專利名稱：足浴盆的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及衛(wèi)浴，具體地說是涉及一種足浴盆。
背景技術：
現(xiàn)有技術中，足浴盆一般是塑料制成的，這樣的足浴盆具有移動方便的優(yōu)點，它還具有不耐使用，容易老化的缺點，另外現(xiàn)有技術中的足浴盆具有一個扁平的腔體，開口部分沒有向上延伸的外沿，在使用同樣水的情況下淹沒的比較低，不會浸泡較高的腿部部位，具有使用不便的缺點。
發(fā)明內(nèi)容本實用新型的目的就是針對上述缺點，提供一種在使用較少水的情況下能夠浸泡 較高的部位、經(jīng)久耐用、不易老化的足浴盆。本實用新型所采取的技術方案是足浴盆，具有一個扁平的腔體，腔體上面具有開口，其特征是所述的開口部分周圍具有向上延伸的外沿，所述的足浴盆是陶瓷制成的。進一步的講，所述的足浴盆下側部具有第一開口。進一步的講，所述的足浴盆上部具有第二開口。本使用新型的有益效果是由于本實用新型采取了以上結構，使得這樣的足浴盆具有在使用較少水的情況下能夠浸泡較高的部位、經(jīng)久耐用、不易老化、排水給水方便的優(yōu)點。

圖I是本實用新型的剖面結構示意圖。其中1、腔體 2、開口 3、外沿 4、第一開口 5、第二開口。
具體實施方式
以下結合附圖對本實用新型作進一步的描述。如圖I所示，足浴盆，具有一個扁平的腔體I，腔體I上面具有開口 2，其特征是所述的開口 2部分周圍具有向上延伸的外沿3，所述的足浴盆是陶瓷制成的。進一步的講，所述的足浴盆下側部具有第一開口 4，這個開口可以作為排水口。進一步的講，所述的足浴盆上部具有第二開口 5，這個開口可以作為進水口。
權利要求1.足浴盆，具有一個扁平的腔體，腔體上面具有開口，其特征是所述的開口部分周圍具有向上延伸的外沿，所述的足浴盆是陶瓷制成的。
2.根據(jù)權利要求I所述的足浴盆，其特征是所述的足浴盆下側部具有第一開口。
3.根據(jù)權利要求I或2所述的足浴盆，其特征是所述的足浴盆上部具有第二開口。
專利摘要本實用新型涉及衛(wèi)浴，具體地說是涉及一種足浴盆，它具有一個扁平的腔體，腔體上面具有開口，所述的開口部分周圍具有向上延伸的外沿，所述的足浴盆是陶瓷制成的，所述的足浴盆下側部具有第一開口，所述的足浴盆上部具有第二開口，這樣的足浴盆具有在使用較少水的情況下能夠浸泡較高的部位、經(jīng)久耐用、不易老化、排水給水方便的優(yōu)點。
文檔編號A47K3/022GK202723692SQ20122036263
公開日2013年2月13日 申請日期2012年7月26日 優(yōu)先權日2012年7月26日
發(fā)明者張延偉 申請人:長葛市新大都瓷業(yè)有限公司