專利名稱：基板的處理裝置以及處理方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及用處理液處理基板的處理裝置以及處理方法，其中基板被傳送到裝置主體中形成的腔的內(nèi)部。
背景技術(shù)：
例如液晶顯示器以及半導(dǎo)體裝置的制造工藝具有下列工藝，對作為基板的液晶用玻璃基板以及半導(dǎo)體晶片等進(jìn)行蝕刻處理，在蝕刻后對用作掩膜的抗蝕劑進(jìn)行剝離處理，對進(jìn)行了蝕刻以及剝離處理后的基板進(jìn)行清洗處理。在這種方式的基板處理工藝中，采用一邊每次傳送一片基板一邊進(jìn)行處理的分片方式。
在通過分片方式對基板進(jìn)行處理的情況下，一邊傳送基板一邊通過噴射噴嘴向基板的上下面或上面噴射處理液的處理裝置已經(jīng)是公知的。該處理裝置具有裝置主體，在該裝置主體中分區(qū)形成多個(gè)腔。在腔內(nèi)可旋轉(zhuǎn)地設(shè)置有沿著上述基板的傳送方向構(gòu)成傳送機(jī)構(gòu)的傳送軸。在該傳送軸上，在軸方向上以預(yù)定間隔設(shè)置了多個(gè)傳送輥。此外，由于對上述傳送軸進(jìn)行旋轉(zhuǎn)驅(qū)動，因此通過傳送輥就可以傳送上述基板。
在腔內(nèi)用處理液來處理基板時(shí)，噴射向基板的處理液就變成煙霧狀，浮游在腔內(nèi)。浮游在腔內(nèi)的煙霧狀處理液附著在處理后的基板上，成為污染基板的原因。特別是當(dāng)進(jìn)行了清洗處理后的基板上附著了煙霧狀處理液時(shí)，就會導(dǎo)致品質(zhì)降低以及生產(chǎn)出次品這樣的問題，這是不利的。
以往，在腔內(nèi)部傳送基板、以噴射處理液的方式進(jìn)行處理的處理裝置中，在腔上連接有排氣通道，排出含有在腔內(nèi)部生成的煙霧狀處理液的氣體。
上述傳送裝置在裝置主體的與基板的傳送方向相交叉的寬度方向的一側(cè)構(gòu)成配置有控制面板等的操作部分，另一側(cè)構(gòu)成配置有傳送機(jī)構(gòu)的驅(qū)動源等的維修檢查部分，在每個(gè)腔中，上述排氣通道連接在成為上述維修檢查部分一側(cè)的寬度方向上的一側(cè)面上。
當(dāng)腔的寬度方向的一側(cè)面連接有排氣通道時(shí)，腔內(nèi)的氣體就會從寬度方向的另一側(cè)向這一側(cè)流動并排出。盡管這樣，當(dāng)通過在寬度方向的一側(cè)面上連接的排氣通道排出腔內(nèi)的氣體時(shí)，腔內(nèi)的寬度方向一側(cè)區(qū)域的氣體比另一側(cè)區(qū)域的氣體容易排出。換句話說，腔內(nèi)寬度方向的另一側(cè)區(qū)域的氣體難以排出。
因此，由于腔內(nèi)的氣體難以在整個(gè)寬度方向上全部均勻地排出，因此結(jié)果是煙霧狀的處理液滯留在腔內(nèi)，其附著在基板上，將會成為污染的原因。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供了可以對腔內(nèi)寬度方向的一側(cè)區(qū)域和另一側(cè)區(qū)域進(jìn)行均勻的排氣的基板處理裝置和處理方法。
本發(fā)明涉及一種用處理液對基板進(jìn)行處理的處理裝置，其特征在于該裝置具有裝置主體、傳送機(jī)構(gòu)、主排氣通道以及多個(gè)分支排氣通道，其中裝置主體形成有用處理液處理上述基板的腔，傳送機(jī)構(gòu)沿著上述腔內(nèi)的預(yù)定方向傳送上述基板，主排氣通道位于上述基板的上方，沿基板的傳送方向設(shè)置在與基板傳送方向相交叉的上述腔寬度方向的中央部分上，分支排氣通道的一端與上述主排氣通道連通，另一端位于上述腔的寬度方向的端部，從而形成吸出腔內(nèi)氣體的抽氣口，并且分支排氣通道以上述主排氣通道為中心、在上述腔的寬度方向上對稱地設(shè)置。
本發(fā)明涉及一種用處理液對基板進(jìn)行處理的處理裝置，其特征在于該裝置具有裝置主體以及傳送機(jī)構(gòu)，其中裝置主體形成有用處理液對上述基板進(jìn)行處理的腔，傳送機(jī)構(gòu)沿著上述腔內(nèi)的預(yù)定方向傳送上述基板，上述裝置主體具有底板、側(cè)板、隔板、主排氣通道以及多個(gè)分支通道，其中側(cè)板豎直設(shè)置在該底板的與上述基板傳送方向相交叉的寬度方向兩側(cè)，隔板設(shè)置在一對側(cè)板之間，在這些側(cè)板之間分區(qū)形成上述腔，主排氣通道沿上述基板的傳送方向設(shè)置在該隔板上端寬度方向的中央?yún)^(qū)域，分支排氣通道的一端與上述主排氣通道連通，另一端位于上述腔寬度方向的兩個(gè)端部，從而同時(shí)形成吸出腔內(nèi)氣體的抽氣口，并且分支排氣通道相對于腔的基板傳送方向和寬度方向?qū)ΨQ地設(shè)置。
本發(fā)明涉及在處理裝置中所形成的腔內(nèi)用處理液處理基板的處理方法，其特征在于該方法具有下列步驟沿上述腔內(nèi)的預(yù)定方向傳送上述基板；使上述腔內(nèi)的氣體從與該腔的上述基板的傳送方向相交叉的寬度方向?qū)ΨQ地排出。
本發(fā)明的效果在于，根據(jù)本發(fā)明，由于在腔寬度方向的中央部分設(shè)置了主排氣通道，并以該主排氣通道為中心在腔寬度方向上對稱設(shè)置了多個(gè)分支排氣通道，因此通過分支排氣通道以及主排氣通道可以使腔內(nèi)的氣體相對寬度方向被均勻排出。


圖1是表示本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的處理裝置的側(cè)面圖。
圖2是沿處理裝置的寬度方向得到的縱向剖面圖。
圖3是從上方觀察的裝置主體的一部分的斜視圖。
圖4是從上方觀察的本發(fā)明另一實(shí)施例的裝置主體的一部分的斜視圖。
圖5是沿處理裝置的寬度方向得到的縱向剖面圖。
具體實(shí)施例方式
下面，將參照附圖對本發(fā)明的實(shí)施例進(jìn)行說明。
圖1至圖3表示本發(fā)明的第1實(shí)施例。圖1是表示處理裝置的側(cè)面圖，圖2是縱向剖面圖，圖3是斜視圖，處理裝置配備有裝置主體1。該裝置主體1具有如圖2和圖3所示的倒置山峰形彎折的底板2，在該底板2寬度方向的兩端豎直設(shè)置有側(cè)板3。
在一對側(cè)板3之間，在長度方向上以預(yù)定間隔架設(shè)有多個(gè)隔板4，這些隔板4將裝置主體1分區(qū)形成多個(gè)腔。在該實(shí)施例中如圖1所示劃分成三個(gè)腔，分別是第1至第3腔5a～5c。
每個(gè)隔板4的上端構(gòu)成山峰的形狀，在其寬度方向中央部分處設(shè)置有跨越裝置主體1長度方向的整個(gè)長度的矩形筒狀的主排氣通道6。在主排氣通道6與每個(gè)腔5a～5c長度方向的兩個(gè)端部相對應(yīng)的部分處，如圖2所示以在兩側(cè)面形成開口的方式形成連通孔7。
每個(gè)連通孔7連接分支排氣通道8的一端，分支排氣通道8是比主排氣通道6截面面積小的矩形筒狀。各分支排氣通道8的另一端形成抽氣口9。每個(gè)抽氣口9位于每個(gè)腔5a～5c的寬度方向的兩端、接近側(cè)板3的內(nèi)側(cè)面的位置，而且位于如下所述地在每個(gè)腔5a～5c內(nèi)傳送的基板W的上方。
即，在每個(gè)腔5a～5c的頂棚部11上，4根分支排氣通道8以這樣的方式和上述主排氣通道6相連接，即，4根分支排氣通道8以主排氣通道6為中心在每個(gè)腔5a～5c的寬度方向上對稱、而且其相對于和每個(gè)腔5a～5c的寬度方向相交叉的長度方向?qū)ΨQ分布。
在主排氣通道6與每個(gè)腔5a～5c相對應(yīng)的部分的長度方向中央部分的上面分別開口形成連接孔10a。每個(gè)連接孔10a連接抽氣通道10。每個(gè)抽氣通道10與圖中未示出的抽氣泵分別連接、或是集中在一起相連接。由此，抽氣泵的抽吸力通過主排氣通道6和多個(gè)分支排氣通道8，就會對每個(gè)腔5a～5c起作用。
在每個(gè)腔5a～5c的頂棚部11上，由主排氣通道6、一對分支排氣通道8以及側(cè)板3的上端部所包圍起來形成一對開口部12。在形成開口部12的主排氣通道6的兩側(cè)面、一對分支排氣通道8的面向開口部12內(nèi)側(cè)的側(cè)面以及側(cè)板3的上部內(nèi)側(cè)面分別設(shè)置凸緣13。在這些凸緣13上，如圖2所示，以可裝卸的方式設(shè)置有周邊部的下面與該凸緣13氣密地配合的蓋部件14。
就是說，在每個(gè)腔5a～5c的頂棚部11上分別形成的一對開口部12被蓋部件14氣密地密封。并且，蓋部件14由玻璃之類的透明材料制成，通過該蓋部件14將可以看到腔5a～5c的內(nèi)部。
在每個(gè)腔5a～5c內(nèi)部沿長度方向以預(yù)定間隔可旋轉(zhuǎn)地設(shè)置有多個(gè)傳送軸16(圖2中僅示出1根)。在每個(gè)傳送軸16上以預(yù)定間隔在軸向上設(shè)置多個(gè)傳送輥17。在預(yù)定的傳送軸16的上方可旋轉(zhuǎn)地設(shè)置有壓軸18。在壓軸18的兩端設(shè)置壓輥19，壓輥19與位于傳送軸16兩端部的傳送輥17相對置。
上述傳送軸16的兩端部從一對側(cè)板3向外突出，其中一端部將通過傳動軸21由動力源22驅(qū)動而轉(zhuǎn)動。即，在由驅(qū)動源22驅(qū)動旋轉(zhuǎn)的驅(qū)動鏈輪23和設(shè)置在上述傳動軸21上的從動滑輪24之間架設(shè)有鏈條25。
在傳動軸21和傳送軸16之間設(shè)置相互嚙合的齒輪(圖中未詳細(xì)示出)。由此，如果動力源22運(yùn)轉(zhuǎn)，則通過上述傳動軸21能夠驅(qū)動上述傳送軸16使之轉(zhuǎn)動。并且，由于傳送軸16的轉(zhuǎn)動被傳遞給壓軸18，因此壓軸18將會在與傳送軸16的相反方向上驅(qū)動轉(zhuǎn)動。
如圖2和圖3所示，在分區(qū)形成每個(gè)腔5a～5c的上述隔板4上，在與上述傳送輥17上端大致相同的高度上形成槽27，該槽27的長度為跨越腔5a～5c在寬度方向上的大致整個(gè)長度。
在位于裝置主體1的長度方向一端的第1腔5a中，從隔板4上所形成的槽27提供基板W。由此，基板W通過第1腔5a內(nèi)的傳送輥17而從該腔5a內(nèi)部被傳送至隨后的第2腔5b。而且基板W從第二腔5b穿過第3腔5c被傳輸出去?；錡在寬度方向的兩端部上表面被壓輥19壓住的同時(shí)被傳送。
在每個(gè)腔5a～5c中，沿著腔5a～5c的寬度方向設(shè)置噴管29，在噴管29上以預(yù)定間隔設(shè)置多個(gè)噴嘴28，向傳送輥17所傳送的基板W上表面噴射處理液。通過每個(gè)噴管29的噴嘴28向傳送輥17所傳送的基板W的上表面供給處理液。
該實(shí)施例中，在第1腔5a和第2腔5b中作為處理液供給蝕刻液，在第3腔5c中作為處理液供給清洗液。
在每個(gè)腔5a～5c的底板2的最低位置處連接有排液管31。上述排液管31回收由噴嘴28提供給基板W的上表面的處理液，然后將這些處理液返回至容器32中，從該容器32向噴管29供給處理液。向上述容器32一點(diǎn)一點(diǎn)地補(bǔ)充新的處理液。
另外，在第1至第3腔5a-5c內(nèi)，設(shè)置與基板W的下表面?zhèn)认鄬Φ膰姽?9，以便不只向被傳送的基板W的上表面、也向其下表面供給處理液，也是可以的。
接下來對通過具有上述結(jié)構(gòu)的處理裝置用處理液來處理基板時(shí)的作用加以說明。
由第1腔提供的基板W通過傳送輥17順序地從第1腔5a開始傳送、經(jīng)過第2腔5b、到達(dá)第3腔5c。在第1腔5a和第2腔5b中向基板W的上表面供給蝕刻液，在該基板的上表面進(jìn)行預(yù)定的蝕刻處理。在第3腔5c中向基板W的上表面供給清洗液，對已進(jìn)行了蝕刻的基板W進(jìn)行清洗處理。
在每個(gè)腔5a～5c內(nèi)部，作用于抽氣通道10的抽氣泵的抽吸力通過主排氣通道6作用于分支排氣通道8。由此，如圖2的箭頭所示，每個(gè)腔5a～5c內(nèi)部的氣體通過每個(gè)分支排氣通道8的抽氣口9被排出。
因此，由于在每個(gè)腔5a～5c中用處理液處理基板，即使在腔5a～5c內(nèi)部生成煙霧狀的處理液，該煙霧狀處理液將和腔5a～5c內(nèi)的氣體一起被排出。
在每個(gè)腔5a～5c頂棚部11的寬度方向的中央部分，主排氣通道6設(shè)置成在基板W的傳送方向上跨越裝置主體1在長度方向上的整個(gè)長度。在主排氣通道6中與每個(gè)腔5a～5c相對應(yīng)的位置的部分，相對于腔5a～5c的寬度方向以及作為與該寬度方向相交叉的基板W的傳送方向的、裝置主體1的長度方向?qū)ΨQ地設(shè)置。
即，在每個(gè)腔5a～5c中，4根分支排氣通道8的4個(gè)抽氣口9開口位于長度方向的兩端部的寬度方向的兩端部處。此外，抽氣通道10連接在主排氣通道6與每個(gè)腔5a～5c相對應(yīng)的部分中長度方向的中央部分的上面。
因此，通過抽氣通道10、主排氣通道6以及4根分支排氣通道8的抽氣口9而作用于每個(gè)腔5a～5c的抽吸力，相對于該腔5a～5c的寬度方向以及與寬度方向相交叉的長度方向的各自的中心對稱。
相應(yīng)地，由于每個(gè)腔5a～5c內(nèi)的氣體在寬度方向和長度方向上基本上被均勻的排出，所以可以防止煙霧狀處理液滯留在腔5a～5c內(nèi)并附著在基板W上。特別在第3腔5c中，由于用清洗液對基板W進(jìn)行清洗處理，因此可以防止含有塵埃的煙霧狀處理液的附著而對經(jīng)過清洗處理的基板W造成污染。
上述主排氣通道6和分支排氣通道8并不只是作為排出每個(gè)腔5a～5c的氣體而使用，還可以用作構(gòu)成每個(gè)腔5a～5c的頂棚部11的部件。因此，在每個(gè)腔5a～5c的頂棚部11上，由于不用設(shè)置構(gòu)成頂棚部11的部件以外的其它通道，因此可以使裝置主體1的結(jié)構(gòu)得以簡化、小型化以及降低成本等。而且，由于排氣通道6、8是剛性較大的方筒狀，因此即使在頂棚部11上不設(shè)置加強(qiáng)部件，也可以具有足夠的剛性。
雖然通過上述實(shí)施例已經(jīng)對裝置主體中形成有3個(gè)腔的情況作以說明，但是并沒有限定裝置主體中形成的腔的數(shù)量，只要形成至少1個(gè)腔，就可以適用于本發(fā)明。
此外，雖然已經(jīng)對在3個(gè)腔之中的2個(gè)腔進(jìn)行蝕刻處理的情況作以說明，但是分別在三個(gè)腔中對基板進(jìn)行清洗處理的情況也是可以的，而不必限定在每個(gè)腔中進(jìn)行哪種方式的處理。
雖然在每個(gè)腔中配置了4根分支排氣管，但是并不是只限定成這個(gè)數(shù)量，因?yàn)橐c(diǎn)是只要設(shè)置成可以使每個(gè)腔內(nèi)的氣體對于寬度方向和長度方向均勻地排出就可以，因此即使是例如6根以及6根以上的偶數(shù)根也沒有問題。
圖4和圖5表示本發(fā)明的另一個(gè)實(shí)施例。該實(shí)施例中，第1分支排氣通道8A和第2分支排氣通道8B的一端連接在主排氣通道6與每個(gè)腔5a～5c的兩端部相對應(yīng)的部分的兩個(gè)側(cè)面上。就是說，在每個(gè)腔5a～5c中分別設(shè)置了4根第1分支排氣通道8A和第2分支通道8B。
在第1分支排氣通道8A的另一端開口形成第1抽氣口9A。即，第1抽氣口9A位于傳送到腔5a-5c中的基板W的上方。第2分支排氣通道8B由與上述第1分支排氣通道8A平行設(shè)置的第1通道部件81和垂直設(shè)置的第2通道部件82組成，第1通道部件81的一端連接上述主排氣通道6，第2通道部件82的上端連接該第1通道部分81的另一端。
上述垂直通道部件82的下端位于由傳送輥17傳送的基板W的下方，在其下端處，形成跨越在面向每個(gè)腔5a～5c的寬度方向內(nèi)側(cè)的側(cè)面以及下端面，開口形成第二抽氣口9B。
根據(jù)這種結(jié)構(gòu)，當(dāng)在主排氣通道6生成抽吸力時(shí)，該抽吸力通過第1分支排氣通道8A和第2排氣通道8B，作用于每個(gè)分支通道8A、8B的抽氣口9A、9B。
通過在上述第1抽氣口9A產(chǎn)生的抽吸力來抽吸排出每個(gè)腔5a～5c內(nèi)基板W上方的氣體。通過在上述第2抽氣口9B產(chǎn)生的抽吸力來抽吸排出每個(gè)腔5a～5c內(nèi)基板W下方的氣體。就是說，即使腔5a～5c內(nèi)的氣體以基板W為界上下分隔，腔5a～5c內(nèi)基板W上方的氣體通過在第1抽氣口9A生成的抽吸力被排出，下方的氣體通過在第2抽氣口9B生成的抽吸力被排出。
因此，即使每個(gè)腔5a～5c內(nèi)的氣體被基板W上下分隔，腔5a～5c內(nèi)的全部氣體也可以從第1抽氣口9A和第2抽氣口9B順利地排出，防止在腔5a～5c內(nèi)產(chǎn)生的煙霧附著在基板W的上面和下面。
此外，雖然在該實(shí)施例中主排氣通道與第1分支排氣通道和第2分支排氣通道相連接，但是主排氣通道也可以不連接兩根分支排氣通道，而是連接具有和第2分支排氣通道相同的結(jié)構(gòu)的、由第1通道部和垂直設(shè)置的第2通道部構(gòu)成的一根分支排氣通道，其中該第1通道部的一端連接主排氣通道，該第2通道部的上端連接至該第1通道部的另一端，其另一端位于基板的下方。而且，在第2通道部的上端部和下端部，分別開口形成位于基板上方的第1抽氣口和位于下方的第2抽氣口。
這種情況下，由于作用于位于第2通道部的上端部的第1抽氣口的抽吸力大于作用于位于下端部的抽氣口的抽吸力，因此可以通過改變各抽氣口的大小、通過風(fēng)擋調(diào)整開度等方式，來調(diào)整在各抽吸口生成的作用于基板上方和下方的氣體的抽吸力。
權(quán)利要求
1.一種基板處理裝置，用處理液對基板進(jìn)行處理，其特征在于，該裝置具有形成有用處理液處理上述基板的腔的裝置主體；沿著上述腔內(nèi)的預(yù)定方向傳送上述基板的傳送機(jī)構(gòu)；位于上述基板上方的主排氣通道，其沿基板的傳送方向設(shè)置在與基板傳送方向相交叉的上述腔的寬度方向的中央部分上；和多個(gè)分支排氣通道，其一端與上述主排氣通道連通、另一端位于上述腔的寬度方向的端部以形成抽吸腔內(nèi)的氣體的抽氣口，并且以上述主排氣通道為中心在上述腔的寬度方向上對稱地設(shè)置。
2.如權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，上述分支排氣通道相對于上述腔的上述基板的傳送方向?qū)ΨQ地設(shè)置。
3.如權(quán)利要求1或2所述的基板處理裝置，其特征在于，在上述分支排氣通道中，設(shè)置有第1抽氣口和第2抽氣口，該第1抽氣口位于由上述傳送機(jī)構(gòu)傳送的上述基板的上方，該第2抽氣口位于上述基板的下方。
4.如權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，上述分支排氣通道包括第1分支排氣通道和第2分支排氣通道，該第1分支通道具有上述第1抽氣口，該第2分支通道具有上述第2抽氣口。
5.如權(quán)利要求2所述的基板處理裝置，其特征在于，在上述裝置主體中，相對于上述基板的傳送方向以預(yù)定間隔分區(qū)形成多個(gè)腔，上述主排氣通道設(shè)置成跨越多個(gè)腔的整個(gè)長度，在主排氣通道的分別與每個(gè)腔相對應(yīng)的部分的上述基板傳送方向的中心部分上連接有抽氣通道。
6.一種基板處理裝置，用處理液對基板進(jìn)行處理，該裝置具有形成有用處理液處理上述基板的腔的裝置主體；和沿著上述腔內(nèi)的預(yù)定方向傳送上述基板的傳送機(jī)構(gòu)；其特征在于，上述裝置主體具有底板；在該底板的與上述基板傳送方向相交叉的寬度方向兩側(cè)豎直設(shè)置的側(cè)板；設(shè)置在一對側(cè)板之間、在這些側(cè)板之間分區(qū)形成上述腔的隔板；沿上述基板傳送方向設(shè)置在該隔板上端寬度方向的中央?yún)^(qū)域上的主排氣通道；和多個(gè)分支排氣通道，其一端與上述主排氣通道連通、另一端位于上述腔的寬度方向兩端部以形成抽吸腔內(nèi)氣體的抽氣口，并且相對于腔的基板傳送方向和寬度方向?qū)ΨQ地設(shè)置。
7.如權(quán)利要求6所述的基板處理裝置，其特征在于，在上述腔的沿基板傳送方向的兩端部分別設(shè)置一對分支排氣通道，在上述腔的上部，形成由主排氣通道、一對分支排氣通道以及側(cè)板的上端部圍起的一對開口部，并且每個(gè)開口部形成被蓋部件封閉的頂棚部。
8.一種基板處理方法，在處理裝置中形成的腔內(nèi)用處理液對基板進(jìn)行處理，其特征在于，該方法具有下列步驟沿上述腔內(nèi)的預(yù)定方向傳送上述基板；將上述腔內(nèi)的氣體從該腔的與上述基板傳送方向相交叉的寬度方向?qū)ΨQ地排出。
9.如權(quán)利要求8所述的基板處理方法，其特征在于，將上述腔內(nèi)的氣體從沿著該腔的上述基板傳送方向的方向?qū)ΨQ地排出。
全文摘要
本發(fā)明提供了一種基板的處理裝置，可以使腔內(nèi)的氣體相對該腔的寬度方向和長度方向均勻地排出。該裝置具有裝置主體(1)、傳送輥(17)、主排氣通道(6)以及多個(gè)分支排氣通道(8)，其中裝置主體(1)形成用處理液進(jìn)行處理的腔(5a，5c)，傳送輥(17)沿著上述腔內(nèi)的預(yù)定方向傳送基板，主排氣通道(6)位于基板的上方，沿基板的傳送方向設(shè)置在與基板傳送方向相交叉的上述腔的寬度方向的中央部分上，分支排氣通道(8)的一端連通上述主排氣通道，另一端位于腔寬度方向的端部以形成抽吸腔內(nèi)氣體的抽氣口(9)，并且分支排氣通道(8)以主排氣通道為中心在上述腔的寬度方向上對稱地設(shè)置。
文檔編號B08B17/00GK1676231SQ20051006856
公開日2005年10月5日 申請日期2005年3月29日 優(yōu)先權(quán)日2004年3月29日
發(fā)明者末吉秀樹, 磯明典, 豐島范夫, 廣瀨治道, 高木慎一郎 申請人:芝浦機(jī)械電子株式會社