Pd),均難溶于各種介質(zhì)，且以微米級(jí)微粒、微米森林或復(fù)合結(jié)構(gòu)的形式附著于普通支架表面，且在聚氨酯覆膜的保護(hù)下，不與人體直接接觸，亦不易發(fā)生滲透泄露，安全性強(qiáng)；
[0032]放射層與支架為一整體，不易脫落；放射層與保護(hù)層厚度共計(jì)僅有10-110 μ m，體積小，植入腔道不會(huì)占用過多空間，不會(huì)影響腔道內(nèi)物質(zhì)運(yùn)動(dòng)，實(shí)用性強(qiáng)；
[0033]放射層覆蓋部分，放射性核素分布均勻，而且可以根據(jù)需要選擇性的覆蓋部分支架表面，靈活性強(qiáng)；
[0034]所用制備方法簡單、易于操作，放射性原料利用率高，所用聚氨酯為良性彈性體，不易破裂，而且具有良好的生物相容性和穩(wěn)定性。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0035]圖1為本發(fā)明放射性支架的整體示意圖；
[0036]圖2為本發(fā)明放射性支架的部分放大示意圖；
[0037]圖3為本發(fā)明放射性支架實(shí)施例一的放射層電鏡照片；
[0038]圖4為本發(fā)明放射性支架實(shí)施例九的放射層電鏡照片。

【具體實(shí)施方式】
[0039]以下結(jié)合附圖，對(duì)本發(fā)明上述的和另外的技術(shù)特征和優(yōu)點(diǎn)作更詳細(xì)的說明。
[0040]請(qǐng)參閱圖1所示，圖1為本發(fā)明放射性支架的整體示意圖，其整體結(jié)構(gòu)為普通的支架，為管狀網(wǎng)式結(jié)構(gòu)，其包括兩端的環(huán)狀收口以及連接所述環(huán)狀收口的網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)。
[0041]請(qǐng)參閱圖2所示，圖2為本發(fā)明放射性支架的部分放大示意圖，其為所述環(huán)狀收口或所述網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)的部分放大示意圖，其包括一本體層1，一放射層2以及一保護(hù)層3。
[0042]實(shí)施例一:
[0043]所述本體層I為支架本體結(jié)構(gòu),其可以為金屬材質(zhì)、塑料材質(zhì)或其他材質(zhì)。在所述本體層I外，存在一放射層2，所述放射層2包括放射性物質(zhì)，作為本發(fā)明所述的放射性支架的放射源，所述放射層2為覆蓋在所述本體層I外的一層，其樣貌表現(xiàn)為微米級(jí)微粒狀、微米柱(微米森林)狀或復(fù)合樣貌，所述復(fù)合樣貌，為微米級(jí)微粒狀與支架本體原貌的結(jié)合或微米柱(微米森林)狀與支架本體原貌的結(jié)合。在實(shí)施例一中，所述放射層2中的放射性物質(zhì)為Ag125I,所述放射層2還包括非放射性材料，以溴化銀(AgBr)為主，所述放射層2呈微米柱(微米森林)狀樣貌。所述放射層2外部存在一保護(hù)層3，所述保護(hù)層3包覆或包含所述放射層2 ;所述放射層2與所述保護(hù)層3之間并沒有明顯的界限。本實(shí)施例中，所述保護(hù)層3為脂肪族聚碳酸型聚氨酯，其包覆在所述放射層2之外，并且填充在所述放射層2中的微粒結(jié)構(gòu)之間、微米柱結(jié)構(gòu)之間的空隙，所述空隙不必然被所述保護(hù)層3完全填滿，可能還包括氣體。
[0044]請(qǐng)參閱圖3所示，其為本發(fā)明放射性支架所述放射層2的電鏡照片，放大倍數(shù)5000倍，所述放射層2主要為AgBr，放射性Ag125I均勻摻雜于其中，構(gòu)成所述放射層2材料局部呈現(xiàn)微米柱狀，整體所述放射層2形成微米森林狀，具有狹窄的孔洞。
[0045]所述保護(hù)層3包覆在此種所述放射層2之外，對(duì)所述放射層2相對(duì)松散的結(jié)構(gòu)起到一個(gè)固定的作用，防止所述放射層2中的物質(zhì)從所述放射性支架中脫落，同時(shí)，由于所述放射層2結(jié)構(gòu)中存在相對(duì)較大、較多的空隙，所述放射層2同時(shí)也起到了對(duì)于所述保護(hù)層3的保護(hù)固定作用，防止保護(hù)層3從所述放射層2外剝離出去。
[0046]所述放射層2可以完全覆蓋所述本體層1，也可以部分覆蓋所述本體層I ;所述保護(hù)層3可以完全包覆或部分包覆所述本體層1，但應(yīng)完全包覆所述放射層2，通常所述保護(hù)層3均為完全包覆所述本體層1，這樣無論對(duì)所述放射層2或所述保護(hù)層3來說，材料會(huì)更加穩(wěn)定，不易脫落泄露。
[0047]實(shí)施例一所述放射性支架的制備方法為:
[0048]步驟SI，預(yù)處理:支架依次經(jīng)過噴砂糙化表面、丙酮清洗除油、硝酸浸蝕除去附著物、水洗除去殘留的酸液；
[0049]步驟S2，活化:采用噴淋法活化支架表面，使支架表面附著晶粒；
[0050]步驟S3a，沉積銀:采用化學(xué)沉積的方法，使支架表面均勻覆蓋銀層；
[0051]步驟S3b，清洗:將支架取出并用去離子水清洗干凈；
[0052]步驟S3c，鹵化:采用化學(xué)吸附的方法，使支架表面的銀層因鹵化而形成所述放射層；
[0053]步驟S4，清洗并干燥:將支架用去離子水清洗干凈，并在溫和氣流下干燥；
[0054]步驟S5，覆膜:采用旋轉(zhuǎn)固化的方法，使支架表面形成聚氨酯保護(hù)層。
[0055]其中，所述步驟S2中，所述的噴淋法活化支架表面的方法為:在支架表面噴淋10g/L銀氨溶液，其中氨水濃度12.5%，隨后噴淋10%肼溶液，然后干燥至無明顯液滴附著;
[0056]其中，所述步驟S3a中，所述的化學(xué)沉積銀的方法為:將支架置于由2g/L硝酸銀、18%氫氧化銨、50g/L乙二胺四乙酸二鈉、0.5%肼組成的溶液中，室溫下攪拌反應(yīng)3h ；
[0057]其中，所述步驟S3c中，所述的化學(xué)吸附的方法為:將支架置于由10g/L溴化鈉、0.3g/L碘化鈉、10mg/L氫氧化鈉、8g/L鐵氰化鉀及放射性125I組成的溶液中，室溫下攪拌反應(yīng)15min，使支架表面的銀層齒化而形成所述放射層，溴化銀與放射性碘化銀混合存在，局部呈微米柱狀、整體呈微米森林狀，所述放射層2整體呈不規(guī)則連通，空隙相對(duì)較多。
[0058]其中，所述步驟S5中，所述的旋轉(zhuǎn)固化的方法為:旋轉(zhuǎn)條件下在支架表面涂刷一層10%脂肪族聚碳酸型聚氨酯的四氫呋喃溶液，并一直旋轉(zhuǎn)至干燥，而形成一層聚氨酯保護(hù)層；
[0059]實(shí)施例一所得到的放射性支架，所述放射層2厚度為5 μ m，所述保護(hù)層3厚度為50 μ m0
[0060]實(shí)施例二:
[0061]實(shí)施例二與實(shí)施例一的區(qū)別在于，
[0062]其中，所述步驟S2中，所述的噴淋法活化支架表面的方法為:在支架表面噴淋
0.5g/L銀氨溶液,其中氨水濃度5%，隨后噴淋20%肼溶液，然后干燥至無明顯液滴附著；
[0063]其中，所述步驟S3a中，所述的化學(xué)沉積銀的方法為:將支架置于由0.5g/L硝酸銀、15%氫氧化銨、40g/L乙二胺四乙酸二鈉、2%肼組成的溶液中，室溫下攪拌反應(yīng)1h ；
[0064]其中，所述步驟S3c中，所述的化學(xué)吸附的方法為:將支架置于由6g/L溴化鈉、
0.5g/L碘化鈉、lmg/L氫氧化鈉、5g/L鐵氰化鉀及放射性125I組成的溶液中，室溫下攪拌反應(yīng)lOmin，使支架表面的銀層齒化而形成所述放射層，溴化銀與放射性碘化銀混合存在，呈較疏的微米森林狀結(jié)構(gòu)。
[0065]實(shí)施例二所得到的放射性支架，所述放射層2厚度為I μ m。
[0066]實(shí)施例三:
[0067]實(shí)施例三與實(shí)施例一的區(qū)別在于，
[0068]其中，所述步驟S2中，所述的噴淋法活化支架表面的方法為:在支架表面噴淋50g/L銀氨溶液,其中氨水濃度25%，隨后噴淋I %肼溶液,然后干燥至無明顯液滴附著；
[0069]其中，所述步驟S3a中，所述的化學(xué)沉積銀的方法為:將支架置于由2.5g/L硝酸銀、25%氫氧化銨、80g/L乙二胺四乙酸二鈉、0.2%肼組成的溶液中，室溫下攪拌反應(yīng)Ih ；
[0070]其中，所述步驟S3c中，所述的化學(xué)吸附碘的方法為:將支架置于由12g/L溴化鈉、
0.lg/L碘化鈉、100mg/L氫氧化鈉、10g/L鐵氰化鉀及放射性125I組成的溶液中，室溫下攪拌反應(yīng)30min，使支架表面的銀層鹵化而形成所述放射層，溴化銀與放射性碘化銀混合存在，所述放射層2整體呈不規(guī)則連通，空隙相對(duì)較少，呈較密的微米森林狀結(jié)構(gòu)。
[0071]實(shí)施例三所得到的放射性支架,所述放射層2厚度為10 μ m。
[0072]實(shí)施例四:
[0073]實(shí)施例四與實(shí)施例一的區(qū)別在于，
[0074]在所述步驟S5中，脂肪族聚碳酸型聚氨酯的四氫呋喃溶液的質(zhì)量濃度為20%，得到的放射性支架所述保護(hù)層3厚度為100 μ m。
[0075]實(shí)施例五:
[0076]實(shí)施例五與實(shí)施例一的區(qū)別在于，
[0077]在所述步驟S5中，脂肪族聚碳酸型聚氨酯的四氫呋喃溶液的質(zhì)量濃度為5%，得到的放射性支架所述保護(hù)層3厚度為10 μ m。
[0078]實(shí)施例六:
[0079]由于腫瘤位置集中，且腫瘤附近組織對(duì)于放射性敏感，所以需要在支架上面做部分放射層，實(shí)施例六與實(shí)施例一的區(qū)別在于，實(shí)施例六所得到的放射性支架只在中間三分之一的位置具有所述放射層2。
[0080]其具體制備方法與實(shí)施例一不同之處在于，
[0081 ] 其還包括步驟S3b ’，所述步驟S3b結(jié)束后，轉(zhuǎn)至所述步驟S3b ’，所述步驟S3b ’結(jié)束后，轉(zhuǎn)至所述步驟S3c。
[0082]所述步驟S3b’具體為:將支架兩端各三分之一處用lmol/L的硝酸溶液清洗并擦除，去除銀層，然后將支架用去離子水清洗干凈。
[0083]本實(shí)施例中，所述步驟S3結(jié)束后形成所述放射層，呈復(fù)合樣貌，所述復(fù)合樣貌為微米柱(微米森林)狀與支架原貌的結(jié)合，更確切的說部分支架為放射層的微米柱(微米森林)狀，部分支架為支架本體的原貌。
[0084]實(shí)施例七:
[0085]其具體制備方法與實(shí)施例二不同之處在于，
[0086]其還包括步驟S3b ’，所述步驟S3b結(jié)束后，轉(zhuǎn)至所述步驟S3b ’，所述步驟S3b ’結(jié)束后，轉(zhuǎn)至所述步驟S3c。
[0087]所述步驟S3b’具體為:將支架兩端各三分之一處用0.5mol/L的硝酸溶液清洗并擦除，去除銀層，然后將支架用去離子水清洗干凈。
[0088]實(shí)施例八:
[0089]其具體制備方法與實(shí)施例三不同之處在于，
[0090]其還包括步驟S3b ’，所述步驟S3b結(jié)束后，轉(zhuǎn)至所述步驟S3b ’，所述步驟S3b ’結(jié)束后，轉(zhuǎn)至所述步驟S3c。
[0091]所述步驟S3b’具體為:將支架兩端各三分之一處用5mol/L的硝酸溶液清洗并擦除，去除銀層，然后將支架用去離子水清洗干凈。
[0092]實(shí)施例九:
[0093]所述本體層I為支架本體結(jié)構(gòu),其可以為金屬材質(zhì)、塑料材質(zhì)或其他材質(zhì)。在所述本體層I外，存在一放射層2，所述放射層2包括放射性物質(zhì)，作為本發(fā)明所述的放射性支架的放射源，所述放射層2為覆蓋在所述本體層I外的一層，其樣貌表現(xiàn)為微米級(jí)微粒狀或復(fù)合樣貌，在實(shí)施例九中，所述放射層2中的放射性物質(zhì)為ltl3Pd,所述放射層2還包括非放射性材料，以非放射性鈀為主，呈微米級(jí)微粒狀。所述放射層2外部存在一保護(hù)層3，所述保護(hù)層3包覆所述放射層2。
[0094]本實(shí)施例中，所述保護(hù)層3為聚醚型聚氨酯，其包覆在所述放射層2之外，并且填充在所述放射層2中的微粒結(jié)構(gòu)之間的空隙，所述空隙不必然被所述保護(hù)層3完全填滿，可能還包括氣體。
[0095]請(qǐng)參見圖4所示，其為本發(fā)明實(shí)施例九的所述放射層2電鏡照片，所述放射層呈微米級(jí)微粒狀，為ltl3Pd與冷鈀的顆粒狀樣貌，其中，103Pd均勻混合于非放射性鈀中，被非放射性鈀包裹在其中，不會(huì)暴露在表面。另外所述放射層2之外還存在一保護(hù)層3，相當(dāng)于ltl3Pd的雙保險(xiǎn)。
[0096]實(shí)施例九所述放射性支架的制備方法為:
[0097]步驟SI，預(yù)處理:支架依次經(jīng)過噴砂糙化表面、丙酮清洗除油、硝酸浸蝕除去附著物、水洗除去殘留的酸液；
[0098]步驟S2，活化:采用噴淋法活化支架表面，使支架表面附著晶粒；
[0099]步驟S3，沉積鈀:采用化學(xué)沉積的方法，使支架表面均勻覆蓋所述放射層；
[0100]步驟S4，清洗并干燥:將支架用去離子水清洗干凈，并在溫和氣流下干燥；
[0101]步驟S5，覆膜:采用旋轉(zhuǎn)固化的方法，使支架表面形成聚氨酯保護(hù)層。
[0102]其中，所述步驟S2中，所述的噴淋法活化支架表面的方法為:在支架表面噴淋
0.5g/L氯化鈀溶液，隨后噴淋10%肼溶液，然后干燥至無明顯液滴附著；
[0103]其中，所述步驟S3中，所述的化學(xué)沉積鈀的方法為:將支架置于由lg/L氯化鈀、20%氫氧化銨、70g/L乙二胺四乙酸二鈉、0.5%肼及放射性ltl3Pd組成的溶液中，40°C攪拌反應(yīng)3h，使支架表面均勻覆蓋所述放射層；
[0104]其中，所述步驟S5中，所述的旋轉(zhuǎn)固化的方法為:旋轉(zhuǎn)條件下在支架表面涂刷一層10%聚醚型聚氨酯的四氫呋喃溶液，并一直旋轉(zhuǎn)至干燥，而形成一層聚氨酯保護(hù)層。
[0105]實(shí)施例十
[0106]實(shí)施例十與實(shí)施例九相似，區(qū)別在于，
[0107]所述步驟S2具體為:在支架表面噴淋0.2g/L氯化鈀溶液，隨后噴淋20%肼溶液，然后干燥至無明顯液滴附著；
[0108]所述步驟S3具體為:將支架置于由0.lg/L氯化鈀、15%氫氧化銨、50g/L乙二胺四乙酸二鈉、0.2%肼及放射性ltl3Pd組成的溶液中，50°C攪拌反應(yīng)2h，使支架表面均勻覆蓋所述放射層；
[0109]所述步驟S5具體為:旋轉(zhuǎn)條件下在支架表面涂刷一層5%聚醚型聚氨酯的四氫呋喃溶液，并一直旋轉(zhuǎn)至干燥，而形成一層聚氨酯保護(hù)層。
[0110]實(shí)施例1^一
[0111]實(shí)施例1^一與實(shí)施例九相似，區(qū)別在于，
[0112]所述步驟S2具體為:在支架表面噴淋lg/L氯化鈀溶液，隨后噴淋5%肼溶液，然后干燥至無明顯液滴附著；
[0113]所述步驟S3具體為:將支架置于由2g/L氯化鈀、25%氫氧化銨、90g/L乙二胺四乙酸二鈉、2%肼及放射性ltl3Pd組成的溶液中，35°C攪拌反應(yīng)5h，使支架表面均勻覆蓋所述放射層；
[0114]所述步驟S5具體為:旋轉(zhuǎn)條件下在支架表面涂刷一層20%聚醚型聚氨酯的四氫呋喃溶液，并一直旋轉(zhuǎn)至干燥，而形成一層聚氨酯保護(hù)層。
[0115]實(shí)施例十二
[0116]實(shí)施例十二與實(shí)施例九相似，區(qū)別在于，
[0117]實(shí)施例十二所得到的支架中，所述放射層2只覆蓋支架的一部分，其制備方法與實(shí)施例九的區(qū)別在于:
[0118]所述步驟S2開始前，所述步驟SI結(jié)束后，用濾紙包裹支架不需要攜帶放射性的部位，再轉(zhuǎn)至步驟S2 ；
[0119]所述步驟S2結(jié)束后，所述步驟S3開始前，揭去濾紙，轉(zhuǎn)至所述步驟S3。
[0120]這樣，被濾紙遮蓋住的部分在最終不會(huì)覆蓋所述放射層2。
[0121]本實(shí)施例中，所述步驟S3結(jié)束后形成所述放射層，呈復(fù)合樣貌，所述復(fù)合樣貌為微米微粒狀與支架原貌的結(jié)合，更確切的說部分支架為放射層的微米微粒狀，部分支架為支架本體的原貌。
[0122]以上所述僅為本發(fā)明的較佳實(shí)施例，對(duì)發(fā)明而言僅僅是說明性的，而非限制性的。本專業(yè)技術(shù)人員理解，在發(fā)明權(quán)利要求所限定的精神和范圍內(nèi)可對(duì)其進(jìn)行許多改變，修改，甚至等效，但都將落入本發(fā)明的保護(hù)范圍內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種放射性支架，其特征在于，包括一支架本體、一提供放射源的放射層與一保護(hù)層，所述保護(hù)層包覆所述放射層； 所述放射層樣貌呈微米級(jí)微粒狀、微米森林狀或復(fù)合樣貌。
2.如權(quán)利要求1所述的一種放射性支架，其特征在于，所述放射層包括放射性物質(zhì)，所述放射層覆蓋支架的全部或一部分，所述保護(hù)層包覆支架的全部。
3.如權(quán)利要求2所述的一種放射性支架，其特征在于，所述放射性物質(zhì)為Ag125I;所述保護(hù)層材料為聚氨酯。
4.如權(quán)利要求2所述的一種放射性支架，其特征在于，所述放射性物質(zhì)為ltl3Pd;所述保護(hù)層材料為聚氨酯。
5.如權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的放射性支架，其特征在于，所述放射層厚度為1-10 μ m,所述保護(hù)層厚度為10-100 μ m。
6.一種放射性支架的制備方法，其特征在于包括步驟: SI，支架依次經(jīng)過噴砂糙化表面、丙酮清洗除油、硝酸浸蝕除去附著物、水洗除去殘留的酸液； S2，采用噴淋法活化支架表面，使支架表面附著晶粒； S3，采用化學(xué)沉積的方法，使支架表面均勻覆蓋放射層； S4，將支架用去離子水清洗干凈，并在溫和氣流下干燥； S5，采用旋轉(zhuǎn)固化的方法，使支架表面形成聚氨酯保護(hù)層。
7.如權(quán)利要求6所述的放射性支架的制備方法，其特征在于， 所述步驟S2具體為，在支架表面噴淋0.5-50g/L銀氨溶液，其中氨水濃度5-25 %，隨后噴淋1-20%肼溶液，然后干燥至無明顯液滴附著； 所述步驟S3具體為， S3a，先將支架置于由0.5-2.5g/L硝酸銀、15-25%氫氧化銨、40-80g/L乙二胺四乙酸二鈉、0.2-2%肼組成的溶液中，室溫下攪拌反應(yīng)1-1Oh ； S3b，將支架取出并用去離子水清洗干凈； S3c，再將支架置于由6-12g/L溴化鈉、0.1-0.5g/L碘化鈉、Ι-lOOmg/L氫氧化鈉、5-10g/L鐵氰化鉀及放射性125I組成的溶液中，室溫下攪拌反應(yīng)10-30min ； 所述步驟S5具體為，旋轉(zhuǎn)條件下在支架表面涂刷5-20%脂肪族聚碳酸型聚氨酯的四氫呋喃溶液，并一直旋轉(zhuǎn)至干燥，而形成所述保護(hù)層。
8.如權(quán)利要求7所述的放射性支架的制備方法，其特征在于，其還包括步驟S3b’，所述步驟S3b’在所述步驟S3b與所述步驟S3c之間，具體為，將不需要覆蓋所述放射層的支架部分用0.5-5mol/L的硝酸清洗以除去覆蓋的銀層，并將支架用去離子水清洗干凈。
9.如權(quán)利要求6所述的放射性支架的制備方法，其特征在于， 所述步驟S2具體為，在支架表面噴淋0.2-lg/L氯化鈀溶液，隨后噴淋5-20%肼溶液，然后干燥至無明顯液滴附著； 所述步驟S3具體為，將支架置于由0.l-2g/L氯化鈀、15-25 %氫氧化銨、50_90g/L乙二胺四乙酸二鈉、0.2-2%肼及放射性ltl3Pd組成的溶液中，35-50°C攪拌反應(yīng)2_5h ； 所述步驟S5具體為，旋轉(zhuǎn)條件下在支架表面涂刷5-20%聚醚型聚氨酯的四氫呋喃溶液，并一直旋轉(zhuǎn)至干燥，而形成所述保護(hù)層。
10.如權(quán)利要求9所述的放射性支架的制備方法，其特征在于，對(duì)于支架上不需要覆蓋放射層的部分，在所述步驟SI結(jié)束后，所述步驟S2開始前，用濾紙包裹支架不需要攜帶放射性的部位，再轉(zhuǎn)至步驟S2 ;所述步驟S2結(jié)束后，所述步驟S3開始前，揭去濾紙，轉(zhuǎn)至所述步驟S3。
【文檔編號(hào)】A61L31/10GK104127917SQ201410323239
【公開日】2014年11月5日 申請(qǐng)日期:2014年7月8日 優(yōu)先權(quán)日:2014年7月8日
【發(fā)明者】高惠波, 李忠勇, 張文輝, 韓連革, 周棱 申請(qǐng)人:原子高科股份有限公司