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      一種硅片清洗機(jī)的制作方法

      文檔序號:1527179閱讀:158來源:國知局
      專利名稱:一種硅片清洗機(jī)的制作方法
      技術(shù)領(lǐng)域
      本實(shí)用新型涉及機(jī)械制造領(lǐng)域,尤其涉及一種硅片清洗機(jī)。
      背景技術(shù)
      在太陽能電池的制造車間,硅片的碎片率一直是一個很重要的指標(biāo),由于硅片很薄,但硅片的成本很高,因此降低硅片的碎片率一直是光伏產(chǎn)業(yè)的一大難題。太陽能電池硅片清洗機(jī)對太陽能硅片進(jìn)行清洗時,硅片在液體下沿水平方向移動,流道的液體對硅片進(jìn)行清洗。太陽能電池硅片清洗機(jī)中的滾輪就是帶動硅片水平直線移動的機(jī)構(gòu),其中滾輪中的上滾輪都套接有浮輪,現(xiàn)有的上滾輪中浮輪的位置都是相同的,在硅片清洗過程中受力
      的位置不變,同一個位置一直受到不同浮輪的壓力,從而使得硅片的碎片率很高,因此如何降低硅片在清洗過程中的碎片率已經(jīng)嚴(yán)重阻礙了光伏產(chǎn)業(yè)的發(fā)展。

      實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問題在于,提供一種結(jié)構(gòu)簡單、制造成本低、可以降低硅片碎片率的硅片清洗機(jī)。為了解決上述技術(shù)問題,本實(shí)用新型提供了一種硅片清洗機(jī),所述硅片清洗機(jī)包括上滾輪及下滾輪,所述上滾輪套接有浮輪,所述浮輪錯開排列。作為上述方案的改進(jìn),所述上滾輪之間的間距相同。作為上述方案的改進(jìn),所述設(shè)于同一上滾輪上的浮輪間距相同。作為上述方案的改進(jìn),所述上滾輪上的浮輪間距與相鄰的上滾輪上的浮輪間距相同。作為上述方案的改進(jìn),所述浮輪兩端套接有墊圈。作為上述方案的改進(jìn),所述下滾輪表面設(shè)有緩沖層。實(shí)施本實(shí)用新型的有益效果由于本實(shí)用新型中所述上滾輪套接有浮輪,所述浮輪錯開排列,因此可以改變硅片在清洗過程中受力的位置,從而可以極大的降低硅片的碎片率。所述上滾輪之間的距離相同,從而使硅片在傳動過程中受力位置平均分布,所述浮輪兩端套接有墊圈,所述墊圈在硅片受力的過程中起到緩沖的目的。所述設(shè)于同一上滾輪上的浮輪間距相同,所述上滾輪上的浮輪間距與相鄰的上滾輪上的浮輪間距相同,可以使硅片在清洗過程中受力均衡??傊聺L輪結(jié)構(gòu)的硅片清洗機(jī)具有良好的實(shí)用性、制造成本低。

      圖I為本實(shí)用新型一種硅片清洗機(jī)中滾輪結(jié)構(gòu)示意圖;圖2為本實(shí)用新型一種硅片清洗機(jī)中上滾輪結(jié)構(gòu)示意圖。
      具體實(shí)施方式
      [0015]為使本實(shí)用新型的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚,下面將結(jié)合附圖對本實(shí)用新型作進(jìn)一步的詳細(xì)描述。如圖I、圖2所示,所述硅片清洗機(jī)包括上滾輪I及下滾輪4,所述上滾輪I套接有浮輪2,所述浮輪2錯開排列,可以改 變硅片在清洗過程中受力的位置,從而可以極大的降低硅片5的碎片率,從而可以降低硅片5制作的成本。需要說明的是,所述上滾輪I與下滾輪4上下相對,使硅片可以在所述上滾輪I及下滾輪4的帶動下沿水平方向移動。更佳地,所述上滾輪I之間的間距相同,使硅片5在傳動過程中受力的位置平均分布,從而可以極大的降低硅片5在清洗過程中的碎片率。更佳地,所述設(shè)于同一上滾輪I上的浮輪2間距相同,可以使硅片5在清洗機(jī)中清洗時受力均勻。更佳地,所述上滾輪I上的浮輪2間距與相鄰的上滾輪I上的浮輪間2距相同,可以使硅片5在清洗機(jī)種清洗時受力均衡。更佳地,所述浮輪2兩端套接有墊圈3,防止硅片5受到上滾輪I的壓力而使硅片破碎,從而極大的降低了硅片在制作過程中的碎片率,同時避免所述浮輪2劃壞硅片5,從而可以極大提聞娃片的質(zhì)量。更佳地,所述下滾輪4表面設(shè)有緩沖層,防止所述硅片5因?yàn)槭艿缴蠞L輪I及下滾輪4的壓力而破碎,從而極大的降低了硅片制作過程中的碎片率,同時避免所述下滾輪4劃壞娃片,從而可以極大提聞娃片的質(zhì)量。硅片5在通過清洗機(jī)時,所述滾輪轉(zhuǎn)動帶動硅片5向前運(yùn)動,所述上滾輪I及帶動浮輪2轉(zhuǎn)動,從而帶動所述墊圈3轉(zhuǎn)動,所述墊圈3緊壓住硅片,使硅片5在液體中運(yùn)動,所述浮輪2錯開排列,所述設(shè)于同一上滾輪I上的浮輪2間距相同,所述上滾輪I上的浮輪2間距與相鄰的上滾輪I上的浮輪2間距相同,從而使得硅片5的受力位置發(fā)生變化,進(jìn)而減少硅片5的隱形裂痕,同時所述下滾輪4表面有緩沖層,從而避免所述下滾輪4劃破硅片5,從而提高硅片的質(zhì)量,降低硅片在制作過程中的碎片率。以上所述是本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施方式,應(yīng)當(dāng)指出,對于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說,在不脫離本發(fā)明原理的前提下,還可以做出若干改進(jìn)和潤飾,這些改進(jìn)和潤飾也視為本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。
      權(quán)利要求1.一種硅片清洗機(jī),其特征在于,所述硅片清洗機(jī)包括上滾輪及下滾輪,所述上滾輪套接有浮輪,所述浮輪錯開排列。
      2.如權(quán)利要求I所述的硅片清洗機(jī),其特征在于,所述上滾輪之間的間距相同。
      3.如權(quán)利要求I所述的硅片清洗機(jī),其特征在于,所述設(shè)于同一上滾輪上的浮輪間距相同。
      4.如權(quán)利要求2或3所述的硅片清洗機(jī),其特征在于,所述上滾輪上的浮輪間距與相鄰的上滾輪上的浮輪間距相同。
      5.如權(quán)利要求I所述的硅片清洗機(jī),其特征在于,所述浮輪兩端套接有墊圈。
      6.如權(quán)利要求I所述的硅片清洗機(jī),其特征在于,所述下滾輪表面設(shè)有緩沖層。
      專利摘要本實(shí)用新型公開了一種硅片清洗機(jī),所述硅片清洗機(jī)包括上滾輪及下滾輪,所述上滾輪套接有浮輪,所述浮輪錯開排列。采用本實(shí)用新型可以極大的降低硅片在清洗過程中的碎片率,并且結(jié)構(gòu)簡單,制造成本低。
      文檔編號B08B3/04GK202461029SQ20112055816
      公開日2012年10月3日 申請日期2011年12月28日 優(yōu)先權(quán)日2011年12月28日
      發(fā)明者康凱, 方結(jié)彬, 班群, 陳剛 申請人:廣東愛康太陽能科技有限公司
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