專利名稱:胡椒研磨器的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本實(shí)用新型涉及一種研磨器,特別是涉及一種將胡椒、鹽粒等粗粒狀調(diào)味品研磨 成微小粉末狀的胡椒研磨器。
背景技術(shù):
在現(xiàn)代人的飲食習(xí)慣中,常使用調(diào)味品來添加食物菜肴的美味,而胡椒就是一種 常用的調(diào)味品,使用時(shí)是將粗粒狀的胡椒放置在一個(gè)胡椒研磨器中,并通過所述胡椒研磨 器的一個(gè)位于底部的研磨裝置來研磨,所述研磨裝置通常包括一個(gè)固定設(shè)置的外研磨座, 以及一個(gè)可相對(duì)該外研磨座轉(zhuǎn)動(dòng)的內(nèi)研磨座,所述內(nèi)研磨座、外研磨座共同界定出一個(gè)位 于下方的環(huán)形開口,當(dāng)內(nèi)研磨座相對(duì)所述外研磨座轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí),胡椒顆粒受到研磨座的研磨作 用而被磨成胡椒粉末,并由所述環(huán)形開口掉出而灑落在食物上。雖然以往胡椒研磨器可以達(dá)到研磨功效,然而在研磨使用后,會(huì)有部分已被研磨 過的胡椒粉末殘留在研磨裝置中而沒有完全灑落到食物上,所述殘留的胡椒粉末非常容易 從環(huán)形開口落下,因此當(dāng)胡椒研磨器使用完畢而擺放在桌面或櫥柜時(shí),會(huì)有胡椒粉末掉落 于桌面或柜子表面,進(jìn)而弄臟所述供胡椒研磨器置放的器具表面。
發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型的目的在于提供一種具有遮擋功能以避免殘留的胡椒粉末向下掉落 的胡椒研磨器。本實(shí)用新型胡椒研磨器包含一個(gè)界定出一個(gè)容裝空間的容裝單元、一個(gè)組裝在 所述容裝空間內(nèi)的研磨單元,所述研磨單元包括一支能受帶動(dòng)而轉(zhuǎn)動(dòng)的連動(dòng)軸、一個(gè)固定 設(shè)置的外研磨座,以及一個(gè)能受所述連動(dòng)軸帶動(dòng)而相對(duì)所述外研磨座轉(zhuǎn)動(dòng)的內(nèi)研磨座,所 述內(nèi)研磨座與所述外研磨座共同界定出一個(gè)研磨空間,其特征在于所述胡椒研磨器還包 含一個(gè)啟閉單元,所述啟閉單元包括一個(gè)與所述連動(dòng)軸連動(dòng)結(jié)合并位于所述研磨單元的下 方的轉(zhuǎn)動(dòng)件,以及一個(gè)能相對(duì)所述轉(zhuǎn)動(dòng)件上下移動(dòng)而在一個(gè)鄰近所述研磨單元并封閉所述 研磨空間的封閉位置與一個(gè)遠(yuǎn)離所述研磨單元的開啟位置間移動(dòng)的啟閉件,所述轉(zhuǎn)動(dòng)件具 有至少一個(gè)朝向所述啟閉件的第一壓控部,所述啟閉件具有至少一個(gè)對(duì)應(yīng)所述第一壓控部 并能受所述第一壓控部帶動(dòng)而向下移動(dòng)的第二壓控部。本實(shí)用新型所述的胡椒研磨器,所述第一壓控部包括一個(gè)凹陷設(shè)置并且螺旋延伸 的凹溝,所述凹溝包括一個(gè)位于上方的第一端,以及一個(gè)位于下方的第二端,所述第二壓控 部包括一個(gè)朝所述凹溝突入并能移動(dòng)于凹溝的第一端及第二端間的突塊。本實(shí)用新型所述的胡椒研磨器,所述轉(zhuǎn)動(dòng)件包括一個(gè)基壁,以及一個(gè)自所述基壁 向下延伸的圍壁,所述基壁具有一個(gè)供所述連動(dòng)軸的底段卡插的連動(dòng)孔,所述圍壁具有前 述第一壓控部,所述啟閉件包括一個(gè)位于所述外研磨座的下方的第一壁部,以及一個(gè)自所 述第一壁部向下延伸并圍繞在所述轉(zhuǎn)動(dòng)件的外圍的第二壁部,前述第二壓控部設(shè)置在所述 第二壁部的內(nèi)表面。[0008]本實(shí)用新型所述的胡椒研磨器,所述圍壁具有二個(gè)設(shè)置在其外表面的第一壓控 部,以及二個(gè)彼此間隔且上下延伸的復(fù)位溝,所述第一壓控部都包括一個(gè)凹陷設(shè)置并且螺 旋延伸的凹溝,所述凹溝包括一個(gè)位于上方的第一端,以及一個(gè)位于下方的第二端,所述復(fù) 位溝連接在所述凹溝間,所述復(fù)位溝都連接其中一個(gè)凹溝的第一端以及另一個(gè)凹溝的第二 端,所述啟閉件包括二個(gè)設(shè)置在所述第二壁部的內(nèi)表面的第二壓控部,所述第二壓控部都 包括一個(gè)分別朝所述凹溝突入的突塊。本實(shí)用新型所述的胡椒研磨器,所述啟閉單元還包括一個(gè)設(shè)置在該啟閉件的下方 的固定件,以及一個(gè)位于所述啟閉件與所述固定件間并提供一個(gè)將所述啟閉件朝上推動(dòng)的 彈性復(fù)位力的彈性件,該彈性件包括一個(gè)與所述啟閉件連結(jié)的第一連接段,以及一個(gè)與所 述固定件連結(jié)的第二連接段。本實(shí)用新型所述的胡椒研磨器,所述固定件包括一個(gè)固定連接在所述彈性件的第 二連接段的下方的板部,以及一個(gè)自所述板部向上突出的軸部,所述板部包括一個(gè)貫穿設(shè) 置的貫孔,所述彈性件圍繞在所述啟閉件與所述軸部的外圍。本實(shí)用新型的有益的效果在于當(dāng)本實(shí)用新型的胡椒研磨器研磨使用時(shí),所述啟 閉件移動(dòng)到所述開啟位置而不會(huì)封閉所述研磨空間,使胡椒粉可以向外灑出,當(dāng)使用完畢 后,所述啟閉件位于所述封閉位置以封閉所述研磨空間的下方開口,使殘留在研磨單元中 的胡椒粉末無法向外落出,因此本實(shí)用新型胡椒研磨器擺置于桌面時(shí),不會(huì)弄臟桌面。
圖1是本實(shí)用新型胡椒研磨器的一較佳實(shí)施例的組合剖視圖,顯示啟閉單元位于 一封閉位置;圖2是所述較佳實(shí)施例的部分元件的立體分解圖;圖3是圖1的局部放大圖;圖4是一局部剖視圖,顯示啟閉單元位于一開啟位置。圖中1.容裝單元;10.容裝空間;11.瓶體;12.蓋體;2.研磨單元;20.研磨空 間;21.連動(dòng)軸;22.外研磨座;23.內(nèi)研磨座;3.啟閉單元;31.轉(zhuǎn)動(dòng)件;311.基壁;312. 圍壁;313.連動(dòng)孔;314.第一壓控部;315.復(fù)位溝;316.凹溝;317.第一端;318.第二端; 32.啟閉件;321.第一壁部;322.第二壁部;323.第二壓控部;324.突塊;33.固定件;331. 板部;332.軸部;333.貫孔;34.彈性件;341.第一連接段;342.第二連接段。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖及實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行詳細(xì)說明。參閱圖1、圖2、圖3,本實(shí)用新型胡椒研磨器的較佳實(shí)施例包含一容裝單元1、一 研磨單元2,以及一啟閉單元3。所述容裝單元1包括一中空的瓶體11,以及一個(gè)可相對(duì)轉(zhuǎn)動(dòng)地安裝在所述瓶體11 的頂部的蓋體12,所述蓋體12與所述瓶體11共同界定出一供胡椒粒擺放的容裝空間10。所述研磨單元2組裝在所述容裝空間10的下半部,并包括一個(gè)上下直立延伸且 截面呈方形的連動(dòng)軸21、一個(gè)固定設(shè)置的外研磨座22,以及一個(gè)可相對(duì)轉(zhuǎn)動(dòng)地位于所述外 研磨座22的內(nèi)部的內(nèi)研磨座23。所述連動(dòng)軸21的頂段與所述蓋體12連動(dòng)結(jié)合,其底段與所述內(nèi)研磨座23連動(dòng)結(jié)合并向下穿過所述內(nèi)研磨座23,所述連動(dòng)軸21可受所述蓋體12 帶動(dòng)而相對(duì)所述瓶體11轉(zhuǎn)動(dòng),進(jìn)而帶動(dòng)所述內(nèi)研磨座23相對(duì)所述外研磨座22轉(zhuǎn)動(dòng)而研磨 胡椒。所述內(nèi)研磨座23與所述外研磨座22共同界定出一個(gè)環(huán)繞設(shè)置的研磨空間20,研磨 后的胡椒粉末可通過所述研磨空間20向下灑落。所述啟閉單元3包括一轉(zhuǎn)動(dòng)件31、一啟閉件32、一固定件33,以及一彈性件34。其中,所述轉(zhuǎn)動(dòng)件31位于所述內(nèi)研磨座23與外研磨座22的下方,并連結(jié)所述連 動(dòng)軸21的底段且可受所述連動(dòng)軸21帶動(dòng)而同步轉(zhuǎn)動(dòng)。所述轉(zhuǎn)動(dòng)件31包括一個(gè)外周呈圓 形的基壁311,以及一個(gè)自所述基壁311向下延伸的中空的圍壁312。所述基壁311具有一 個(gè)呈方形并供所述連動(dòng)軸21的底段卡插的連動(dòng)孔313。所述圍壁312包括三個(gè)等角度間隔 地設(shè)在其外表面的第一壓控部314,以及三個(gè)分別連接在兩兩相鄰的第一壓控部314間的 復(fù)位溝315。所述第一壓控部314都包括一凹設(shè)在圍壁312的外表面的凹溝316,所述凹溝316 都是沿著一中心軸線而螺旋狀延伸,并且都包括一個(gè)位于上方的第一端317,以及一個(gè)位于 下方的第二端318,所述第一端317與第二端318位于不同的直立延伸線上。所述復(fù)位溝 315都是上下延伸并且彼此等角度間隔設(shè)置,所述復(fù)位溝315的頂端連接位于其右側(cè)的凹 溝316的第一端317,復(fù)位溝315的底端連結(jié)位于其左側(cè)的凹溝316的第二端318。所述啟閉件32圍繞在所述轉(zhuǎn)動(dòng)件31的外周并可相對(duì)所述轉(zhuǎn)動(dòng)件31上下移動(dòng),所 述啟閉件32包括一個(gè)成環(huán)形并位于所述內(nèi)研磨座23以及外研磨座22的下方的第一壁 部321、一自所述第一壁部321向下延伸并圍繞在所述轉(zhuǎn)動(dòng)件31的外圍的第二壁部322,以 及三個(gè)等角度間隔地設(shè)置在所述第二壁部322的內(nèi)表面的第二壓控部323(圖2只示出2 個(gè))。其中,所述第一壁部321的外徑長(zhǎng)度大于所述第二壁部322的外徑長(zhǎng)度,所述第二壁 部322的外表面呈階梯狀。所述第二壓控部323都包括一個(gè)自所述第二壁部322的內(nèi)表面 朝所述轉(zhuǎn)動(dòng)件31的凹溝316突入的突塊324,所述突塊324能移動(dòng)于所述凹溝316的第一 端317及第二端318間。所述固定件33位于所述轉(zhuǎn)動(dòng)件31的下方,并包括一個(gè)固定設(shè)置于所述瓶體11的 底部的圓形的板部331,以及一個(gè)自所述板部331的中央向上突出的軸部332。前述板部 331包括數(shù)個(gè)等角度間隔并貫穿其頂、底面的貫孔333。所述彈性件34環(huán)套在所述啟閉件32的第二壁部322以及所述固定件33的軸部 332的外周,而且被抵壓于所述第二壁部322與所述固定件33的板部331間,所述彈性件 34包括一個(gè)與所述第二壁部322連結(jié)的第一連接段341,以及一個(gè)與所述板部331連結(jié)的 第二連接段342。參閱圖1、圖3、圖4,本實(shí)用新型胡椒研磨器可在一個(gè)如圖1、圖3所示的封閉位 置,以及一個(gè)如圖4所示的開啟位置間移動(dòng)。當(dāng)本實(shí)用新型胡椒研磨器尚未使用并位于所 述封閉位置時(shí),所述啟閉件32抵壓在所述研磨單元2的下方并封閉所述研磨空間20的下 方開口,使胡椒粉末無法灑出。而且此時(shí)所述啟閉件32的突塊324位于轉(zhuǎn)動(dòng)件31的凹溝 316的第一端317。使用時(shí),轉(zhuǎn)動(dòng)所述蓋體12可帶動(dòng)所述連動(dòng)軸21、所述內(nèi)研磨座23轉(zhuǎn)動(dòng)而研磨胡 椒,所述連動(dòng)軸21轉(zhuǎn)動(dòng)的同時(shí)也帶動(dòng)所述轉(zhuǎn)動(dòng)件31轉(zhuǎn)動(dòng),由于轉(zhuǎn)動(dòng)件31的凹溝316與啟 閉件32的突塊324相卡合,所述突塊324必須順著凹溝316轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)的螺旋延伸方向而移動(dòng),自然地產(chǎn)生使所述啟閉件32向下移動(dòng)的力量,所述胡椒研磨器因而轉(zhuǎn)換到圖4的開啟 位置,此時(shí)所述啟閉件32遠(yuǎn)離所述研磨單元2而不再封閉所述研磨空間20的下方開口,被 研磨的胡椒粉末可以由所述研磨空間20灑出,并往下經(jīng)由所述固定件33的所述貫孔333 而向外灑落。參閱圖2、圖3、圖4,當(dāng)所述啟閉件32位于所述開啟位置時(shí),該啟閉件32向下抵 壓所述彈性件34,使該彈性件34被壓縮而蓄積一個(gè)將所述啟閉件32朝上推動(dòng)的彈性復(fù)位 力。由于在開啟位置時(shí),所述啟閉件32的所述突塊324位于所述凹溝316的第二端318,而 且第二端318向上連結(jié)復(fù)位溝315,因此當(dāng)解除施于所述蓋體12的轉(zhuǎn)動(dòng)力量時(shí),啟閉件32 將被彈性件34的彈性復(fù)位力直接往上頂推,使突塊324沿著復(fù)位溝315而向上,最后移動(dòng) 到復(fù)位溝315的頂部與凹溝316的第一端317的連接處,所述啟閉件32就再度回到所述封 閉位置。需要說明的是,所述第一壓控部314與第二壓控部323可以交換設(shè)計(jì),也就是將所 述突塊324設(shè)置在所述轉(zhuǎn)動(dòng)件31的外表面,將所述凹溝316設(shè)置在所述啟閉件32的內(nèi)表 面,如此也可通過凹溝與突塊的卡合作用而推動(dòng)所述啟閉件32向下移動(dòng)。而且第一壓控部 314與第二壓控部323都只設(shè)置一個(gè)時(shí),也可以帶動(dòng)所述啟閉件32往下移動(dòng)。綜上所述,通過設(shè)置所述啟閉單元3,當(dāng)研磨使用時(shí),所述啟閉件32移動(dòng)到所述開 啟位置而不會(huì)封閉所述研磨空間20,使胡椒粉可以向外灑出,當(dāng)使用完畢后,所述啟閉件 32復(fù)位到所述封閉位置以封閉所述研磨空間20的下方開口,使殘留在研磨單元2中的胡椒 粉末無法向外落出,因此本實(shí)用新型胡椒研磨器擺置于桌面時(shí),不會(huì)弄臟桌面,確實(shí)達(dá)到本 實(shí)用新型的目的。
權(quán)利要求一種胡椒研磨器,包含一個(gè)界定出一個(gè)容裝空間的容裝單元、一個(gè)組裝在所述容裝空間內(nèi)的研磨單元,所述研磨單元包括一支能受帶動(dòng)而轉(zhuǎn)動(dòng)的連動(dòng)軸、一個(gè)固定設(shè)置的外研磨座,以及一個(gè)能受所述連動(dòng)軸帶動(dòng)而相對(duì)所述外研磨座轉(zhuǎn)動(dòng)的內(nèi)研磨座,所述內(nèi)研磨座與所述外研磨座共同界定出一個(gè)研磨空間,其特征在于所述胡椒研磨器還包含一個(gè)啟閉單元,所述啟閉單元包括一個(gè)與所述連動(dòng)軸連動(dòng)結(jié)合并位于所述研磨單元的下方的轉(zhuǎn)動(dòng)件,以及一個(gè)能相對(duì)所述轉(zhuǎn)動(dòng)件上下移動(dòng)而在一個(gè)鄰近所述研磨單元并封閉所述研磨空間的封閉位置與一個(gè)遠(yuǎn)離所述研磨單元的開啟位置間移動(dòng)的啟閉件,所述轉(zhuǎn)動(dòng)件具有至少一個(gè)朝向所述啟閉件的第一壓控部,所述啟閉件具有至少一個(gè)對(duì)應(yīng)所述第一壓控部并能受所述第一壓控部帶動(dòng)而向下移動(dòng)的第二壓控部。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的胡椒研磨器,其特征在于所述第一壓控部包括一個(gè)凹陷設(shè) 置并且螺旋延伸的凹溝,所述凹溝包括一個(gè)位于上方的第一端,以及一個(gè)位于下方的第二 端,所述第二壓控部包括一個(gè)朝所述凹溝突入并能移動(dòng)于凹溝的第一端及第二端間的突 塊。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的胡椒研磨器,其特征在于所述轉(zhuǎn)動(dòng)件包括一個(gè)基壁,以及一 個(gè)自所述基壁向下延伸的圍壁,所述基壁具有一個(gè)供所述連動(dòng)軸的底段卡插的連動(dòng)孔,所 述圍壁具有前述第一壓控部,所述啟閉件包括一個(gè)位于所述外研磨座的下方的第一壁部, 以及一個(gè)自所述第一壁部向下延伸并圍繞在所述轉(zhuǎn)動(dòng)件的外圍的第二壁部,前述第二壓控 部設(shè)置在所述第二壁部的內(nèi)表面。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的胡椒研磨器,其特征在于所述圍壁具有二個(gè)設(shè)置在其外表 面的第一壓控部,以及二個(gè)彼此間隔且上下延伸的復(fù)位溝,所述第一壓控部都包括一個(gè)凹 陷設(shè)置并且螺旋延伸的凹溝,所述凹溝包括一個(gè)位于上方的第一端,以及一個(gè)位于下方的 第二端,所述復(fù)位溝連接在所述凹溝間,所述復(fù)位溝都連接其中一個(gè)凹溝的第一端以及另 一個(gè)凹溝的第二端,所述啟閉件包括二個(gè)設(shè)置在所述第二壁部的內(nèi)表面的第二壓控部,所 述第二壓控部都包括一個(gè)分別朝所述凹溝突入的突塊。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的胡椒研磨器,其特征在于所述啟閉單元還包括一個(gè)設(shè)置在 所述啟閉件的下方的固定件,以及一個(gè)位于所述啟閉件與所述固定件間并提供一個(gè)將所述 啟閉件朝上推動(dòng)的彈性復(fù)位力的彈性件,該彈性件包括一個(gè)與所述啟閉件連結(jié)的第一連接 段,以及一個(gè)與所述固定件連結(jié)的第二連接段。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的胡椒研磨器,其特征在于所述固定件包括一個(gè)固定連接在 所述彈性件的第二連接段的下方的板部,以及一個(gè)自所述板部向上突出的軸部,所述板部 包括貫穿設(shè)置的貫孔,所述彈性件圍繞在所述啟閉件與所述軸部的外圍。
專利摘要一種胡椒研磨器,包含一容裝單元、一研磨單元,以及一啟閉單元。所述啟閉單元包括一個(gè)可轉(zhuǎn)動(dòng)地設(shè)置的轉(zhuǎn)動(dòng)件,以及一可相對(duì)所述轉(zhuǎn)動(dòng)件上下移動(dòng)的啟閉件。所述轉(zhuǎn)動(dòng)件與啟閉件分別具有互相對(duì)應(yīng)的一個(gè)第一壓控部與一個(gè)第二壓控部。當(dāng)所述啟閉件位于一封閉位置時(shí),所述啟閉件封閉所述研磨單元的一個(gè)研磨空間;而在研磨胡椒時(shí),所述轉(zhuǎn)動(dòng)件的第一壓控部轉(zhuǎn)動(dòng)并帶動(dòng)所述第二壓控部向下移動(dòng),使所述啟閉件向下移動(dòng)到一個(gè)遠(yuǎn)離所述研磨單元的開啟位置。當(dāng)胡椒研磨器不使用時(shí),所述啟閉件位于所述封閉位置,可以避免殘留在研磨單元中的胡椒粉末向外掉落。
文檔編號(hào)A47J42/24GK201631032SQ20102012608
公開日2010年11月17日 申請(qǐng)日期2010年3月9日 優(yōu)先權(quán)日2010年3月9日
發(fā)明者吳明峰 申請(qǐng)人:瀛麗企業(yè)股份有限公司