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      一種槽式硅片清洗機(jī)及其拋動(dòng)架的制作方法

      文檔序號(hào):1342048閱讀:166來源:國知局
      專利名稱:一種槽式硅片清洗機(jī)及其拋動(dòng)架的制作方法
      技術(shù)領(lǐng)域
      本實(shí)用新型涉及太陽能電池板生產(chǎn)設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,更具體的說是涉及一種槽式硅片清洗機(jī)及其拋動(dòng)架。
      背景技術(shù)
      槽式硅片清洗機(jī)是一種采用純水對(duì)切割后的硅片進(jìn)行清洗處理,并對(duì)清洗后的硅片進(jìn)行干燥處理的全自動(dòng)設(shè)備,超聲波清洗槽是槽式硅片清洗機(jī)內(nèi)的主要組成部分,是對(duì)硅片進(jìn)行清洗的場所,超聲波清洗槽內(nèi)設(shè)置有拋動(dòng)架,拋動(dòng)架在電機(jī)的帶動(dòng)下可實(shí)現(xiàn)上下運(yùn)動(dòng),待清洗的娃片首先放入到插片盒內(nèi),然后將娃片插片盒放直于料籃內(nèi),然后將料籃安裝于拋動(dòng)架上,拋動(dòng)架帶動(dòng)料籃上下運(yùn)動(dòng)從而實(shí)現(xiàn)對(duì)料籃中的硅片拋動(dòng)清洗。目前的拋動(dòng)架一般只包括用于與驅(qū)動(dòng)裝置相連的連接法蘭端05和料籃承載端,所述料籃承載端僅由底面骨架08構(gòu)成,底面骨架08的四個(gè)邊角部位設(shè)置有與所述料籃的四角部位相配合的托腳07,料籃放置于拋動(dòng)架上時(shí)四角部位剛好放入所述托腳07內(nèi),從而實(shí)現(xiàn)料籃在拋動(dòng)架上的安放。由于對(duì)放入拋動(dòng)架內(nèi)的硅片進(jìn)行上下拋動(dòng)清洗,因而在清洗的過程中不可避免的會(huì)造成一些硅片的破碎,碎片將隨著拋動(dòng)架的運(yùn)動(dòng)逐漸從插片盒內(nèi)脫出,經(jīng)過料籃和拋動(dòng)架最終會(huì)進(jìn)入到超生波清洗槽底部的超聲波振板以及清洗槽底部的縫隙里,這些碎片不僅非常不易清理,而且容易造成底部排水管路的堵塞,更為嚴(yán)重的可能會(huì)導(dǎo)致排水閥門無法開閉,影響清洗機(jī)的正常運(yùn)行。因此,如何能夠在硅片在清洗的過程中防止碎片落入清洗槽的底部,以降低碎片的清理難度,保障硅片清洗機(jī)正常的運(yùn)行是本領(lǐng)域技術(shù)人員亟需解決的技術(shù)問題。

      實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的目的之一是提供一種槽式硅片清洗機(jī)拋動(dòng)架,以防止在硅片清洗的過程中碎片落入到清洗槽的底部,造成清洗槽排水管路的堵塞或者排水閥的損壞。為解決上述技術(shù)問題,本實(shí)用新型提供一種槽式硅片清洗機(jī)拋動(dòng)架,包括用于與驅(qū)動(dòng)裝置相連的連接法蘭和料籃承載端,所述料籃承載端包括底面骨架、頂面骨架和設(shè)置于所述頂面骨架和底面骨架之間的縱向支撐柱,所述底面骨架、頂面骨架和縱向支撐柱圍成料籃容納腔,且所述料籃容納腔的底面和側(cè)面上均包覆有過濾網(wǎng)。優(yōu)選的,所述料籃容納腔底面上設(shè)置有用于與料籃配合的托腳。優(yōu)選的,所述過濾網(wǎng)可拆裝的設(shè)置于所述料籃容納腔的底面和側(cè)面上。優(yōu)選的,所述過濾網(wǎng)為不銹鋼過濾網(wǎng),且所述過濾網(wǎng)的網(wǎng)孔面積為8mm2-10mm2。優(yōu)選的,還包括設(shè)置于所述料籃容納腔側(cè)面上且與所述料籃容納腔底面平行的氮?dú)夤苈罚龅獨(dú)夤苈飞铣蛩隽匣@容納腔內(nèi)部的一側(cè)設(shè)置有多個(gè)出氣孔。優(yōu)選的,所述料籃容納腔的底面為長方形,所述縱向支撐柱為兩端封閉的鋼管,所述氮?dú)夤苈返膬啥朔謩e與各自所在側(cè)面的縱向支撐柱相連通,所述料籃容納腔的任意一個(gè)縱向支撐柱上設(shè)置有氮?dú)馊肟凇?yōu)選的,所述出氣孔沿所述氮?dú)夤苈肪鶆蛟O(shè)置,且相鄰兩個(gè)出氣孔的距離不大于5mm ο本實(shí)用新型的另一目的還在于提供一種硅片清洗機(jī),該硅片清洗機(jī)包括清洗槽和設(shè)置于所述清洗槽內(nèi)的拋動(dòng)架,且所述拋動(dòng)架為如上所述的拋動(dòng)架。優(yōu)選的,超聲波振板設(shè)置在清洗槽的底部或者側(cè)壁上。由于槽式硅片清洗機(jī)拋動(dòng)架的料籃承載端包括底面骨架、頂面骨架和設(shè)置于頂面骨架和底面骨架之間的縱向支撐柱,底面骨架、頂面骨架和縱向支撐柱圍成料籃容納腔,并且料籃容納腔的底面和側(cè)面上均包覆有過濾網(wǎng);在清洗的過程中料籃會(huì)放置在上述料籃容納腔內(nèi),過濾網(wǎng)的設(shè)置并不會(huì)對(duì)硅片的清洗造成任何影響,清洗液可以毫無阻攔的與硅片進(jìn)行接觸并對(duì)硅片進(jìn)行清洗,并且在對(duì)硅片進(jìn)行拋動(dòng)清洗過程中,一旦硅片發(fā)生破碎,料籃容納腔底面和側(cè)面上包覆的過濾網(wǎng)將會(huì)有效阻止破碎的硅片進(jìn)入到清洗槽的底部,碎片將停留在拋動(dòng)架料籃承載端的過濾網(wǎng)內(nèi),從而避免碎片對(duì)排水管路和排水閥所造成的危害,保證了硅片清洗機(jī)的正常運(yùn)行;對(duì)硅片進(jìn)行清理時(shí),僅需將拋動(dòng)架料籃承載端的過濾網(wǎng)內(nèi)的碎片清理掉即可,因而也有效降低了硅片的清理難度。

      圖1為現(xiàn)有技術(shù)中槽式硅片清洗機(jī)拋動(dòng)架的主視示意圖;圖2為圖1中所提供的槽式硅片清洗機(jī)拋動(dòng)架的俯視圖;圖3為本實(shí)用新型實(shí)施例所提供的槽式硅片清洗機(jī)拋動(dòng)架的主視示意圖;圖4為圖3中所示的槽式硅片清洗機(jī)拋動(dòng)架的右視圖;圖5為圖3中所示的槽式硅片清洗機(jī)拋動(dòng)架的俯視圖;圖6為圖3中所示的槽式硅片清洗機(jī)拋動(dòng)架料籃容納腔的內(nèi)部氮?dú)夤苈肥疽鈭D。
      具體實(shí)施方式
      本實(shí)用新型的核心是提供一種槽式硅片清洗機(jī)拋動(dòng)架,該槽式硅片清洗機(jī)的拋動(dòng)架的料籃承載端包括由底面骨架、頂面骨架和縱向支撐柱所圍成的料籃容納腔,通過在料籃容納腔的側(cè)壁和底面上設(shè)置過濾網(wǎng)實(shí)現(xiàn)防止拋洗過程中的碎片落入清洗槽底部的目的,本實(shí)用新型同時(shí)還公開了 一種安裝有上述拋動(dòng)架的槽式硅片清洗機(jī)。為了使本技術(shù)領(lǐng)域的人員更好地理解本實(shí)用新型方案,
      以下結(jié)合附圖和具體實(shí)施方式
      對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步的詳細(xì)說明。請(qǐng)參考圖3至圖5,圖3為本實(shí)用新型實(shí)施例所提供的槽式硅片清洗機(jī)拋動(dòng)架的主視示意圖,圖4為圖3中所示的槽式硅片清洗機(jī)拋動(dòng)架的右視圖,圖5為圖3中所示的槽式硅片清洗機(jī)拋動(dòng)架的俯視圖。本實(shí)施例所提供的槽式硅片清洗機(jī)拋動(dòng)架主要應(yīng)用于太陽能電池生產(chǎn)中的硅片清洗工序,該拋動(dòng)架主要包括連接法蘭5和料籃承載端,其中連接法蘭5可將該拋動(dòng)架連接于驅(qū)動(dòng)裝置上,例如驅(qū)動(dòng)電機(jī),料籃承載端包括底面骨架8、頂面骨架2和設(shè)置在底面骨架8和頂面骨架2之間的縱向支撐柱4,所謂縱向支撐柱4是指與底面骨架8所在的平面和頂面骨架2所在的平面均垂直的支撐柱,頂面骨架2、底面骨架8和縱向支撐柱4圍成了用于承載料籃的料籃容納腔,該料籃容納腔的底面和側(cè)面上均包覆有過濾網(wǎng)1,為了使過濾網(wǎng)I能夠達(dá)到其預(yù)定功能,料籃容納腔的側(cè)面的高度應(yīng)不小于料籃的高度。上述實(shí)施例中的料籃也稱為花籃,是插片盒的容納裝置,料籃容納腔的形狀是根據(jù)料籃的具體形狀進(jìn)行設(shè)計(jì)。由于料籃容納腔的底面和側(cè)面上均包覆有過濾網(wǎng)1,并且在清洗的過程中料籃會(huì)放置在上述料籃容納腔內(nèi),過濾網(wǎng)I的設(shè)置并不會(huì)對(duì)硅片的清洗造成任何影響,清洗液可以毫無阻攔的與硅片進(jìn)行接觸并對(duì)硅片進(jìn)行清洗,并且在對(duì)硅片進(jìn)行拋動(dòng)清洗過程中,一旦硅片發(fā)生破碎,料籃容納腔底面和側(cè)面上包覆的過濾網(wǎng)I將會(huì)有效阻止破碎的硅片進(jìn)入到清洗槽的底部,碎片將停留在拋動(dòng)架料籃承載端的過濾網(wǎng)I內(nèi),從而避免碎片對(duì)清洗槽底部的排水管路和排水閥所造成的危害,保證了硅片清洗機(jī)的正常運(yùn)行;對(duì)硅片進(jìn)行清理時(shí),僅需將拋動(dòng)架料籃承載端的過濾網(wǎng)I內(nèi)的碎片清理掉即可,因而也有效降低了硅片的清理難度。為了保證料籃放置的穩(wěn)定性,防止在拋動(dòng)清洗的過程中料籃發(fā)生傾斜,本實(shí)施例中的料籃容納腔的底部設(shè)置有與料籃相配合的托腳7。過濾網(wǎng)I可固定設(shè)置在料籃容納腔的側(cè)面和底面上,例如可采用焊接的方式將過濾網(wǎng)I焊接在料籃容納腔的底面和側(cè)面上,但是該種方式所提供的拋動(dòng)架一旦過濾網(wǎng)I出現(xiàn)損壞,就需要整體更換拋動(dòng)架,更換成本十分昂貴,因此為了消除該種弊端,本實(shí)施例中的過濾網(wǎng)I可拆裝的設(shè)置在料籃容納腔的底面和側(cè)面上,如螺栓連接。本實(shí)施例中的過濾網(wǎng)I采用不銹鋼材質(zhì)的過濾網(wǎng),不銹鋼材質(zhì)的過濾網(wǎng)不僅具有較長的使用壽命,而且其在使用周期內(nèi)不會(huì)生銹腐蝕,從而也可以避免過濾網(wǎng)I給硅片的清洗過程引入雜質(zhì),網(wǎng)孔面積太大達(dá)不到過濾碎片的效果,而網(wǎng)孔的面積太小又會(huì)影響清洗劑對(duì)硅片的清洗效果,因此為了保證過濾網(wǎng)I能夠阻止碎片進(jìn)入到硅片清洗槽的底部同時(shí)保證清洗效果,本實(shí)施例中過濾網(wǎng)I上的網(wǎng)孔的面積優(yōu)選的在8平方毫米到10平方毫米之間,更為優(yōu)選的為10平方毫米。為了進(jìn)一步提高硅片的清洗質(zhì)量,提高硅片表面的潔凈度,去除硅片表面的細(xì)小顆粒和雜質(zhì)離子,同時(shí)縮短清洗時(shí)間,提高清洗效率,本實(shí)施例中還在料籃容納腔的側(cè)面設(shè)置了與料籃容納腔的底面平行的氮?dú)夤苈?,氮?dú)夤苈?可以為一根也可為多根,氮?dú)夤苈?朝向料籃容納腔內(nèi)部的一側(cè)設(shè)置有多個(gè)出氣孔9,以使氮?dú)獯迪蚍胖迷诹匣@容納腔內(nèi)的娃片的表面,如圖6中所不。為了實(shí)際生產(chǎn)過程中的方便,本實(shí)施例中的料籃容納腔的底面為長方形,因而該料籃容納腔包括四個(gè)側(cè)面,并且縱向支撐柱4為兩端部封閉的鋼管,氮?dú)夤苈?的兩端分別與各自所在的側(cè)面上的縱向支撐柱4相連通,并且料籃容納腔的任意一個(gè)縱向支撐柱4上設(shè)置有氮?dú)馊肟?6,當(dāng)然為了增大充氣壓力,也可以在多個(gè)縱向支撐柱4上設(shè)置氮?dú)馊肟?6 ;由于氮?dú)夤苈?的兩端分別與各自所在的側(cè)面內(nèi)的縱向支撐柱4相連通,而縱向支撐柱4又為兩端封閉的鋼管,因而也就實(shí)現(xiàn)了料籃容納腔側(cè)面上的氮?dú)夤苈?的全部連通;由此可見,本實(shí)施例中提供的拋動(dòng)架的縱向支撐柱4本身作為了氮?dú)夤苈?的一部分,這不僅可以使拋動(dòng)架的整體結(jié)構(gòu)更加緊湊,而且可以降低拋動(dòng)架的生產(chǎn)成本。為了保證硅片的清洗效果,本實(shí)施例中的氮?dú)夤苈?上的出氣孔9沿氮?dú)夤苈?均勻設(shè)置,并且相鄰的兩個(gè)出氣孔9的距離優(yōu)選的不大于5mm。[0035]本實(shí)用新型同時(shí)還公開了一種槽式硅片清洗機(jī),該槽式硅片清洗機(jī)包括清洗槽和設(shè)置于硅片清洗槽內(nèi)的拋動(dòng)架,且該拋動(dòng)架為上述任意一實(shí)施例中的拋動(dòng)架。由于該槽式硅片清洗機(jī)的清洗槽內(nèi)設(shè)置了上述實(shí)施例中的拋動(dòng)架,因而該槽式硅片清洗機(jī)具有上述拋動(dòng)架所帶來的所有優(yōu)點(diǎn)。硅片清洗槽內(nèi)設(shè)置有超聲波振板,該超聲波振板可以設(shè)置于清洗槽的底部或者清洗槽的側(cè)壁上。以上對(duì)本實(shí)用新型所提供的槽式硅片清洗機(jī)及其拋動(dòng)架進(jìn)行了詳細(xì)介紹。本文中應(yīng)用了具體個(gè)例對(duì)本實(shí)用新型的原理及實(shí)施方式進(jìn)行了闡述,以上實(shí)施例的說明只是用于幫助理解本實(shí)用新型的方法及其核心思想。應(yīng)當(dāng)指出,對(duì)于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說,在不脫離本實(shí)用新型原理的前提下,還可以對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行若干改進(jìn)和修飾,這些改進(jìn)和修飾也落入本實(shí)用新型權(quán)利要求的保護(hù)范圍內(nèi)。
      權(quán)利要求1.一種槽式硅片清洗機(jī)拋動(dòng)架,包括用于與驅(qū)動(dòng)裝置相連的連接法蘭(5)和料籃承載端,其特征在于,所述料籃承載端包括底面骨架(8)、頂面骨架(2)和設(shè)置于所述頂面骨架(2)和底面骨架(8)之間的縱向支撐柱(4),所述底面骨架(8)、頂面骨架(2)和縱向支撐柱(4)圍成料籃容納腔,且所述料籃容納腔的底面和側(cè)面上均包覆有過濾網(wǎng)(I)。
      2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的槽式硅片清洗機(jī)拋動(dòng)架,其特征在于,所述料籃容納腔底面上設(shè)置有用于與料籃配合的托腳(7 )。
      3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的槽式硅片清洗機(jī)拋動(dòng)架,其特征在于,所述過濾網(wǎng)(I)可拆裝的設(shè)置于所述料籃容納腔的底面和側(cè)面上。
      4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的槽式硅片清洗機(jī)拋動(dòng)架,其特征在于,所述過濾網(wǎng)(I)為不銹鋼過濾網(wǎng),且所述過濾網(wǎng)(I)的網(wǎng)孔面積為8mm2-10mm2。
      5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的槽式硅片清洗機(jī)拋動(dòng)架,其特征在于,還包括設(shè)置于所述料籃容納腔側(cè)面上且與所述料籃容納腔底面平行的氮?dú)夤苈?3),所述氮?dú)夤苈?3)上朝向所述料籃容納腔內(nèi)部的一側(cè)設(shè)置有多個(gè)出氣孔(9)。
      6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的槽式硅片清洗機(jī)拋動(dòng)架,其特征在于,所述料籃容納腔的底面為長方形,所述縱向支撐柱(4)為兩端封閉的鋼管,所述氮?dú)夤苈?3)的兩端分別與各自所在側(cè)面的縱向支撐柱(4)相連通,所述料籃容納腔的任意一個(gè)縱向支撐柱(4)上設(shè)置有氮?dú)馊肟?6)。
      7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的槽式硅片清洗機(jī)拋動(dòng)架,其特征在于,所述出氣孔(9)沿所述氮?dú)夤苈?3)均勻設(shè)置,且相鄰兩個(gè)出氣孔(9)的距離不大于5mm。
      8.一種槽式硅片清洗機(jī),包括清洗槽和設(shè)置于所述清洗槽內(nèi)的拋動(dòng)架,其特征在于,所述拋動(dòng)架為如權(quán)利要求1-7任意一項(xiàng)所述的拋動(dòng)架。
      9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的槽式硅片清洗機(jī),其特征在于,超聲波振板設(shè)置于所述清洗槽的底部或者側(cè)壁上。
      專利摘要本實(shí)用新型涉及一種槽式硅片清洗機(jī)拋動(dòng)架,包括用于與驅(qū)動(dòng)裝置相連的連接法蘭和料籃承載端,料籃承載端包括底面骨架、頂面骨架和設(shè)置于頂面骨架和底面骨架之間的縱向支撐柱,底面骨架、頂面骨架和縱向支撐柱圍成料籃容納腔,且料籃容納腔的底面和側(cè)面上均包覆有過濾網(wǎng)。由于料籃容納腔的底面和側(cè)面上包覆有過濾網(wǎng),因此在對(duì)硅片進(jìn)行拋動(dòng)清洗過程中,一旦硅片發(fā)生破碎,過濾網(wǎng)將會(huì)有效阻止破碎的硅片進(jìn)入到清洗槽的底部,碎片將停留在拋動(dòng)架料籃承載端的過濾網(wǎng)內(nèi),從而避免碎片對(duì)清洗槽底部的排水管路和排水閥所造成的危害,保證了硅片清洗機(jī)的正常運(yùn)行。本實(shí)用新型同時(shí)還公開了一種安裝有上述拋動(dòng)架的槽式硅片清洗機(jī)。
      文檔編號(hào)B08B3/12GK202962962SQ20122066760
      公開日2013年6月5日 申請(qǐng)日期2012年12月5日 優(yōu)先權(quán)日2012年12月5日
      發(fā)明者梁宏健, 朱峰, 田歡 申請(qǐng)人:英利能源(中國)有限公司
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