光學(xué)測(cè)量裝置及方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種光學(xué)測(cè)量的裝置以及方法。
【背景技術(shù)】
[0002]由于光學(xué)測(cè)量技術(shù)具有非侵入、快速反應(yīng)等優(yōu)點(diǎn)，因此常被應(yīng)用于非接觸性的檢測(cè)。例如可應(yīng)用于生理檢測(cè)，且特別是應(yīng)用于高透光與易受損傷眼部的生理檢測(cè)效果尤佳。
[0003]請(qǐng)先參考圖1，其為已知的光學(xué)測(cè)量裝置的示意圖。圖1的光學(xué)測(cè)量裝置I至少包括光源模塊10、參考鏡組12、光稱合模塊14以及處理單兀16。
[0004]光源模塊10所提供的光源通過耦合模塊14分別傳遞至參考鏡組12以及處理單元16，這些光線再分別被參考鏡組12以及處理單元16反射后，形成參考光Rl與檢測(cè)光Dl后，循原光路返回處理單元16，最后依據(jù)其干涉結(jié)果可測(cè)量出待測(cè)物O的表面曲率。而且，使用者可通過移動(dòng)參考鏡組12的位置，使參考光R1、檢測(cè)光Dl產(chǎn)生干涉。
[0005]然而，此種光學(xué)測(cè)量裝置的缺點(diǎn)在于，須在測(cè)量時(shí)先得知待測(cè)物表面的曲率為凹面、凸面或是平面，且為了得到較精準(zhǔn)的測(cè)量結(jié)果，尚須參考鏡組12選用的曲率與待測(cè)物的差距不能過大(選用錯(cuò)誤的鏡面將會(huì)導(dǎo)致測(cè)量結(jié)果誤差增大)。而且，即便已知待測(cè)物的約略曲率，搭配的參考鏡組12的曲率也會(huì)影響到其測(cè)量結(jié)果。換言之，此種光學(xué)測(cè)量裝置I將無法滿足測(cè)量不規(guī)則曲面、多層體結(jié)構(gòu)的待測(cè)物、精準(zhǔn)測(cè)量等等的情況。
[0006]因此，如何提供一種可測(cè)量提高檢測(cè)準(zhǔn)確度、可針對(duì)不規(guī)則待測(cè)面、連續(xù)測(cè)量、測(cè)量多層體待測(cè)物的一種光學(xué)測(cè)量裝置，乃為本領(lǐng)域即需解決的問題之一。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0007]有鑒于上述課題，本發(fā)明的目的是提供一種光學(xué)測(cè)量裝置，包括光源模塊、光耦合模塊、參考鏡組以及處理單元。
[0008]光源模塊可提供光線。光源模塊的光線可經(jīng)由光耦合模塊傳遞至參考鏡組以及待測(cè)物。光線會(huì)被參考鏡組、待測(cè)物反射后分別形成第一光線以及第二光線。第一光線、第二光線再通過光耦合模塊傳遞至處理單元。處理單元將會(huì)依據(jù)第一光線與第二光線提供調(diào)整信號(hào)。處理單元將調(diào)整信號(hào)傳送至參考鏡組，參考鏡組依據(jù)調(diào)整信號(hào)調(diào)整參考鏡組。
[0009]在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，參考鏡組包括致動(dòng)器以及反射鏡，且致動(dòng)器依據(jù)調(diào)整信號(hào)調(diào)整反射鏡的曲率。
[0010]在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，參考鏡組包括光路調(diào)整單元、多個(gè)參考鏡，光路調(diào)整單元依據(jù)調(diào)整信號(hào)使第二光線與其中一個(gè)參考鏡匹配。
[0011 ] 在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，各個(gè)參考鏡的曲率不同。
[0012]在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，參考鏡組為電濕式曲率透鏡或介電泳式曲率透鏡。
[0013]在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，待測(cè)物為具有多個(gè)曲面的球狀體。
[0014]在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，球狀體為眼球。
[0015]本發(fā)明還可提供一種光學(xué)測(cè)量的方法，其步驟還包括:提供一光線至參考鏡組，提供又一光線至待測(cè)物。該光線被參考鏡組反射后形成第一光線，該又一光線被待測(cè)物反射后形成第二光線。
[0016]第一光線與第二光線產(chǎn)生干涉。判斷干涉是否符合預(yù)定干涉范圍，若否，則依據(jù)干涉產(chǎn)生調(diào)整信號(hào)，參考鏡組依據(jù)調(diào)整信號(hào)調(diào)整參考鏡組。
[0017]在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，參考鏡組依據(jù)調(diào)整信號(hào)調(diào)整參考鏡組的曲率。
[0018]在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，參考鏡組包括致動(dòng)器以及反射鏡，其步驟還包括:致動(dòng)器依據(jù)調(diào)整信號(hào)調(diào)整反射鏡的曲率。
[0019]在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，參考鏡組包括光路調(diào)整單元、多個(gè)參考鏡，各個(gè)參考鏡的曲率不同，其步驟還包括:光路調(diào)整單元依據(jù)調(diào)整信號(hào)使第二光線與其中一個(gè)參考鏡匹配。
[0020]在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，步驟還包括依據(jù)干涉，形成待測(cè)物的待測(cè)物表面的圖像。
[0021]在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，待測(cè)物具有多個(gè)曲面，其步驟還包括:重復(fù)測(cè)量方法以測(cè)量這些曲面。
[0022]在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，步驟還包括:迭加這些曲面形成立體圖像。
[0023]綜上所述，本發(fā)明通過第一光線與第二光線的干涉結(jié)果，調(diào)整參考鏡組的光學(xué)特性，進(jìn)而提高整體測(cè)量的精度，并克服測(cè)量不同曲面、多層體曲面須預(yù)先搭配適合的曲率范圍的參考鏡組的缺點(diǎn)。
【附圖說明】
[0024]圖1為一種已知光學(xué)測(cè)量裝置的示意圖。
[0025]圖2A為本發(fā)明的光學(xué)測(cè)量裝置的第一實(shí)施例的示意圖。
[0026]圖2B為圖2A的參考鏡組放大示意圖。
[0027]圖2C為圖2A的參考鏡組又一放大示意圖。
[0028]圖3為本發(fā)明的光學(xué)測(cè)量裝置步驟流程圖。
[0029]圖4A為本發(fā)明的光學(xué)測(cè)量裝置的參考鏡組的第二實(shí)施例的立體示意圖。
[0030]圖4B、4C為圖4A沿AA、BB剖面示意圖。
[0031]圖4D為圖4A參考鏡組操作示意圖。
[0032]圖5為本發(fā)明的光學(xué)測(cè)量裝置的參考鏡組的第三實(shí)施例的立體示意圖。
[0033]圖6為本發(fā)明的光學(xué)測(cè)量裝置的參考鏡組的第四實(shí)施例的立體示意圖。
[0034]圖7A為本發(fā)明的光學(xué)測(cè)量裝置的參考鏡組的第五實(shí)施例的立體示意圖。
[0035]圖7B為圖7A的又一示意圖。
[0036]圖7C為圖7A的再一示意圖。
[0037]圖8A為本發(fā)明的光學(xué)測(cè)量裝置的參考鏡組的第六實(shí)施例的立體示意圖。
[0038]圖8B為圖8A的又一示意圖。
[0039]圖8C為圖8A的再一示意圖。
[0040]圖9A為本發(fā)明的光學(xué)測(cè)量裝置的參考鏡組的第七實(shí)施例的立體示意圖。
[0041]圖9B為圖9A的又一示意圖。
[0042]圖9C為圖9A的再一示意圖。
[0043][符號(hào)說明]
[0044]1、2:光學(xué)測(cè)量裝置
[0045]10,20:光源模塊
[0046]12、22、32、52、62、72、82、92:參考鏡組
[0047]221:致動(dòng)器
[0048]222、421、721、821、921:反射鏡
[0049]14、24:光耦合模塊
[0050]I6、26:處理單元
[0051]32a、32b、32c、32d、521:參考鏡
[0052]322:光路調(diào)整單元
[0053]522:光纖陣列
[0054]72a、72b、72c:電濕式曲率透鏡
[0055]822、922、923:流體腔室
[0056]AA、BB:割線
[0057]Rl:參考光
[0058]Dl:檢測(cè)光
[0059]O、01:待測(cè)物
[0060]SI?S4:方法步驟
[0061]C:電極板
【具體實(shí)施方式】
[0062]以下將參照相關(guān)附圖，說明依據(jù)本發(fā)明優(yōu)選實(shí)施例的一種光學(xué)測(cè)量裝置以及方法，其中相同的構(gòu)件、步驟將以相同的參照符號(hào)加以說明。而且，以下實(shí)施例及附圖中，與本發(fā)明非直接相關(guān)的元件、步驟均已省略而未繪示；且附圖中各元件間的尺寸關(guān)系僅為了容易了解，并非用以限制實(shí)際比例。
[0063]以下將開始依序說明本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例的一種光學(xué)測(cè)量裝置以及方法。
[0064]首先，請(qǐng)先參考圖2A、圖2B、圖2C以及圖3，圖2A是本發(fā)明的光學(xué)測(cè)量裝置的第一實(shí)施例的示意圖，圖2B、圖2C分別是圖2A的參考鏡組放大示意圖。圖3則為本發(fā)明光學(xué)測(cè)量裝置的步驟流程圖。
[0065]本實(shí)施例的光學(xué)測(cè)量裝置2至少可包括光源模塊20、光耦合模塊24、參考鏡組22以及處理單元26。
[0066]光源模塊20可提供光線。并且如果應(yīng)用于人眼的角膜、視網(wǎng)膜測(cè)量時(shí)，為了顧及被測(cè)量者的舒適程度，則此光源模塊20可為寬帶激光光源。例如，若應(yīng)用于視網(wǎng)膜則