化妝品組合物的穩(wěn)定的制作方法
【專利說明】
[0001] 本申請是中國專利申請201080014767.X的分案申請，該中國專利申請的申請日 為2010年1月28日，發(fā)明名稱是"化妝品組合物的穩(wěn)定"。
技術(shù)領(lǐng)域
[0002] 本發(fā)明設(shè)及選自二苯基丙締酸醋和特定徑基苯基Ξ嗦的UV吸收劑用于穩(wěn)定化妝 品組合物的用途，所述化妝品組合物含有特定的二苯酬衍生物、特定的苯并Ξ挫衍生物和 特定的Ξ嗦衍生物W及選自肉桂酸衍生物和二苯甲酯基甲燒衍生物的UV濾光劑。
【背景技術(shù)】
[0003]眾所周知，紫外福射（光）對人的皮膚有害。根據(jù)波長，UV福射引起不同類型的皮 膚損傷。UV-B福射（約290-320nm)會(huì)引起曬傷并能引起皮膚癌。UV-A福射（約320-400nm) 在使皮膚變黑的同時(shí)，也會(huì)引起曬傷，并引起皮膚癌。此外，UV-B福射的有害作用會(huì)由UV-A 福射加重。
[0004]所W，有效的防曬配料優(yōu)選同時(shí)含有至少一種UV-A和UV-B濾光劑W覆蓋越 290-400皿的整個(gè)范圍，從而防止人的皮膚受到日光的有害影響。
[0005]UV-A的影響主要由自由基來調(diào)節(jié)，例如反應(yīng)性氧物質(zhì)引起不同類型的向細(xì)胞 DNA、類脂和蛋白質(zhì)的降解?？梢娦缘嫩E象通常是長期累積作用的結(jié)果。運(yùn)是皮膚光老化與 UV-A光有關(guān)的原因。還已經(jīng)知道，正常的戶外UV-A福射可W足夠有效W致引起蛋白質(zhì)膠原 和彈性蛋白的斷裂，導(dǎo)致牢固性和皮膚彈性的損失。所W，日常皮膚護(hù)理的UVA防護(hù)是十分 重要的。
[0006] 許多UV-B濾光劑已經(jīng)登記用于防曬制劑中，它們主要是3-亞芐基精腦的衍生物、 水楊酸乙基己基醋和肉桂酸醋，例如對甲氧基肉桂酸2-乙基己基醋。
[0007] -類新的有機(jī)UV濾光劑是微?；内E嗦二-二氨基二苯酬，它們通常與肉桂酸衍 生物和/或二苯甲酯基甲燒衍生物混合使用。
[0008] 不幸的是，運(yùn)種在防曬組合物中組合使用的UV濾光劑的缺點(diǎn)是較快地發(fā)生光降 解，導(dǎo)致喪失防止陽光損傷的作用。
[0009] 所W，本發(fā)明的一個(gè)挑戰(zhàn)是穩(wěn)定運(yùn)些特定的UV濾光劑組合物。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0010] 驚奇的是，發(fā)現(xiàn)使用二苯基丙締酸醋和特定的Ξ嗦衍生物將提高含有特定微?；?Ξ嗦衍生物和選自肉桂酸衍生物和二苯甲酯基甲燒衍生物中的UV吸收劑的組合物的化妝 品和皮膚病理學(xué)（dermatological)配料的穩(wěn)定性。
[0011] 所W，本發(fā)明設(shè)及選自W下的UV吸收劑用于穩(wěn)定化妝品組合物的用途：
[001引 （ai)二苯基丙締酸醋訊
[001引（曰2)下式的徑基苯基；嗦：
[0014] (1)
，其中
[0015] Ri是-O-Rs廣COORe;或-CO-NHRy;
[0016] R2是-0-Rs廣COORg;或-CO-NHRio;
[0017] R3是-0-Rii廣COOR12;或-CO-NHR13;
[001引尺5、Re、尺7、尺8、Rg、Rl。、Rll、Ri2和R13彼此獨(dú)立地是C烷基；
[0019] R4是氨或徑基訊
[0020] X是 0 或 1 ;
[002。 所述化妝品組合物含有選自W下化1)、化2)和化3)的有機(jī)UV吸收劑：
[0022] 化1)下式的二苯酬衍生物：
[0023] 似
*其中
[0024] Ri4和RU彼此獨(dú)立地是；C1-C2。烷基；C2-C2。鏈締基；C3-Ci。環(huán)烷基；C3-Ci。環(huán)締基； 或Ri4和R15與連接的氮原子一起形成5或6元雜環(huán)；
[0025] Πι是 1-4 的數(shù)；
[002引當(dāng)ηι=1時(shí)，R16是飽和或不飽和的雜環(huán)基團(tuán)混基-Ci-Cs烷基；任選地被一個(gè)或 多個(gè)Ci-Ce烷基取代的環(huán)己基；任選地被雜環(huán)基、氨基幾基或Ci-Ce烷基簇基取代的苯基；
[0027] 當(dāng)Πι是2時(shí)，Rle是亞烷基、亞環(huán)烷基亞締基或亞苯基，它們?nèi)芜x地被幾基 或簇基取代；式*-CH2-CSC-CH2-*的基團(tuán)，或Rie與A-起形成下式的二價(jià)基團(tuán)： (2a
其中
[0028] Π2是 1-3 的數(shù)；
[002引當(dāng)Πι是3時(shí)，R16是燒二基；
[0030] 當(dāng)Πι是4時(shí)，R16是燒四基；
[0031] A是;或-Ν化7)-;和
[00礎(chǔ)R。是氨；Ci-Cs烷基；或徑基-Ci-Cs烷基；
[0033] 化2)下式的苯并Ξ挫衍生物：
[0034] 做
，其中
[0035] Τι是任選被苯基取代的Ci-Ci2烷基；和
[0036] 化3)下式的Ξ嗦衍生物：
[0037] (4)
其中
[0038]A是下式的基團(tuán)：(4a)
[0039] Ri都R21彼此獨(dú)立地是氨；Ci-Cis烷基；或Ce-Ci2芳基；
[0040]Ris、Ri9和R2。彼此獨(dú)立地是氨；或式（4c)的基團(tuán)：
[00川其中在式（4a)中，Ris、Ri9和R2。中的至少一個(gè)基團(tuán)是式（4c)的基團(tuán)；
[004引 R22、R23、R24、R25和R26彼此獨(dú)立地是氨淹基；面素；C烷基；Ci-Cis烷氧基； Ce-Ci2芳基；聯(lián)苯基；Ce-Ci2芳氧基；Ci-Cis燒硫基；簇基；-C00M;Ci-Ci廠烷基簇基；氨基幾 基；或單-或二-Ci-Cis烷基氨基；C1-Ci。酷基氨基；-C00H;
[0043]Μ是堿金屬離子；
[0044] X是 1 或 2;和
[004引 y是2-10的數(shù)；
[0046] 并且所述化妝品組合物含有選自W下（Cl)和（C2)的UV濾光劑：
[0047] (Cl)肉桂酸衍生物訊
[004引 （C2)二苯甲酯基甲燒衍生物。
[0049] 根據(jù)對于式（1)化合物中的基團(tuán)的定義，Ci-Cis烷基是直鏈或支化的烷基，例如 甲基，乙基，正丙基，異丙基，正下基，仲下基，叔下基，戊基，異戊基或叔戊基，己 基，2-乙基己基，庚基，辛基，異辛基，壬基，癸基，十一烷基，十二烷基，十四烷基， 十五烷基，十六烷基，十屯烷基或十八烷基。
[0050] 根據(jù)對于式（1)化合物中的基團(tuán)的定義，Ci-Cis烷基可W被W下基團(tuán)取代：甲氧基 乙基，乙氧基丙基，2-乙基己基，徑基乙基，氯丙基，N，N-二乙基氨基丙基，氯基乙基， 苯乙基，芐基，對叔下基苯乙基，對叔辛基苯氧基乙基，3-(2,4-二叔戊基苯氧基）-丙 基，乙氧基幾基甲基-2-(2-?基乙氧基）乙基，或2-巧喃基乙基。
[0051] 根據(jù)對于式（1)化合物中的基團(tuán)的定義，Ci-Cis烷氧基是例如：甲氧基，乙氧基， 正丙氧基，異丙氧基，正下氧基，仲下氧基，叔下氧基，戊氧基，異戊氧基或叔戊氧基， 己氧基，庚氧基，辛氧基，異辛氧基，壬氧基，癸氧基，^^一烷氧基，十二烷氧基，十四烷氧基， 十五烷氧基，十六烷氧基，十屯烷氧基或十八烷氧基。
[0052] 根據(jù)對于式（1)化合物中的基團(tuán)的定義，Ce-Ci。芳基是例如糞基，優(yōu)選苯基。
[0053] 二苯基丙締酸醋（曰1)優(yōu)選選自2-氯基-3, 3-二苯基丙締酸2-乙基己基醋和2-氯 基丙締酸3-(苯并巧喃基）醋，更優(yōu)選選自2-氯基-3, 3-二苯基丙締酸2-乙基己基醋。
[0054] 優(yōu)選的徑基苯基Ξ嗦對應(yīng)于下式：
[0055] (la)
其中
[005引 Rs、Rs和R11彼此獨(dú)立地是Ci-Cis烷基。
[0057] 最優(yōu)選的根據(jù)式（la)的徑基苯基Ξ嗦衍生物是二-乙基己氧基苯酪甲氧基苯基 Ξ嗦。
[0058] 其它優(yōu)選的徑基苯基Ξ嗦對應(yīng)于下式
[0059] (lb)
其中
[0060]Ri是-C00R6或-C0-NHR7;
[0061] Rz是-C00R9或-C0-NHR10;和
[0062]Rs是-C00R12或-C0-NHR13;其中
[006引Re、咕、Rs、Ri。、Ri2和R13彼此獨(dú)立地是C1-Ci2烷基，優(yōu)選2-乙基己基。
[0064] 最優(yōu)選的根據(jù)式（la)的徑基苯基Ξ嗦衍生物是乙基己基Ξ嗦酬和二辛基下酷氨 基Ξ嗦酬。
[0065] 如果在式（2)中（對于二苯酬衍生物化1))的ni優(yōu)選定義為數(shù)字2,則：
[006引 Ri6是Ci_Ci2亞烷基；和
[0067]Ri4、Ri5和A如式似中所定義。
[006引優(yōu)選二苯酬衍生物化1)對應(yīng)于下式
[0069] (2a)
>其中
[0070] Ri4和R15是氨或Ci-Cs烷基。
[0071] 最優(yōu)選，二苯酬衍生物化1)對應(yīng)于下式：
[0072](2b)
々
[0073] 最優(yōu)選的根據(jù)組分化2)的苯并Ξ挫衍生物是2, 2'-甲燒二基二[6-(2H-苯并 Ξ挫-2-基）-4-化4,4-Ξ甲基戊燒-2-基）苯酪]度isotrizole),其對應(yīng)于下式的化合 物：
[0074] (3a)
[007引根據(jù)式似-(4)的二苯酬衍生物化）優(yōu)選W微粒狀態(tài)使用。
[0076] 優(yōu)選的根據(jù)組分化3)的化合物對應(yīng)于下式
[0077]
其中
[007引Ri7、R21、R22、R23和R2勸在式（4)中所定義。
[0079] 最優(yōu)選的是式（4)的化合物，其中Ri郝R21是氨。
[0080] 最優(yōu)選的是下式的化合物：
[0081] (4d)
。
[008引運(yùn)些有機(jī)UV吸收劑化1)、化2)和化3)的特征在于油溶性差并且烙點(diǎn)高。所W，它 們尤其適合W微粒狀態(tài)用做UV吸收劑。
[0083] 它們可W通過任何適合于制備微粒的公知方法制備，例如濕研磨、濕捏合、從合適 的溶劑噴霧干燥、通過超臨界流體（例如C〇2)根據(jù)RESS方法膨脹（超臨界溶液的快速膨 脹），通過從合適的溶劑再沉淀，包括超臨界流體（GASR方法=氣體抗溶劑重結(jié)晶/PCA方法 =用壓縮抗溶劑沉淀）。
[0084] 作為用于制備微溶性微粒有機(jī)化合物的研磨設(shè)備，可W使用例如噴射磨機(jī)、球磨 機(jī)、震動(dòng)磨機(jī)或鍵磨機(jī)，優(yōu)選高速混合磨機(jī)。更優(yōu)選的磨機(jī)是現(xiàn)代球磨機(jī)；運(yùn)些類型的磨機(jī) 的生產(chǎn)者是例如化tzsch(LMZmill)、Drais值CP-Viscoflow或Cosmo)、BilhlerAG(離屯、 磨）或Bachhofer。
[0085] 用于制備微粒有機(jī)UV吸收劑的捏合設(shè)備的例子是典型的曲拐式間歇捏合機(jī)，W 及系列間歇捏合機(jī)（IKA-Werke)或連續(xù)捏合機(jī)（Continua，來自WernerundPfleiderer)。
[0086] 用于本發(fā)明中的微溶性有機(jī)化合物的研磨操作是優(yōu)選用研磨助劑進(jìn)行。
[0087] 分散劑是用做用于所有上述微粒化工藝的低分子量研磨助劑。
[0088] 有用的陰離子、非離子或兩性表面活性劑是在下面的標(biāo)題"特定的分散劑"中公 開。
[0089] 優(yōu)選的用于