用于按圖案向推進的基底施加粘合劑的方法和設(shè)備的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本公開涉及利用連續(xù)基底以制造制品的方法和設(shè)備，更具體地，涉及用于向推進 的基底施加粘性流體諸如粘合劑的方法和設(shè)備。
【背景技術(shù)】
[0002] 沿著組裝線，可通過將部件添加到推進的連續(xù)材料纖維網(wǎng)并且以其他方式修改推 進的連續(xù)材料纖維網(wǎng)來組裝各種類型的制品例如尿布和其他吸收制品。例如，在一些方法 中，推進的材料纖維網(wǎng)與其它推進的材料纖維網(wǎng)組合。在其它示例中，從推進的材料纖維網(wǎng) 產(chǎn)生的單個部件與推進的材料纖維網(wǎng)相組合，然后所述推進的纖維網(wǎng)繼而與其它推進的材 料纖維網(wǎng)相組合。用來制造尿布的材料纖維網(wǎng)和組成部件可包括：底片、頂片、吸收芯、前耳 片和/或后耳片、扣件組件、以及各種類型的彈性纖維網(wǎng)和諸如腿彈性部件、阻擋腿箍彈性 部件、和腰彈性部件的部件。一旦組裝好了所期望的組成部件，使推進的纖維網(wǎng)和組成部件 經(jīng)受最終刀切以將該纖維網(wǎng)分離成離散的尿布或其它吸收制品。然后也可折疊和包裝這些 單獨的尿布或吸收制品。
[0003] 多種方法和設(shè)備可用于將不同的部件附接到推進的纖維網(wǎng)和/或以其他方式修 改推進的纖維網(wǎng)。例如，一些生產(chǎn)操作被構(gòu)造成向推進的纖維網(wǎng)施加相對高粘度的流體諸 如熱熔融粘合劑。在一些情況下，所述生產(chǎn)操作被構(gòu)造成以預(yù)定圖案向推進的纖維網(wǎng)施加 熱熔融粘合劑。這些操作可包括使用本領(lǐng)域充分描述的系統(tǒng)和方法，諸如狹縫模涂布、直接 照相凹版印刷、照相凹版和反向凹版輥涂布工藝。然而，當前的用于向推進的基底施加圖案 化粘合劑的系統(tǒng)和方法可具有某些缺陷。
[0004] 例如，在制造吸收制品諸如女性衛(wèi)生墊、嬰兒尿布、和成人失禁襯墊的過程中，凹 版涂布工藝的使用可能混雜有由與待涂覆的基底分開的纖維對壓印滾筒所造成的污染。與 凹版印刷腔體和不完全的流體轉(zhuǎn)移相關(guān)聯(lián)的一些問題描述于例如美國專利7, 611，582B2 和6, 003, 513中。在一些情況下，狹縫模涂布可在制造吸收產(chǎn)品的過程中用于對纖維網(wǎng)進 行圖案化涂布。在狹縫模轉(zhuǎn)移工藝中使用梳墊片能夠提供高分辯率并在橫向于纖維網(wǎng)行進 方向的軸線上將流體精密地轉(zhuǎn)移至接收基底。此類狹縫轉(zhuǎn)移工藝也可被構(gòu)造成具有電動氣 動式開關(guān)閥以向推進的基底間歇地轉(zhuǎn)移粘合劑。然而，向推進的基底間歇地轉(zhuǎn)移流體的品 質(zhì)和精密度可受到用于中斷流體向流體施用裝置的狹縫模流動的開關(guān)閥的通/斷循環(huán)速 度的限制。因此，當纖維網(wǎng)加工速度的增大時，當前狹縫模涂布方法在纖維網(wǎng)行進方向上實 現(xiàn)高分辯率的通/斷涂布圖案的能力減小。因此，有益的是提供如下的設(shè)備和方法，所述設(shè) 備和方法以相對高分辯率和高速度按圖案向基底施加粘合劑和其它流體，而不受限于用于 中斷流體向流體施用裝置的狹縫模流動的開關(guān)閥的通/斷循環(huán)速度。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005] 本文的方法和設(shè)備的方面涉及將流體施加到推進的基底上。本文的設(shè)備和方法可 按預(yù)定圖案向推進的基底施加粘性流體諸如粘合劑。流體施加設(shè)備可包括狹縫模施用裝置 和基底載體。狹縫模施用裝置可包括狹縫開口、第一唇緣、和第二唇緣，狹縫開口位于第一 唇緣和第二唇緣之間。并且在狹縫模施用裝置將粘合劑排放到基底上時，基底載體可適于 推進基底經(jīng)過狹縫模施用裝置。在操作中，當基底的第一表面設(shè)置在基底載體上時，基底載 體推進基底的第二表面經(jīng)過狹縫模施用裝置的狹縫開口。
[0006] 在一種形式中，一種設(shè)備按圖案向推進的基底施加流體，基底具有無約束厚度Hs 并具有相背對設(shè)置的第一表面和第二表面。該設(shè)備包括：狹縫模施用裝置，其包括狹縫開 口、第一唇緣、和第二唇緣，狹縫開口位于第一唇緣和第二唇緣之間；基底載體，其適于推進 基底經(jīng)過狹縫模施用裝置，其中當基底的第一表面設(shè)置在基底載體上時，基底載體適于推 進基底的第二表面經(jīng)過狹縫模施用裝置的狹縫開口，基底載體包括：非柔順支撐表面；和 柔順圖案元件，其中柔順圖案元件包括圖案表面，并且其中柔順圖案元件相對于非柔順支 撐表面向外突出以限定圖案表面和非柔順支撐表面之間的第一最小距離Rl ;其中基底載 體鄰近狹縫模施用裝置定位以限定圖案元件的圖案表面與第一唇緣和第二唇緣之間的最 小距離Hg，所述最小距離Hg小于基底的無約束厚度Hs;其中在基底載體推進基底的第二表 面經(jīng)過狹縫開口時，柔順圖案元件被推進使得圖案表面重復(fù)地推進經(jīng)過狹縫模施用裝置的 第一唇緣、狹縫開口、和第二唇緣；并且其中在圖案表面沿狹縫模施用裝置的第一唇緣、狹 縫開口、和第二唇緣推進時，圖案表面被撓曲遠離狹縫模施用裝置，以限定圖案表面和非柔 順支撐表面之間的第二最小距離R2,使得R2小于R1。
[0007] 在另一種形式中，一種方法可用來按圖案向基底施加從狹縫模施用裝置排放的流 體，狹縫模施用裝置包括狹縫開口、第一唇緣、和第二唇緣，狹縫開口位于第一唇緣和第二 唇緣之間；并且基底具有相背對設(shè)置的第一表面和第二表面和無約束厚度Hs。該方法包括 以下步驟：沿縱向連續(xù)地推進基底；使基底與基底載體接合，基底載體包括：非柔順支撐表 面和圖案元件，圖案元件包括圖案表面，其中圖案元件延伸遠離非柔順支撐表面以限定圖 案表面和非柔順支撐表面之間的第一最小距離Rl ;鄰近狹縫模施用裝置定位基底載體以 限定圖案元件的圖案表面與第一唇緣和第二唇緣之間的最小距離Hg，所述最小距離Hg小 于基底的無約束厚度Hs;在基底的第一表面設(shè)置在基底載體上時，推進基底的第二表面經(jīng) 過狹縫模施用裝置；在基底的第一表面設(shè)置在基底載體上時，推進基底和圖案元件經(jīng)過狹 縫模施用裝置的第一唇緣、狹縫開口、和第二唇緣來朝非柔順支撐表面間歇地撓曲圖案表 面，從而限定圖案表面和非柔順表面之間的第二最小距離R2,其中R2小于Rl ;以及將流體 從狹縫模施用裝置的狹縫開口排放到基底的第二表面上。
[0008] 在另一種形式中，一種吸收制品包括：頂片；與頂片連接的底片，底片包括膜；被 定位在頂片和底片之間的吸收芯；和被定位在膜上的狹縫涂布的粘合劑，其中粘合劑被布 置成離散的圖案區(qū)域，所述圖案區(qū)域具有與基底載體上的圖案表面的形狀對應(yīng)的形狀，圖 案區(qū)域沿縱向MD被分開距離dp，所述距離與基底載體上的相鄰圖案表面之間的距離對應(yīng)， 并且其中每個圖案區(qū)域均具有沿縱向MD限定橫截面輪廓的變化厚度，由此每個圖案區(qū)域 均包括由中心部分分開的前端部分和后端部分，前端部分限定第一厚度tl，中心部分限定 第二厚度t2,并且后端部分限定第三厚度t3,并且其中tl大于t2和t3,并且t2基本上等 于t3 〇
【附圖說明】
[0009] 圖1為被鄰近推進的基底定位的流體施加設(shè)備的透視圖。
[0010] 圖IA為以第一示例圖案將流體沉積到推進的基底上的流體施加設(shè)備的側(cè)視圖。
[0011] 圖IB為以第二示例圖案將流體沉積到推進的基底上的流體施加設(shè)備的側(cè)視圖。
[0012] 圖IC為以第三示例圖案將流體沉積到推進的基底上的流體施加設(shè)備的側(cè)視圖。
[0013] 圖ID為以第四示例圖案將流體沉積到推進的基底上的流體施加設(shè)備的側(cè)視圖。
[0014] 圖2A為包括圖案輥的基底載體的一個實施例的透視圖，所述圖案輥具有連續(xù)基 礎(chǔ)表面和多個圖案表面。
[0015] 圖2B為沿線2B-2B截取的圖2A所示基底載體的詳細剖面圖。
[0016] 圖2C為基底的頂部側(cè)視圖，示出了其上的第一示例粘合劑圖案。
[0017] 圖3A為包括圖案輥的基底載體的一個實施例的透視圖，所述圖案輥具有連續(xù)圖 案表面和多個基礎(chǔ)表面。
[0018] 圖3B為沿線3B-3B截取的圖3A所示基底載體的詳細剖面圖。
[0019] 圖3C為基底的頂部側(cè)視圖，示出了其上的第二示例粘合劑圖案。
[0020] 圖4為示例基底載體的示意性橫截面?zhèn)纫晥D。
[0021] 圖4A1為圖4的基底載體的詳細視圖，其包括柔順圖案元件和連接到基部輥的柔 順基層。
[0022] 圖4A2為被施加于圖案表面的一個或多個力所撓曲的出自圖4A1的圖案元件的圖 案表面的詳細視圖。
[0023] 圖4B1為圖4的基底載體的詳細視圖，其包括非柔順圖案元件和連接到基部輥的 柔順基層。
[0024] 圖4B2為被施加于圖案表面的一個或多個力所撓曲的出自圖4B1的圖案元件的圖 案表面的詳細視圖。
[0025] 圖4C1為圖4的基底載體的詳細視圖，其包括連接到基部輥的柔順圖案元件。
[0026] 圖4C2為被施加于圖案表面的一個或多個力所撓曲的出自圖4C1的圖案元件的圖 案表面的詳細視圖。
[0027] 圖5為流體施加設(shè)備的示意性橫截面?zhèn)纫晥D。
[0028] 圖6A為無基底的圖5的基底載體的詳細剖面圖，其中圖案元件的圖案表面鄰近狹 縫模施用裝置的第一唇緣、第二唇緣、和狹縫開口。
[0029] 圖6B為推進經(jīng)過狹縫模施用裝置的基底載體和基底的詳細剖面圖，并且示出了 狹縫模施用裝置的狹縫開口和推進的基礎(chǔ)表面之間的基底。
[0030] 圖6C為圖6B的基底載體和基底的詳細剖面圖，其中基礎(chǔ)表面被推進經(jīng)過狹縫模 施用裝置的狹縫開口，使得基底位于狹縫模施用裝置的狹縫開口和推進的圖案表面的前緣 之間。
[0031] 圖6D為圖6C的基底載體和基底的詳細剖面圖，其中基礎(chǔ)表面已被推進經(jīng)過狹縫 模施用裝置的狹縫開口，使得基底位于狹縫模施用裝置的狹縫開口和推進的圖案表面之 間。
[0032] 圖6E為圖6D的基底載體和基底的詳細剖面圖，其中圖案表面已被推進經(jīng)過狹縫 模施用裝置的狹縫開口。
[0033] 圖7為具有包括圖案帶的基底載體的流體施加設(shè)備的一個實施例的示意性橫截 面?zhèn)纫晥D。
[0034] 圖8為具有包括圖案帶的基底載體的流體施加設(shè)備的另一個實施例的示意性橫 截面?zhèn)纫晥D。
[0035] 圖9為具有包括圖案帶和墊板的基底載體的流體施加設(shè)備的另一個實施例的示 意性橫截面?zhèn)纫晥D。
[0036] 圖IOA為按圖案向基底施加的流體的頂部平面圖。
[0037] 圖IOB為沿線10B-10B截取的圖IOA所示基底和流體的剖視圖。
[0038] 圖11為一次性吸收制品的頂部平面圖。
【具體實施方式】
[0039] 以下術(shù)語的解釋對理解本公開是有用的：
[0040] "吸收制品"在本文中用于指主要功能為吸收和保留污垢和廢物的消費品。吸收制 品的非限制性實例包括尿布、訓(xùn)練褲、套穿褲型尿布、可重復(fù)扣緊的尿布或褲型尿布，失禁 貼身短內(nèi)褲和內(nèi)衣、尿布固定器和護墊、女性衛(wèi)生內(nèi)衣諸如衛(wèi)生護墊、吸收襯墊等。
[0041] "尿布"在本文中用于指一般由嬰兒和失禁患者圍繞下體穿著的吸收制品。
[0042] 術(shù)語"一次性的"在本文中用于描述通常不旨在洗滌、或者復(fù)原、或作為吸收制品 再使用的吸收制品（例如，它們旨在在單次使用后丟棄，并且也可被構(gòu)造成可回收利用、堆 肥處理或以其它與環(huán)境相容的方式進行處理）。
[0043] 術(shù)語"設(shè)置"在本文中用于指元件在特定位置或位點以與其它元件作為宏單一結(jié) 構(gòu)或作為接合到另一個元件的獨立元件而形成（接合和定位）。
[0044] 如本文所用，術(shù)語"接合"涵蓋其中通過將一元件直接附連到另一元件而使該元件 直接固定到另一元件上的構(gòu)型，以及其中通過將一元件附連到中間構(gòu)件，該中間構(gòu)件繼而 又附連到另一元件而使該元件間接固定到另一元件上的構(gòu)型。
[0045] 術(shù)語"基底"在本文中用于描述如下材料，所述材料主要為二維的（即在XY平面 中），并且其厚度（在Z方向上）與其長度（在X方向上）和寬度（在Y方向上）相比相對 較?。?/10或更?。；椎姆窍拗菩允纠▽踊蚶w維材料、膜和箔片諸如塑料膜或 金屬箔片，它們可單獨地使用或可層合到一個或多個纖維網(wǎng)、層、膜和/或箔片。因此，