專利名稱：一種外測液位計用自動清洗密封容器內底壁的裝置的制作方法
技術領域：
本實用新型屬于工業(yè)自動化儀表領域，涉及一種外測液位計的應用，尤其是一種外測液位計用自動清洗密封容器內底壁提高使用壽命的簡易方法和裝置。
背景技術：
外測液位計的使用壽命主要取決于測量頭接收到足夠強的振動信號能夠維持多 長時間。使測量頭接收的信號隨時間減弱的主要原因之一是容器內底部時間長了會沉積較 厚的沉積物。這些沉積物通常要三年至五年才停產開罐清理一次。在清理前沉積層會大大 減弱測量頭接收到的信號，使得無法正常測量液位。容器內沉積物堆積問題嚴重地影響了 外測液位計的使用壽命。使用外測液位計的容器液體往往是承裝有毒、有腐蝕、易燃爆、帶 壓力的危險化學品的密封容器，甚至是壓力容器。開罐清污的代價很大。又不適宜在容器 壁上開孔通電，在容器內使用帶電的清洗裝置。因此對影響外測液位計工作壽命的測量頭 對應的容器底壁內側處自動清洗就成了急需解決的難題。

實用新型內容本實用新型的目的在于，提供一種自動清洗密封容器內底壁提高外測液位計使用 壽命的裝置。本實用新型是這樣實現(xiàn)的一種外測液位計用自動清洗密封容器內底壁的裝置， 包括垂直安裝在容器底壁內側的自清洗裝置；所述自清洗裝置由導波管和設置在導波管底 部的自潔座構成；所述自潔座由環(huán)形部件和固定在環(huán)形部件下端的安裝腳構成，相鄰安裝 腳之間的縫隙構成導流口 ；所述安裝腳固定安裝在容器底壁內側與安裝平面對應的位置。所述在容器底壁內側與測量頭安裝面對應的位置安裝自清洗裝置，使自清洗裝置 垂直于容器底壁內側；保持導波管中心線、自潔座中心線與測量頭中心線同心。所述導波管中心線與測量頭中心線的同軸度小于Φ0. 1mm。所述裝置的應用方法，在容器底壁內側與測量頭安裝面對應的位置安裝自清洗裝 置，使自清洗裝置垂直于容器底壁內側；保持導波管中心線與測量頭中心線同心。所述導波管中心線與測量頭中心線的同軸度小于Φ0. 1mm。當液面上升和下降時液體就會經過導流口進入和流出導波管對導波管下端正對 的容器底壁內側表面進行沖刷，使沉積物不會堆積，起到了自清潔作用。本實用新型的有益效果在于能夠自動清洗測量頭所對的容器底壁內側，防止沉 積物堆積影響信號傳遞，提高了工作可靠性，延長了外測液位計工作壽命

圖1為本實用新型的測量頭安裝裝置的示意圖。其中1為液體；2為導波管；3為自潔座；4為導流口 ；5為測量頭。
具體實施方式
以下結合附圖對本實用新型做進一步詳細描述參見圖1，一種外測液位計用自動清洗密封容器內底壁的裝置，包括垂直安裝在容 器底壁內側的自清洗裝置；所述自清洗裝置由導波管和設置在導波管底部的自潔座構成； 所述自潔座由環(huán)形部件和固定在環(huán)形部件下端的安裝腳構成，相鄰安裝腳之間的縫隙構成 導流口 ；所述安裝腳固定安裝在容器底壁內側與安裝平面對應的位置。所述在容器底壁內側與測量頭安裝面對應的位置安裝自清洗裝置，使自 清洗裝置 垂直于容器底壁內側；保持導波管中心線、自潔座中心線與測量頭中心線同心。所述導波管中心線與測量頭中心線的同軸度小于Φ0. 1mm。所述裝置的應用方法，在容器底壁內側與測量頭安裝面對應的位置安裝自清洗裝 置，使自清洗裝置垂直于容器底壁內側；保持導波管中心線與測量頭中心線同心。所述導波管中心線與測量頭中心線的同軸度小于Φ0. 1mm。導波管下端支撐在自潔座上。自潔座的下端側面開有導流口。每當液面下降時， 導波管內的液體經導流口向外流出時就會向下沖洗導波管下端的容器底壁內表面，自動進 行清洗，防止液體中的沉積物堆積在振動信號進出測量頭所要經過的容器底壁內側處。這 樣就可以延長停產打開容器清理沉積物的清罐周期。使得在長期的工作中不必打開容器進 行清理也不會因為沉積物過多而影響外測液位計的正常工作。以上內容是結合具體的優(yōu)選實施方式對本實用新型所作的進一步詳細說明，不能 認定本實用新型的具體實施方式
僅限于此，對于本實用新型所屬技術領域的普通技術人員 來說，在不脫離本實用新型構思的前提下，還可以做出若干簡單的推演或替換，都應當視為 屬于本實用新型由所提交的權利要求書確定的專利保護范圍。
權利要求一種外測液位計用自動清洗密封容器內底壁的裝置，其特征在于包括垂直安裝在容器底壁內側的自清洗裝置；所述自清洗裝置由導波管和設置在導波管底部的自潔座構成；所述自潔座由環(huán)形部件和固定在環(huán)形部件下端的安裝腳構成，相鄰安裝腳之間的縫隙構成導流口；所述安裝腳固定安裝在容器底壁內側與安裝平面對應的位置。
2.如權利要求1外測液位計用自動清洗密封容器內底壁的裝置，其特征在于所述在 容器底壁內側與測量頭安裝面對應的位置安裝自清洗裝置，使自清洗裝置垂直于容器底壁 內側；保持導波管中心線、自潔座中心線與測量頭中心線同心。
3.如權利要求2所述外測液位計用自動清洗密封容器內底壁的裝置，其特征在于所 述導波管中心線與測量頭中心線的同軸度小于Φ0. 1mm。
專利摘要本實用新型公開了一種外測液位計用自動清洗密封容器內底壁的裝置，包括垂直安裝在容器底壁內側的自清洗裝置；所述自清洗裝置由導波管和設置在導波管底部的自潔座構成；所述自潔座由環(huán)形部件和固定在環(huán)形部件下端的安裝腳構成，相鄰安裝腳之間的縫隙構成導流口；所述安裝腳固定安裝在容器底壁內側與安裝平面對應的位置。本實用新型的有益效果在于能夠自動清洗測量頭所對的容器底壁內側，防止沉積物堆積而影響信號傳遞，簡易地提高了外測液位計的工作可靠性。
文檔編號B08B9/08GK201644463SQ201020169169
公開日2010年11月24日 申請日期2010年4月23日 優(yōu)先權日2010年4月23日
發(fā)明者王定華 申請人:西安定華電子有限公司