專(zhuān)利名稱(chēng)：表面處理裝置及液晶顯示裝置的制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及包含基板的制品的制造技術(shù)，特別是有關(guān)利用旋轉(zhuǎn)體對(duì)基板進(jìn)行表面處理的表面處理技術(shù)。
背景技術(shù)：
作為利用圓盤(pán)型刷對(duì)液晶顯示裝置用的玻璃基板等的被清洗面進(jìn)行刷洗的清洗裝置，比如，公知的有專(zhuān)利文獻(xiàn)1記述的裝置。為了利用清洗刷進(jìn)行刷洗能顯示一定的清洗效果，必須對(duì)清洗刷的壓入量高精度地進(jìn)行調(diào)整。因此，在專(zhuān)利文獻(xiàn)1記述的清洗裝置中，設(shè)置有壓力檢測(cè)面位于高于被清洗面一個(gè)規(guī)定高度Δh的位置的壓力傳感器。
在基板清洗之前，將臂前端的圓盤(pán)型刷按壓到此壓力傳感器的壓力檢測(cè)面上，取得在壓力傳感器的檢測(cè)壓力達(dá)到基準(zhǔn)壓力時(shí)的臂的高度信息X。在基板清洗中，控制臂的驅(qū)動(dòng)軸，以使臂位于比預(yù)先取得的高度信息X低規(guī)定高度Δh的位置。由此，控制圓盤(pán)型刷對(duì)被清洗面的壓入量，以使圓盤(pán)型刷對(duì)被清洗面施加的壓力為基準(zhǔn)壓力。
日本專(zhuān)利特開(kāi)平10-135167號(hào)公報(bào)發(fā)明內(nèi)容但是，在基板清洗中，在清洗刷相對(duì)基板的被清洗面發(fā)生傾斜時(shí)，清洗刷的一個(gè)端部和另一端部對(duì)基板的被清洗面的壓入量會(huì)產(chǎn)生差異。因此，在基板的被清洗面內(nèi)，清洗效果會(huì)產(chǎn)生偏差。
因此，本發(fā)明的目的是提供一種可利用具有多個(gè)線(xiàn)材的旋轉(zhuǎn)體對(duì)被處理面進(jìn)行均勻處理的表面處理裝置。
本發(fā)明提供的表面處理裝置的特征在于包括使具有軸和前端朝向從該軸的外周面離開(kāi)的方向的多個(gè)線(xiàn)材的部件，在圍繞上述軸轉(zhuǎn)動(dòng)的同時(shí)，在使沿著上述軸的方向在基板的一個(gè)面內(nèi)并置的第1及第2導(dǎo)體圖形和上述軸的間隔變窄的方向上被移動(dòng)的驅(qū)動(dòng)單元；以及分別測(cè)定通過(guò)與轉(zhuǎn)動(dòng)中的上述部件的線(xiàn)材的接觸而帶電的上述第1及第2導(dǎo)體圖形的電位的電位測(cè)定單元。
根據(jù)本發(fā)明，可以利用旋轉(zhuǎn)體對(duì)被處理面進(jìn)行均勻的表面處理。


從下面結(jié)合附圖的描述，很容易了解本發(fā)明的這些及其他特點(diǎn)、目的、和優(yōu)點(diǎn)。
圖1為用來(lái)說(shuō)明本發(fā)明的清洗裝置的構(gòu)成的概圖。
圖2為在圖1中說(shuō)明的清洗裝置的概圖，表示從電位測(cè)定器一側(cè)觀察的裝置構(gòu)成圖。
圖3為實(shí)施本發(fā)明之際的調(diào)整用基板的正面圖。
圖4為構(gòu)造與圖3不同的調(diào)整用基板的正面圖。
圖5為用來(lái)說(shuō)明在圖1中說(shuō)明的清洗裝置中各電位計(jì)測(cè)器的輸出信號(hào)的曲線(xiàn)圖。
圖6為用來(lái)與電位計(jì)測(cè)器的檢測(cè)電位相對(duì)應(yīng)說(shuō)明確認(rèn)清洗刷和基板之間的接觸的比例的說(shuō)明圖。
圖7為用來(lái)說(shuō)明本發(fā)明的具體實(shí)施方式
的清洗對(duì)象基板的正面圖。
圖8為表示用來(lái)說(shuō)明本發(fā)明的具體實(shí)施方式
的清洗裝置的構(gòu)成的概圖。
圖9為用來(lái)說(shuō)明根據(jù)圖8的清洗裝置的清洗刷的位置修正的效果的示圖。
圖10為用來(lái)說(shuō)明在圖8的清洗裝置中檢測(cè)清洗對(duì)象基板的翹曲的方法的示圖。
圖11為改變測(cè)定點(diǎn)研究清洗刷的高度和與基板的接觸狀態(tài)的結(jié)果。
圖12為用來(lái)說(shuō)明清洗刷的位置修正處理的方法的流程圖。
圖13為表示本發(fā)明的具體實(shí)施方式
的清洗刷的位置修正處理的方法的流程圖。
圖14為用來(lái)說(shuō)明液晶顯示裝置的制造工序的一部分的流程圖。
具體實(shí)施例方式
下面參照附圖對(duì)本發(fā)明的實(shí)施方式予以說(shuō)明。
首先，對(duì)本實(shí)施方式的調(diào)整用基板予以說(shuō)明。此處，為說(shuō)明方便起見(jiàn)，以調(diào)整用基板的厚度方向?yàn)閆方向，以調(diào)整用基板的兩個(gè)寬度方向?yàn)閄方向及Y方向。
如圖3所示，本實(shí)施方式的調(diào)整用基板30包括由玻璃等形成的板狀的基材32、至少在基材32的一面內(nèi)沿著Y方向以適當(dāng)?shù)拈g隔Δy1形成的多個(gè)導(dǎo)體圖形31A1～31A3。各導(dǎo)體圖形31A1～31A3分別沿著從基材32的一端到另一端沿著Y方向延伸。作為這些導(dǎo)體圖形31A1～31A3的形成材料的具體例，可以舉出的有Al、Cr、Mo、Ta、W、Cu、Ti、Nd、Zr、In、Sn、Zn等。
另外，在圖3中示出的是在基材32上形成3個(gè)導(dǎo)體圖形31A1～31A3的場(chǎng)合，但在基材32上形成的導(dǎo)體圖形不一定必須是3個(gè)。比如，也可以在導(dǎo)體圖形31A1～31A3之間再形成導(dǎo)體圖形。另外，在后述的位置修正處理中，在不需要由電位測(cè)定器的輸出判斷清洗刷的更換時(shí)期等時(shí)，也可以將3個(gè)導(dǎo)體圖形31A1～31A3中的導(dǎo)體圖形31A2減掉。
另外，在圖3中，導(dǎo)體圖形31A1～31A3的形成是從基材32的一端一直到基材32的另一端，但如圖4所示，如果在Y方向上橫切基材32的直線(xiàn)33和全部導(dǎo)體圖形31A’1～31A’3交叉時(shí)，各導(dǎo)體圖形31A’1～31A’3的長(zhǎng)度，也可以比基材32的X方向上的寬度短。
下面，以設(shè)置調(diào)整用基板30代替處理對(duì)象基板的狀態(tài)為例，對(duì)本實(shí)施方式的表面處理裝置的構(gòu)成予以說(shuō)明。另外，此處，舉出清洗裝置作為表面處理裝置的一例。
如圖1及圖2所示，本實(shí)施方式的清洗裝置，具有在X方向上傳送調(diào)整用基板30的基板傳送機(jī)構(gòu)；分開(kāi)用來(lái)使調(diào)整用基板30通過(guò)的間隔而配置的上下一對(duì)輥筒狀清洗刷10A、10B；使各清洗刷10A、10B轉(zhuǎn)動(dòng)及移動(dòng)的清洗刷驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)50；以及檢測(cè)調(diào)整用基板30和清洗刷10A、10B的接觸的接觸檢測(cè)部40。另外，為了說(shuō)明方便起見(jiàn)，在圖1及圖2上，定義與圖3同樣的XYZ的3個(gè)方向。
基板傳送機(jī)構(gòu)具有與調(diào)整用基板30接觸的多組傳送輥筒61以及使各組傳送輥筒61圍繞Y方向軸轉(zhuǎn)動(dòng)的電動(dòng)機(jī)(未圖示)。利用此基板傳送機(jī)構(gòu)，通過(guò)使各組的傳送輥筒61轉(zhuǎn)動(dòng)，可使調(diào)整用基板30在X方向上向著清洗刷10A、10B之間進(jìn)進(jìn)。
各清洗刷10A、10B具有沿著Y方向配置的軸11A、11B和卷附在各軸11A、11B的外周面上的刷洗材12A、12B。各刷洗材12A、12B是在導(dǎo)體圖形31A1～31A3之間，比如，將尼龍(注冊(cè)商標(biāo))、亞克力(丙烯樹(shù)脂)等引起接觸帶電的介電纖維束以適當(dāng)密度編入的布材，各纖維束的毛尖以高精度收攏到適當(dāng)?shù)拈L(zhǎng)度(比如大約1～3cm)。
清洗刷驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)50具有使各清洗刷10A、10B圍繞軸11A、11B的軸心轉(zhuǎn)動(dòng)的電動(dòng)機(jī)(未圖示)；使一側(cè)的清洗刷10A的軸11A的各端部在Z方向上移動(dòng)的調(diào)整用進(jìn)給絲杠51A1、51A2；使另一側(cè)的清洗刷10B的軸11B的各端部在Z方向上移動(dòng)的調(diào)整用進(jìn)給絲杠51B1、51B2；驅(qū)動(dòng)各調(diào)整用進(jìn)給絲杠51A1、51A2、51B1、51B2的電動(dòng)機(jī)52A1、52A2、52B1、52B2。利用這種驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，在使清洗刷10A、10B轉(zhuǎn)動(dòng)的同時(shí)，可利用調(diào)整用進(jìn)給絲杠對(duì)各清洗刷10A、10B的傾斜進(jìn)行調(diào)整。
接觸檢測(cè)部40具有與調(diào)整用基板30的單側(cè)的導(dǎo)體圖形31A1～31A3的個(gè)數(shù)相同的電位測(cè)定器41A1～41A3。這些電位測(cè)定器41A1～41A3與調(diào)整用基板30的導(dǎo)體圖形31A1～31A3每一個(gè)相連接。在此狀態(tài)下，在轉(zhuǎn)動(dòng)中的清洗刷的刷洗材和調(diào)整用基板30的各導(dǎo)體圖形31A1～31A3引起接觸分離(摩擦)時(shí)，各電位測(cè)定器41A1～41A3，可檢測(cè)到由于接觸帶電在導(dǎo)體圖形31A1～31A3上發(fā)生的電位。
因?yàn)樵谡{(diào)整用基板30和清洗刷的刷洗材前端的間隔不均勻時(shí)，各電位測(cè)定器41A1～41A3的檢測(cè)電位的變動(dòng)定時(shí)會(huì)產(chǎn)生時(shí)滯(參照?qǐng)D5)，所以通過(guò)對(duì)各電位測(cè)定器41A1～41A3的檢測(cè)電位進(jìn)行監(jiān)測(cè)，可以判斷調(diào)整用基板30和清洗刷的刷洗材前端的間隔是否不均勻。
下面，對(duì)利用圖3的調(diào)整用基板30的個(gè)清洗刷10A、10B的位置修正處理予以說(shuō)明。
(1)決定用作判斷刷洗材和導(dǎo)體圖形有無(wú)接觸的基準(zhǔn)的電位變動(dòng)幅度(以下稱(chēng)其為基準(zhǔn)幅度)。
圖3的調(diào)整用基板30設(shè)置于基板傳送機(jī)構(gòu)60上，狀態(tài)為導(dǎo)體圖形31A1～31A3的形成面向著上側(cè)，將調(diào)整用基板30傳送到靠近清洗刷10A、10B的手前側(cè)。此時(shí)，清洗刷10A、10B配置于與基板傳送機(jī)構(gòu)60的傳送輥筒61上的調(diào)整用基板30不接觸的適當(dāng)?shù)母叨鹊奈恢谩?br> 其后，調(diào)整用基板30的導(dǎo)體圖形31A1～31A3中的至少一個(gè)導(dǎo)體圖形與接觸檢測(cè)部40的電位測(cè)定器相連接。另外，為方便起見(jiàn)，將導(dǎo)體圖形31A1與電位測(cè)定器41A1相連接。在電位測(cè)定器的連接完成后，在清洗刷10A、10B的轉(zhuǎn)動(dòng)開(kāi)始之后，再度開(kāi)始調(diào)整用基板30的前進(jìn)，在轉(zhuǎn)動(dòng)中的清洗刷10A、10B之間在導(dǎo)體圖形31A1～31A3所在的位置使調(diào)整用基板30停止(參照?qǐng)D1、2)。
于是，通過(guò)對(duì)清洗刷10A的兩側(cè)的調(diào)整用進(jìn)給絲杠51A1、51A2分別進(jìn)行調(diào)整，使清洗刷10A緩慢接近調(diào)整用基板30。當(dāng)電位測(cè)定器41A1的檢測(cè)電位上出現(xiàn)變動(dòng)時(shí)，在使調(diào)整用基板30上升之后，將厚度為0.1mm的間隙規(guī)在導(dǎo)體圖形31A1上滑動(dòng)的同時(shí)插入到調(diào)整用基板30和清洗刷10A之間。
在清洗刷10A的刷洗材12A接觸間隙規(guī)時(shí)，就判斷清洗刷10A的刷洗材12A與導(dǎo)體圖形31A1之間存在物理接觸。這樣，如果在清洗刷10A緩慢接近調(diào)整用基板30的同時(shí)，電位測(cè)定器的電位出現(xiàn)變動(dòng)，就在調(diào)整用基板30上升規(guī)定的距離之后插入規(guī)定厚度的間隙規(guī)，并將這一處理反復(fù)進(jìn)行適當(dāng)?shù)拇螖?shù)。
于是，將出現(xiàn)于電位測(cè)定器41A1中的電位變動(dòng)的每個(gè)幅度，合計(jì)為導(dǎo)體圖形31A1和刷洗材12A的物理性接觸的檢測(cè)次數(shù)，根據(jù)此合計(jì)結(jié)果決定基準(zhǔn)幅度。在圖6中示出對(duì)每個(gè)電位變動(dòng)的幅度各檢測(cè)到10次尼龍制的刷洗材12A和鋁圖形有無(wú)接觸時(shí)的合計(jì)結(jié)果。
根據(jù)此合計(jì)結(jié)果可以了解，在出現(xiàn)大于等于60mV的電位變動(dòng)時(shí)，確認(rèn)了導(dǎo)體圖形31A1和刷洗材12A之間的接觸，但在出現(xiàn)不到60mV的電位變動(dòng)時(shí)，不一定可以確認(rèn)導(dǎo)體圖形31A1和刷洗材12A之間的接觸。所以，可以將在導(dǎo)體圖形為A1、刷洗材是由尼龍形成時(shí)的基準(zhǔn)幅度設(shè)定為60mV。
另外，在利用刷洗材的材質(zhì)和導(dǎo)體圖形的材料的關(guān)系預(yù)先了解基準(zhǔn)幅度時(shí)，不需要執(zhí)行上述的處理。
(2)清洗刷10A的位置修正圖12示出清洗刷10A的位置修正處理的流程圖。
圖3的調(diào)整用基板30設(shè)置于基板傳送機(jī)構(gòu)60上，狀態(tài)為導(dǎo)體圖形31A1～31A3的形成面向著上側(cè)，將調(diào)整用基板30傳送到靠近清洗刷10A、10B的手前側(cè)。此時(shí)，清洗刷10A、10B配置于與基板傳送機(jī)構(gòu)60的傳送輥筒61上的調(diào)整用基板30不接觸的適當(dāng)?shù)母叨鹊奈恢谩?br> 其后，調(diào)整用基板30的導(dǎo)體圖形31A1～31A3與接觸檢測(cè)部40的電位測(cè)定器41A1～41A3各一臺(tái)相連接(S100)。在電位測(cè)定器41A1～41A3的連接完成后，在清洗刷10A、10B的轉(zhuǎn)動(dòng)開(kāi)始之后，再度開(kāi)始調(diào)整用基板30的前進(jìn)，如圖1及圖2所示，在轉(zhuǎn)動(dòng)中的清洗刷10A、10B之間在導(dǎo)體圖形31A1～31A3所在的位置使調(diào)整用基板30停止(S101)。于是，通過(guò)對(duì)清洗刷10A的調(diào)整用進(jìn)給絲杠51A1、51A2分別進(jìn)行調(diào)整，使清洗刷10A緩慢接近調(diào)整用基板30(S102)。
在清洗刷10A接近調(diào)整用基板30的過(guò)程中，操作員在對(duì)各電位測(cè)定器41A1～41A3的檢測(cè)電位進(jìn)行監(jiān)測(cè)，同時(shí)，當(dāng)判斷在至少一個(gè)電位測(cè)定器的檢測(cè)電位上出現(xiàn)大于等于基準(zhǔn)幅度的變動(dòng)時(shí)(S103)，進(jìn)行以下的處理。
在判斷在全部電位測(cè)定器41A1～41A3的檢測(cè)電位上出現(xiàn)大于等于基準(zhǔn)幅度的變動(dòng)時(shí)(S104)，結(jié)束清洗刷10A的位置修正(S106)。
另一方面，在判斷在一部分電位測(cè)定器的檢測(cè)電位上出現(xiàn)大于等于基準(zhǔn)幅度的變動(dòng)時(shí)(S104)，則根據(jù)它是哪個(gè)電位測(cè)定器而借助以下的某一個(gè)處理進(jìn)行清洗刷10A的調(diào)整(S105)。
在只在與導(dǎo)體圖形列的兩端以外的導(dǎo)體圖形31A2相連接的電位測(cè)定器41A2的檢測(cè)電位上出現(xiàn)大于等于基準(zhǔn)幅度的變動(dòng)時(shí)，及只在電位測(cè)定器41A2的檢測(cè)電位上未出現(xiàn)大于等于基準(zhǔn)幅度的變動(dòng)時(shí)，應(yīng)該只有調(diào)整用基板30的中央部附近的導(dǎo)體圖形31A2與清洗刷10A的刷洗材處于接觸或非接觸狀態(tài)。這一點(diǎn)意味著由于長(zhǎng)期使用可能發(fā)生刷洗材12A的毛尖劣化(變形、削短等)。因此，當(dāng)只在電位測(cè)定器41A2的輸出電位上出現(xiàn)大于等于基準(zhǔn)幅度的變動(dòng)時(shí)或不出現(xiàn)時(shí)，操作員必須進(jìn)行清洗刷10A的更換或刷洗材12A的毛尖調(diào)整。
在與導(dǎo)體圖形列的兩端的導(dǎo)體圖形31A1、31A3相連接的電位測(cè)定器41A1、41A3之中，只在任何一個(gè)電位測(cè)定器的檢測(cè)電位上出現(xiàn)大于等于基準(zhǔn)幅度的變動(dòng)時(shí)，應(yīng)該是只與該電位測(cè)定器的連接目標(biāo)的導(dǎo)體圖形引起與清洗刷10A的刷洗材12A的接觸分離。
因此，在任何一個(gè)電位測(cè)定器的檢測(cè)電位上出現(xiàn)大于等于基準(zhǔn)幅度的變動(dòng)時(shí)，操作員只停止清洗刷10A的調(diào)整用進(jìn)給絲杠51A1、51A2中的、該電位測(cè)定器連接的導(dǎo)體圖形側(cè)的調(diào)整用進(jìn)給絲杠的調(diào)整。由此，將與調(diào)整用基板30接觸中的清洗刷10A的一端部的位置固定，只使與調(diào)整用基板30未接觸的清洗刷10A的另一端部更接近調(diào)整用基板30。
由此，即使是其它的電位測(cè)定器41A2、41A3的檢測(cè)電位也出現(xiàn)大于等于基準(zhǔn)幅度的變動(dòng)(S104)，由于從清洗刷10A的一個(gè)端部到另一個(gè)端部的刷洗材前端與調(diào)整用基板30接觸(即由于調(diào)整用基板30和刷洗材前端的間隔是均勻的)，也停止對(duì)繼續(xù)調(diào)整中的調(diào)整用進(jìn)給絲杠的調(diào)整(S106)。另外，其后，也可以通過(guò)使清洗刷10A的調(diào)整用進(jìn)給絲杠51A1、51A2轉(zhuǎn)動(dòng)同樣的轉(zhuǎn)數(shù)，使清洗刷10A離開(kāi)調(diào)整用基板30后，再次重復(fù)S102～S106。
比如，如圖5所示，在兩側(cè)的調(diào)整用進(jìn)給絲杠51A1、51A2的調(diào)整中，在只有電位測(cè)定器41A3的檢測(cè)電位上出現(xiàn)大于等于基準(zhǔn)幅度的變動(dòng)時(shí)，由于只有與電位測(cè)定器41A3相連接的導(dǎo)體圖形31A3引起與清洗刷10A的刷洗材12A的接觸分離，在該定時(shí)A，只停止導(dǎo)體圖形31A3側(cè)的調(diào)整用進(jìn)給絲杠51A2的調(diào)整。其后，還只繼續(xù)進(jìn)行另一側(cè)的調(diào)整用進(jìn)給絲杠51A1的調(diào)整，并且在全部電位測(cè)定器41A1、41A2的檢測(cè)電位上出現(xiàn)大于等于基準(zhǔn)幅度的變動(dòng)時(shí)，在該定時(shí)C也停止調(diào)整用進(jìn)給絲杠51A1的調(diào)整。
由此，由于對(duì)清洗刷10A的姿勢(shì)進(jìn)行修正使相對(duì)調(diào)整用基板30的傾斜變小，可以使清洗刷10A的刷洗材12A的前端與調(diào)整用基板30在Y方向整個(gè)寬度上的接觸都一樣。
另外，在圖4中，示出的是由于與刷洗材的接觸帶電在導(dǎo)體圖形上發(fā)生負(fù)電位的場(chǎng)合，由于與刷洗材的接觸帶電在導(dǎo)體圖形上發(fā)生的電位的極性，根據(jù)刷洗材的材質(zhì)和導(dǎo)體圖形的材質(zhì)的組合而不同。比如，在導(dǎo)體圖形由A1、刷洗材由尼龍形成時(shí)，在導(dǎo)體圖形上發(fā)生負(fù)電位，而在導(dǎo)體圖形由Cr形成，刷洗材由尼龍形成時(shí)，在導(dǎo)體圖形上發(fā)生正電位。
(3)清洗刷10B的位置修正如果清洗刷10A的位置修正結(jié)束，在使調(diào)整用基板30后退后，使調(diào)整用基板30的表里反轉(zhuǎn)，執(zhí)行與清洗刷10A的位置修正同樣的處理。由此，由于對(duì)清洗刷10B的姿勢(shì)進(jìn)行修正使相對(duì)調(diào)整用基板30的傾斜變小，可以使清洗刷10B的姿勢(shì)進(jìn)行修正。另外，在使用在兩個(gè)側(cè)面上形成導(dǎo)體圖形的調(diào)整用基板時(shí)，此時(shí)，不需要使調(diào)整用基板的表里反轉(zhuǎn)。
如果在清洗對(duì)象基板的清洗處理之前預(yù)先執(zhí)行這種清洗刷10A、10B的位置修正處理，可以在清洗對(duì)象基板的清洗中，使各清洗刷10A、10B的刷洗材12A、12B的前端與清洗對(duì)象基板的被清洗面一樣接觸。并且，在從位置修正后的清洗刷位置起，使清洗刷向著清洗對(duì)象基板移動(dòng)與預(yù)定的壓入量相當(dāng)?shù)木嚯x時(shí)，也可以抑制由于機(jī)械誤差引起的相對(duì)清洗對(duì)象基板的清洗刷的壓入量的偏差。所以，由于清洗對(duì)象基板的被清洗面內(nèi)的清洗效果的偏差受到抑制，可以對(duì)清洗對(duì)象基板的被清洗面進(jìn)行均勻的良好的清洗。
為了確認(rèn)這一效果，對(duì)置于同一環(huán)境下的2個(gè)基板(730mm寬度)，在同樣的清洗條件下，利用根據(jù)本實(shí)施方式的位置修正前后的清洗刷進(jìn)行刷洗，可計(jì)算出由下式定義的異物去除率。
異物去除率＝(清洗前異物數(shù)-清洗后異物數(shù))/清洗前異物數(shù)其中，清洗前異物數(shù)是在清洗前的基板的外觀檢查中檢測(cè)出的異物數(shù)，而清洗后異物數(shù)是在清洗后的基板的外觀檢查中檢測(cè)出的異物數(shù)。
其結(jié)果，與利用位置修正后的清洗刷清洗后的基板的異物去除率約為98％相對(duì)，利用位置修正前的清洗刷清洗后的基板的異物去除率約為76％。產(chǎn)生這種差異的原因是在利用位置修正前的清洗刷清洗的基板表面的單側(cè)區(qū)域中存在未清洗部分。
由以上的結(jié)果，在執(zhí)行清洗刷的位置修正時(shí)，確認(rèn)可以對(duì)清洗對(duì)象基板的被清洗面進(jìn)行均勻良好的清洗。另外，在本實(shí)施方式中，無(wú)論是以上側(cè)清洗刷10A、下側(cè)清洗刷10B的順序進(jìn)行位置修正，還是以下側(cè)清洗刷10B、上側(cè)清洗刷10A的順序進(jìn)行位置修正，都可以獲得同樣的效果。另外，在使用在兩面上形成導(dǎo)體圖形的調(diào)整用基板時(shí)，通過(guò)將調(diào)整用基板的兩面的導(dǎo)體圖形分別與電位測(cè)定器相連接，在對(duì)兩個(gè)清洗刷10B、10A這兩者一起進(jìn)行位置修正時(shí)，也可得到同樣的效果。
在上述中，是在清洗對(duì)象基板的清洗處理之前，利用調(diào)整用基板進(jìn)行清洗刷10A、10B的位置修正，但如果在清洗對(duì)象基板上形成導(dǎo)體圖形作為T(mén)EG(測(cè)試單元組)時(shí)，也可以在清洗對(duì)象基板的清洗處理中進(jìn)行清洗刷10A、10B的位置修正。下面對(duì)在清洗對(duì)象基板的清洗處理中進(jìn)行清洗刷10A、10B的位置修正的場(chǎng)合予以說(shuō)明。此處，是以在一個(gè)面內(nèi)配置4個(gè)面板的基板作為清洗對(duì)象基板的場(chǎng)合舉例說(shuō)明的。
在圖7中示出清洗對(duì)象基板70，而在圖8中示出清洗清洗對(duì)象基板70的清洗裝置的概略構(gòu)成。另外，為了說(shuō)明方便起見(jiàn)，在圖7中定義清洗對(duì)象基板70的厚度方向?yàn)閆方向，清洗對(duì)象基板70的兩個(gè)寬度方向?yàn)閄方向及Y方向，在圖8中，也與圖7一樣定義三個(gè)方向XYZ。
在清洗對(duì)象基板70的一個(gè)面內(nèi)，在對(duì)置的邊緣區(qū)域形成分別沿著Y方向每隔適當(dāng)?shù)拈g隔Δy2配置的多個(gè)焊盤(pán)72B1～72B3、72A1～72A3以及圍繞面板的配置區(qū)域71將對(duì)應(yīng)的焊盤(pán)進(jìn)行連接的布線(xiàn)72C1～72C3。這些焊盤(pán)72A1～72A3、72B1～72B3、72C1～72C3的材質(zhì)可以與調(diào)整用基板30的導(dǎo)體圖形的材質(zhì)相同。于是，在圖7中雖然未示出，但在清洗對(duì)象基板70的另一個(gè)面上也形成同樣的焊盤(pán)72a1～72a3、72b1～72b3以及布線(xiàn)72c1～72c3。
另外，在圖7中，示出的是在對(duì)置的邊緣區(qū)域中各形成3個(gè)焊盤(pán)的清洗對(duì)象基板70，但在焊盤(pán)之間還可以形成焊盤(pán)。另外，在清洗處理中不需要由電位測(cè)定器的輸出判斷清洗刷10A、10B的更換時(shí)期等時(shí)，也可以將3個(gè)焊盤(pán)中的焊盤(pán)72A2、72a2、72B2、72b2減掉。
清洗這種清洗對(duì)象基板70的清洗裝置，如圖8所示，具有在X方向上傳送清洗對(duì)象基板70的基板傳送機(jī)構(gòu)(未圖示)；分開(kāi)用來(lái)使清洗對(duì)象基板70通過(guò)的間隔而配置的上下一對(duì)輥筒狀清洗刷10A、10B；使各清洗刷10A、10B轉(zhuǎn)動(dòng)及移動(dòng)的清洗刷驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)50；檢測(cè)清洗對(duì)象基板70和清洗刷10A、10B的一端接觸的接觸檢測(cè)部40′以及信息處理裝置80。
由于這些構(gòu)成中的基板傳送機(jī)構(gòu)、輥筒狀清洗刷10A、10B及清洗刷驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)50與圖1及圖2的清洗裝置中的相同，此處將具體構(gòu)成的圖示及說(shuō)明予以省略。
接觸檢測(cè)部40′，包含檢測(cè)清洗對(duì)象基板70的前端部到達(dá)清洗刷10A、10B之間的位置傳感器43；具有在行進(jìn)中的清洗對(duì)象基板70的前端部(基板的進(jìn)行方向端部)到達(dá)清洗刷10A、10B之間時(shí)與清洗對(duì)象基板70的后端部(與前端部對(duì)置的端部)一側(cè)的各焊盤(pán)72A1～72A3、72a1～72a3對(duì)置的導(dǎo)電針的上下一對(duì)探針42A、42a；使探針42A、42a在Z方向上往復(fù)移動(dòng)的探針移動(dòng)機(jī)構(gòu)44；與探針42A、42a的各針相連接的電位測(cè)定器41A1′～41A3′、41a1′～41a3′以及控制整個(gè)清洗裝置的信息處理裝置80。此處，探針42A、42a比清洗刷10A、10B在朝向基板進(jìn)行方向配置更靠前的原因是為了防止探針42A、42a的針與清洗液接觸。
在此清洗裝置中，在清洗對(duì)象基板70的清洗處理中，通過(guò)信息處理裝置80的控制，進(jìn)行如圖13所示的處理。
在傳送中的清洗對(duì)象基板70的前端部被位置傳感器43檢測(cè)到時(shí)，信息處理裝置80，通過(guò)對(duì)基板移動(dòng)機(jī)構(gòu)的控制，使清洗對(duì)象基板70暫停(S110)。由此，清洗對(duì)象基板70的一端側(cè)的焊盤(pán)72B1～72B3、72b1～72b3的列(以下稱(chēng)其為前端側(cè)焊盤(pán)列)位于轉(zhuǎn)動(dòng)中的清洗刷10A、10B之間，清洗對(duì)象基板70的另一端側(cè)的焊盤(pán)72A1～72A3、72a1～72a3的列(以下稱(chēng)其為后端側(cè)焊盤(pán))位于探針42A、42a的針尖之間。
在此狀態(tài)下，信息處理裝置80，通過(guò)對(duì)探針移動(dòng)機(jī)構(gòu)44進(jìn)行控制，使探針42A、42a的針?lè)謩e與清洗對(duì)象基板70的兩面內(nèi)的前端側(cè)焊盤(pán)列72A1～72A3、72a1～72a3相接觸(S111)。
其后，信息處理裝置80，通過(guò)再對(duì)清洗刷驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)50進(jìn)行控制，使清洗刷10A、10B向清洗對(duì)象基板70側(cè)移動(dòng)，一直到在至少一個(gè)電位測(cè)定器的檢測(cè)電位上出現(xiàn)大于等于基準(zhǔn)幅度的變動(dòng)(即一直到基板兩面的前端側(cè)焊盤(pán)列的焊盤(pán)72A1～72A3、72a1～72a3的至少一個(gè)與刷洗材的前端接觸)(S112、S113)。
其結(jié)果，在信息處理裝置80判斷在全部電位測(cè)定器41A1～41A3、41a1～41a3的檢測(cè)電位上出現(xiàn)大于等于基準(zhǔn)幅度的變動(dòng)時(shí)(S114)，即，在判斷轉(zhuǎn)動(dòng)中的清洗刷10A、10B的刷洗材12A、12B的前端與清洗對(duì)象基板70的Y方向整個(gè)寬度相接觸時(shí)，通過(guò)對(duì)探針移動(dòng)機(jī)構(gòu)及基板移動(dòng)機(jī)構(gòu)的控制，在使探針42A、42a離開(kāi)清洗對(duì)象基板70之后，再度開(kāi)始清洗對(duì)象基板70的前進(jìn)。由此，清洗對(duì)象基板70通過(guò)轉(zhuǎn)動(dòng)中的清洗刷10A、10B之間，清洗對(duì)象基板70受到清洗(S116)。
另一方面，在信息處理裝置80判斷在一部分電位測(cè)定器的輸出電位上出現(xiàn)大于等于基準(zhǔn)幅度的變動(dòng)時(shí)(S114)，即在轉(zhuǎn)動(dòng)中的清洗刷10A、10B的刷洗材12A、12B的前端和清洗對(duì)象基板70的間隔不均勻時(shí)，執(zhí)行以下的處理(S115)。
在只在與清洗對(duì)象基板70的兩面內(nèi)的后端側(cè)焊盤(pán)列的兩端焊盤(pán)72A1、72A3、72a1、72a3以外的72A2、72a2接觸中的針相連接的電位測(cè)定器41A2′、41a2′中的兩個(gè)或只在一個(gè)上出現(xiàn)或未出現(xiàn)大于等于基準(zhǔn)幅度的電壓變動(dòng)時(shí)，由于長(zhǎng)期使用可能發(fā)生刷洗材12A的劣化(變形、削短等)，信息處理裝置80利用聲音、圖像等輸出警告。由此，操作員可以把握清洗刷是處于更換時(shí)期或刷洗材的毛尖調(diào)整時(shí)期。
另外，在與清洗對(duì)象基板70的一個(gè)面內(nèi)的后端側(cè)焊盤(pán)列的兩端焊盤(pán)72A1、72A3接觸中的針相連接的電位測(cè)定器41A1′、41A3′之中，只有一個(gè)出現(xiàn)大于等于基準(zhǔn)幅度的電位變動(dòng)時(shí)，信息處理裝置80通過(guò)控制清洗刷驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)50，只使調(diào)整用進(jìn)給絲杠52A1、52A2中的、出現(xiàn)大于等于基準(zhǔn)幅度的電位變動(dòng)的電位測(cè)定器的連接對(duì)象的焊盤(pán)側(cè)的調(diào)整用進(jìn)給絲杠的調(diào)整停止。
同樣，在與清洗對(duì)象基板70的另一個(gè)面內(nèi)的后端側(cè)焊盤(pán)列的兩端焊盤(pán)72a1、72a3接觸中的針相連接的電位測(cè)定器41a1′、41a3′之中，只有一個(gè)出現(xiàn)大于等于基準(zhǔn)幅度的電位變動(dòng)時(shí)，信息處理裝置80通過(guò)控制清洗刷驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)50，只使在調(diào)整用進(jìn)給絲杠52B1、52B2中的、出現(xiàn)大于等于基準(zhǔn)幅度的電位變動(dòng)的電位測(cè)定器的連接對(duì)象的焊盤(pán)側(cè)的調(diào)整用進(jìn)給絲杠的調(diào)整停止。
與清洗對(duì)象基板70處于接觸中的清洗刷的一端部的位置不動(dòng)，只有與清洗對(duì)象基板70未接觸的清洗刷的另一端部還緩慢地接近清洗對(duì)象基板70。其結(jié)果，如果在與后端側(cè)焊盤(pán)列的全部焊盤(pán)相接觸的針的連接對(duì)象的電位測(cè)定器的檢測(cè)電位上出現(xiàn)大于等于基準(zhǔn)幅度的變動(dòng)時(shí)，信息處理裝置80，通過(guò)對(duì)清洗刷驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)50進(jìn)行控制，使清洗刷10A、10B從此時(shí)的清洗刷10A、10B的位置(原點(diǎn))起向著清洗對(duì)象基板70側(cè)移動(dòng)與預(yù)定的壓入量相當(dāng)?shù)木嚯x。由此，對(duì)于相對(duì)清洗對(duì)象基板70的清洗刷10A、10B的壓入量進(jìn)行再設(shè)定。
其后，信息處理裝置80，通過(guò)對(duì)探針移動(dòng)機(jī)構(gòu)44及基板移動(dòng)機(jī)構(gòu)進(jìn)行控制，在使探針42A、42B離開(kāi)清洗對(duì)象基板70之后，再度開(kāi)始清洗對(duì)象基板70的前進(jìn)。由此，清洗對(duì)象基板70通過(guò)轉(zhuǎn)動(dòng)中的清洗刷10A、10B之間，清洗對(duì)象基板70受到清洗(S116)。
根據(jù)這種處理，在對(duì)各個(gè)清洗對(duì)象基板的清洗處理前，對(duì)清洗對(duì)象基板和清洗刷的間隔不均勻進(jìn)行修正而對(duì)清洗刷對(duì)清洗對(duì)象基板的壓入量進(jìn)行再調(diào)整。因此，即使是對(duì)多個(gè)清洗對(duì)象基板進(jìn)行連續(xù)清洗，也可通過(guò)對(duì)清洗刷驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)50進(jìn)行控制而抑制清洗對(duì)象基板之間的清洗不均勻。
為了確認(rèn)此效果，在一邊對(duì)清洗刷10A、10B進(jìn)行位置修正的同時(shí)，對(duì)多個(gè)清洗對(duì)象基板(730mm寬)70進(jìn)行連續(xù)清洗，每當(dāng)結(jié)束10000個(gè)清洗對(duì)象基板70的清洗處理之后，測(cè)定原點(diǎn)位置的清洗刷10A、10B和清洗對(duì)象基板70之間的間隔。另外，作為比較例，在不對(duì)清洗刷10A、10B進(jìn)行位置修正的情況下，對(duì)多個(gè)清洗對(duì)象基板(730mm寬)70進(jìn)行連續(xù)清洗，每當(dāng)結(jié)束10000個(gè)清洗對(duì)象基板70的清洗處理之后，測(cè)定原點(diǎn)位置的清洗刷10A、10B和清洗對(duì)象基板70之間的間隔。
其結(jié)果，確認(rèn)了在不對(duì)清洗刷10A、10B進(jìn)行位置修正的情況下對(duì)多個(gè)清洗對(duì)象基板70進(jìn)行連續(xù)清洗時(shí)，如圖9的曲線(xiàn)92所示，隨著清洗處理完畢的清洗對(duì)象基板70的數(shù)目變大，原點(diǎn)位置的清洗刷10A、10B和清洗對(duì)象基板70的間隔變大，與此相對(duì)，在一邊對(duì)清洗刷10A、10B進(jìn)行位置修正的同時(shí)對(duì)多個(gè)清洗對(duì)象基板70進(jìn)行連續(xù)清洗時(shí)，如圖9的曲線(xiàn)91所示，即使是清洗處理完畢的清洗對(duì)象基板70的數(shù)目變大，原點(diǎn)位置的清洗刷10A、10B和清洗對(duì)象基板70的間隔也幾乎不變大。由此可知，上述效果得到確認(rèn)。
另外，根據(jù)圖8的清洗裝置，也可以通過(guò)以下的方式檢查清洗對(duì)象基板70是否發(fā)生翹曲。信息處理裝置80，在對(duì)探針42A的針加壓壓在清洗對(duì)象基板70的焊盤(pán)72A1～72A3的狀態(tài)下，一邊使位置修正完畢的清洗刷10A轉(zhuǎn)動(dòng)的同時(shí)，一邊使其緩慢接近清洗對(duì)象基板70。其結(jié)果，在只有一部分電位測(cè)定器上出現(xiàn)大于等于基準(zhǔn)幅度的電位變動(dòng)時(shí)，信息處理裝置80，判斷清洗對(duì)象基板70部分地與清洗刷10A接觸而輸出在清洗對(duì)象基板70上發(fā)生翹曲的消息。此外，信息處理裝置80，在使清洗刷10A向清洗對(duì)象基板70側(cè)移動(dòng)而在全部電位測(cè)定器上出現(xiàn)大于等于基準(zhǔn)幅度的電位變動(dòng)時(shí)，就計(jì)算出從該時(shí)的清洗刷的位置起到在一部分電位測(cè)定器上出現(xiàn)大于等于基準(zhǔn)幅度的電位變動(dòng)時(shí)的清洗刷的位置止的間隔，并將該計(jì)算結(jié)果作為表示清洗對(duì)象基板70的翹曲程度的信息輸出。
在圖11中示出730mm寬度的清洗對(duì)象基板70的檢測(cè)結(jié)果。在圖11中，清洗刷的高度表示離開(kāi)清洗對(duì)象基板70的程度那樣大的值，與各焊盤(pán)72A1～72A3對(duì)應(yīng)的列中示出的“接觸”及“非接觸”表示與焊盤(pán)處于接觸中的針?biāo)B接的電位計(jì)測(cè)器上出現(xiàn)或未出現(xiàn)大于等于規(guī)定幅度的電位變動(dòng)。在得到這種檢測(cè)結(jié)果時(shí)，信息處理裝置80，就輸出內(nèi)容為在清洗對(duì)象基板70中焊盤(pán)72A2的位置向著清洗刷10A側(cè)產(chǎn)生0.4mm的翹曲凸出的消息。
另外，此處，舉出的兩個(gè)示例是以輥筒狀清洗刷的位置修正為例，不過(guò)對(duì)于圓盤(pán)型清洗刷的傾斜也可以利用同樣的位置修正進(jìn)行修正。就是說(shuō)，在圓盤(pán)型清洗刷的轉(zhuǎn)動(dòng)軸相對(duì)基板表面傾斜的情況下，當(dāng)使轉(zhuǎn)動(dòng)中的圓盤(pán)型清洗刷緩慢接近基板表面時(shí)，由于基板表面的規(guī)定區(qū)域最先與刷洗材接觸，與輥筒型清洗刷一樣，可以利用在基板表面上形成的導(dǎo)體和刷洗材的接觸帶電進(jìn)行位置修正。
不過(guò)，在上述中，也利用基板和轉(zhuǎn)動(dòng)中的清洗刷的刷洗材的接觸帶電判斷清洗刷的更換時(shí)期等，但也可以利用探針的針和轉(zhuǎn)動(dòng)中的清洗刷10A、10B的刷洗材的接觸帶電進(jìn)行清洗刷的更換時(shí)期等的判斷。此時(shí)，比如，如圖10所示，在圖8的清洗裝置中，還設(shè)置與接觸檢測(cè)部40′同樣構(gòu)成的接觸檢測(cè)部，在此接觸檢測(cè)部的2個(gè)探針42A′、42a′之中，一側(cè)的探針42A′可配置于使全部針的前端位于與清洗刷10A的軸11A相距為規(guī)定的間隔的位置，而另一側(cè)的探針42a′可配置于使全部針的前端位于與清洗刷10B的軸11b相距為規(guī)定的間隔的位置。
于是，比如，也可以在1個(gè)清洗對(duì)象基板的清洗結(jié)束后，在下一個(gè)清洗對(duì)象基板被位置傳感器43檢測(cè)到之前的時(shí)間等之中，信息處理裝置80，使探針42A′、42a′向著清洗刷10A、10B側(cè)移動(dòng)，一直到對(duì)于各清洗刷10A、10B至少有一個(gè)電位測(cè)定器上出現(xiàn)大于等于基準(zhǔn)幅度的電位變動(dòng)為止(各探針42A′、42a′中的至少一根針與清洗刷10A、10B接觸為止)。
其結(jié)果，無(wú)論是在哪一側(cè)的清洗刷對(duì)應(yīng)的電位測(cè)定器之中，只在一部分電位測(cè)定器上出現(xiàn)大于等于基準(zhǔn)幅度的電位變動(dòng)時(shí)，由于長(zhǎng)期使用可能發(fā)生刷洗材的劣化(變形、削短等)，信息處理裝置80，可以利用聲音、圖像等輸出警告。
最后，對(duì)本實(shí)施方式的清洗裝置的用途予以說(shuō)明。
在圖14中示出液晶顯示裝置的制造工序的一部分。在液晶顯示裝置的制造工序中包含多個(gè)清洗工序。本實(shí)施方式的清洗裝置，比如，就可應(yīng)用于這些清洗工序。具體言之，可以應(yīng)用于接收基板的清洗處理工序(S120)、成膜處理(S122)前的基板的清洗處理工序(S123)、光刻工序(S124～S129)前的基板的清洗工序(S)、檢查(S131)的清洗工序(S130)中的任何一個(gè)。
在將本實(shí)施方式的清洗裝置應(yīng)用于液晶顯示裝置的制造工序的清洗工序時(shí)，由于可以對(duì)基板進(jìn)行均勻的良好的清洗，可以使液晶顯示裝置的制造工序的成品率提高。另外，本實(shí)施方式的清洗裝置，不限于液晶顯示裝置的制造工序，只要包含基板的清洗處理，可以應(yīng)用于任何制品的制造工序。
以上，作為應(yīng)用例舉出的是清洗裝置，但本發(fā)明也可以應(yīng)用于清洗裝置以外的場(chǎng)合，只要是利用旋轉(zhuǎn)體對(duì)基板表面進(jìn)行處理的表面處理裝置即可。比如，也可以應(yīng)用于將起毛的布材卷附于輥筒上對(duì)基板表面進(jìn)行摩擦的摩擦裝置。
雖然對(duì)本發(fā)明只就幾個(gè)實(shí)施方式進(jìn)行了說(shuō)明，但應(yīng)該理解，在不脫離由后附的權(quán)利要求的范圍的情況下可進(jìn)行各種改變和修改。因此，本發(fā)明并不受限于此處所描述和示出的細(xì)節(jié)，而是應(yīng)覆蓋后附的權(quán)利要求的范圍內(nèi)的一切改變和修改。
權(quán)利要求
1.一種表面處理裝置，其特征在于包括使具有軸和前端朝向從該軸的外周面離開(kāi)的方向的多個(gè)線(xiàn)材的部件，在圍繞上述軸轉(zhuǎn)動(dòng)的同時(shí)，在使沿著上述軸的方向在基板的一個(gè)面內(nèi)并置的第1及第2導(dǎo)體圖形和上述軸的間隔變窄的方向上被移動(dòng)的驅(qū)動(dòng)單元；以及分別測(cè)定通過(guò)與轉(zhuǎn)動(dòng)中的上述部件的線(xiàn)材的接觸而帶電的上述第1及第2導(dǎo)體圖形的電位的電位測(cè)定單元。
2.如權(quán)利要求1所述的表面處理裝置，其特征在于包括具有以與上述第1及第2導(dǎo)體圖形的間隔相應(yīng)的間隔并置的第1及第2導(dǎo)體部件的探針；以及在使上述第1導(dǎo)體圖形和上述第1導(dǎo)體部件的間隔及上述第2導(dǎo)體圖形和上述第2導(dǎo)體部件的間隔變窄的方向上使上述探針移動(dòng)的探針移動(dòng)單元；上述電位測(cè)定單元，對(duì)與上述第1導(dǎo)體部件接觸中的第1導(dǎo)體圖形的電位、及與上述第2導(dǎo)體部件接觸中的第2導(dǎo)體圖形的電位分別進(jìn)行測(cè)定。
3.如權(quán)利要求2所述的表面處理裝置，其特征在于包括在與上述軸相交的方向上傳送上述基板的傳送單元；以及檢測(cè)到達(dá)上述第1及第2導(dǎo)體圖形與上述第1及第2導(dǎo)體部件的并置和上述軸相對(duì)置的位置的上述基板的基板檢測(cè)單元；在上述基板檢測(cè)單元檢測(cè)到上述基板時(shí)，上述探針移動(dòng)單元使上述探針移動(dòng)，而上述驅(qū)動(dòng)單元使上述部件移動(dòng)。
4.如權(quán)利要求1所述的表面處理裝置，其特征在于在上述第1及第2導(dǎo)體圖形之間形成由于與轉(zhuǎn)動(dòng)中的上述部件的線(xiàn)材接觸而帶電的第3導(dǎo)體圖形時(shí)，上述電位測(cè)定單元測(cè)定上述第1～第3圖形的電位。
5.如權(quán)利要求1所述的表面處理裝置，其特征在于包括在轉(zhuǎn)動(dòng)中的上述部件的移動(dòng)中，在上述第1導(dǎo)體圖形的電位比上述第2導(dǎo)體圖形的電位更早出現(xiàn)大于等于基準(zhǔn)幅度的變動(dòng)時(shí)，控制上述驅(qū)動(dòng)單元，使上述部件姿勢(shì)相對(duì)于形成上述第1及第2導(dǎo)體圖形的上述面改變的控制單元。
6.如權(quán)利要求5所述的表面處理裝置，其特征在于在轉(zhuǎn)動(dòng)中的上述部件的移動(dòng)中，在上述第1導(dǎo)體圖形的電位比上述第2導(dǎo)體圖形的電位更早出現(xiàn)大于等于基準(zhǔn)幅度變動(dòng)時(shí)，上述驅(qū)動(dòng)單元通過(guò)對(duì)上述控制單元的控制，使上述軸的兩端部中的與上述第2導(dǎo)體圖形相比更靠近上述第1導(dǎo)體圖形的一側(cè)的一端部停止移動(dòng)，而使與上述第1導(dǎo)體圖形相比更靠近上述第2導(dǎo)體圖形的一側(cè)的另一端部接近上述基板。
7.一種表面處理裝置，其特征在于包括使具有軸和前端朝向從該軸的外周面離開(kāi)的方向的多個(gè)線(xiàn)材的部件圍繞上述軸轉(zhuǎn)動(dòng)的驅(qū)動(dòng)單元；具有沿著上述軸的方向并置的多個(gè)導(dǎo)體部件的探針；在使上述各導(dǎo)體部件的前端和上述軸的間隔變窄的方向上使上述探針移動(dòng)的探針移動(dòng)單元；以及分別測(cè)定通過(guò)與轉(zhuǎn)動(dòng)中的上述部件的線(xiàn)材的接觸而在上述各導(dǎo)體部件上產(chǎn)生的電位的電位測(cè)定單元。
8.一種液晶顯示裝置的制造方法，該液晶顯示裝置包含基板，其特征在于包括在使具有軸和前端朝向從該軸的外周面離開(kāi)的方向的多個(gè)線(xiàn)材的轉(zhuǎn)動(dòng)中的部件，接近沿著該部件的轉(zhuǎn)動(dòng)軸在上述基板或調(diào)整用基板的第1面內(nèi)并置的第1及第2導(dǎo)體圖形，同時(shí)，分別測(cè)定通過(guò)與轉(zhuǎn)動(dòng)中的上述部件的接觸而帶電的上述第1及第2導(dǎo)體圖形的電位的測(cè)定處理；在轉(zhuǎn)動(dòng)中的上述部件的移動(dòng)中，在上述第1導(dǎo)體圖形的電位比上述第2導(dǎo)體圖形的電位更早出現(xiàn)大于等于基準(zhǔn)幅度的變動(dòng)時(shí)，使上述部件的姿勢(shì)相對(duì)于上述第1面改變的修正處理；以及在進(jìn)行上述修正處理之后，在使轉(zhuǎn)動(dòng)中的上述部件和上述基板相接觸的同時(shí)，使轉(zhuǎn)動(dòng)中的上述部件和上述基板相對(duì)移動(dòng)，對(duì)上述基板的表面進(jìn)行處理的基板表面處理。
9.如權(quán)利要求8所述的液晶顯示裝置的制造方法，其特征在于在使上述部件從上述修正處理后的上述部件的位置移動(dòng)與預(yù)定的推壓量相應(yīng)的距離的狀態(tài)下，對(duì)上述基板的表面進(jìn)行處理。
10.一種液晶顯示裝置的制造方法，該液晶顯示裝置包含基板，其特征在于包括在使具有軸和前端朝向從該軸的外周面離開(kāi)的方向的多個(gè)線(xiàn)材的轉(zhuǎn)動(dòng)中的部件的上述線(xiàn)材與上述基板相接觸，對(duì)上述基板的表面進(jìn)行處理的工序；在上述工序中，使具有沿著轉(zhuǎn)動(dòng)中的上述部件的轉(zhuǎn)動(dòng)軸并置的多個(gè)導(dǎo)體部件的探針在使上述各導(dǎo)體部件的前端和上述部件的間隔變窄的方向上移動(dòng)，同時(shí)，分別測(cè)定通過(guò)與上述線(xiàn)材的接觸而在上述各導(dǎo)體部件上產(chǎn)生的電位的測(cè)定處理。
全文摘要
提供一種表面處理裝置及液晶顯示裝置的制造方法。該清洗裝置具有使轉(zhuǎn)動(dòng)的清洗刷接近基板的清洗刷驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，對(duì)轉(zhuǎn)動(dòng)中的清洗刷的刷洗材前端的接觸分離而在基板上形成的多個(gè)導(dǎo)體圖形中發(fā)生的電位進(jìn)行計(jì)測(cè)并利用該結(jié)果對(duì)清洗刷的定位進(jìn)行控制。由此，可以利用清洗刷對(duì)以大型基板為對(duì)象的被清洗面進(jìn)行均勻的清洗處理，結(jié)果可以以高成品率在清洗后的基板上形成高品質(zhì)的液晶顯示用晶體管。
文檔編號(hào)C11D11/00GK1603894SQ20041005889
公開(kāi)日2005年4月6日 申請(qǐng)日期2004年8月3日 優(yōu)先權(quán)日2003年9月30日
發(fā)明者高原洋一, 山田將弘, 大録范行, 淺香昭二, 高橋知顕, 川中子寬, 山本英明 申請(qǐng)人:株式會(huì)社日立顯示器