專利名稱：一種光學晶體的清洗方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種清洗方法，尤其是光學晶體的清洗方法。
背景技術：
目前，光學晶體加工清洗劑，是采用玻璃，多種晶體的通用簡單的清洗劑，不能滿足光學晶體加工需要，不能快速達到清潔度，操作不方面。通常光學晶體的加工面粘附物有無機物，和有機物，無機物比較好去除，附著有機物主要有，浙青，松香，石蠟等凝膠物；氫氟酸對晶體器件有腐蝕；石蠟，不容與水，稀釋酒精；浙青，不容與水，稀釋酒精；松香，不容與水，冷卻后不易粘接，殘留物顆粒狀。主要溶解去除石蠟和浙青附著物，(松香粉末很容易去)，去掉有機附著物，可以很快達到潔凈度。

發(fā)明內容
本發(fā)明要解決的技術問題是提供一種光學晶體的清洗方法，能夠有效迅速去除光學晶體表面的附著物。本發(fā)明是通過以下技術方案來實現(xiàn)的。一種光學晶體的清洗方法，包括步驟:(I)選取潔凈的容器，按照重量百分比計，放入丙二醇正丁醚5%_10%、丙二醇甲醚5%-10%、乙醇 10%-20%、異丙醇 20%-30%、水 40%-50%，充分混勻；(2)將待清洗的光學晶體放入上述容器內清洗2 3分鐘；(3)將光學晶體取出，用水清洗f 2分鐘；(4)反復步驟(2) (3)操作:Γ5次;(5)將光學晶體烘干。進一步地，上述步驟(I)中，水為去離子水。進一步地，上述步驟(I)中，先放入去離子水、丙二醇正丁醚，混勻，添加丙二醇甲醚，混勻后，再添加乙醇，混勻后，最后再添加異丙醇，充分混勻。進一步地，上述步驟(5)中，將光學晶體在70° (T80° C烘干:Γ5分鐘。本發(fā)明的有益效果:本發(fā)明提供的清洗方法，能夠有效去除，浙青，松香，石蠟等凝膠物，氫氟酸、石蠟、浙青、松香等各種附著物，清洗速度快，效率較高；同時本發(fā)明的清洗液低毒，對人體傷害小，使用方便，清除污跡快捷，清洗潔凈度高。
具體實施例方式下面根據(jù)實施例對本發(fā)明作進一步詳細說明。實施案例1:光學晶體的清洗方法，包括步驟:
(I)選取潔凈的容器，按照重量百分比計，放入丙二醇正丁醚5%、丙二醇甲醚10%、乙醇20%、異丙醇25%、去離子水40%，充分混勻；具體是先放入去離子水、丙二醇正丁醚，混勻，添加丙二醇甲醚，混勻后，再添加乙醇，混勻后，最后再添加異丙醇，充分混勻；(2)將待清洗的光學晶體放入上述容器內清洗2 3分鐘；(3)將光學晶體取出，用水清洗f 2分鐘；(4)反復步驟(2) (3)操作3 5次；(5)將光學晶體在70° (T80° C烘干:Γ5分鐘。實施案例2:光學晶體的清洗方法，包括步驟:(I)選取潔凈的容器，按照重量百分比計，放入丙二醇正丁醚10%、丙二醇甲醚5%、乙醇10%、異丙醇25%、去離子水50%，充分混勻；具體是先放入去離子水、丙二醇正丁醚，混勻，添加丙二醇甲醚，混勻后，再添加乙醇，混勻后，最后再添加異丙醇，充分混勻；(2)將待清洗的光學晶體放入上述容器內清洗2 3分鐘；(3)將光學晶體取出，用水清洗f 2分鐘；(4)反復步驟(2) (3)操作:Γ5次;`
(5)將光學晶體在70° (T80° C烘干:Γ5分鐘。實施案例3:光學晶體的清洗方法，包括步驟:(I)選取潔凈的容器，按照重量百分比計，放入丙二醇正丁醚5%、丙二醇甲醚5%、乙醇20%、異丙醇30%、去離子水40%，充分混勻；具體是先放入去離子水、丙二醇正丁醚，混勻，添加丙二醇甲醚，混勻后，再添加乙醇，混勻后，最后再添加異丙醇，充分混勻；(2)將待清洗的光學晶體放入上述容器內清洗2 3分鐘；(3)將光學晶體取出，用水清洗f 2分鐘；(4)反復步驟(2) (3)操作:Γ5次;(5)將光學晶體在70° C 80° C烘干:Γ5分鐘。實施案例4:光學晶體的清洗方法，包括步驟:(I)選取潔凈的容器，按照重量百分比計，放入丙二醇正丁醚5%、丙二醇甲醚10%、乙醇15%、異丙醇20%、去離子水50%，充分混勻；具體是先放入去離子水、丙二醇正丁醚，混勻，添加丙二醇甲醚，混勻后，再添加乙醇，混勻后，最后再添加異丙醇，充分混勻；(2)將待清洗的光學晶體放入上述容器內清洗2 3分鐘；(3)將光學晶體取出，用水清洗f 2分鐘；(4)反復步驟(2) (3)操作:Γ5次;(5)將光學晶體在70° C 80° C烘干:Γ5分鐘。本發(fā)明，光學晶體的清洗方法，能夠有效去除，浙青，松香，石蠟等凝膠物，氫氟酸、石蠟、浙青、松香等各種附著物，清洗速度快，效率較高；同時本發(fā)明的清洗液低毒，對人體傷害小，使用方便，清除污跡快捷，清洗潔凈度高。上述實施例只為說明本發(fā)明的技術構思及特點，其目的在于讓熟悉此領域技術的人士能夠了解本發(fā)明內容并加以實施，并不能以此限制本發(fā)明的保護范圍。凡根據(jù)本發(fā)明精神實質所作的等效變化或修飾，都應涵蓋在本發(fā)明的保護范圍內。
權利要求
1.一種光學晶體的清洗方法，其特征在于，包括步驟: (1)選取潔凈的容器，按照重量百分比計，放入丙二醇正丁醚5%-10%、丙二醇甲醚5%-10%、乙醇 10%-20%、異丙醇 20%-30%、水 40%_50%，充分混勻； (2)將待清洗的光學晶體放入所述容器內清洗2 3分鐘； (3)將光學晶體取出，用水清洗Γ2分鐘； (4)反復步驟(2)(3)操作:Γ5次; (5)將光學晶體烘干。
2.根據(jù)權利要求1所述的光學晶體的清洗方法，其特征在于，所述步驟(I)中，水為去離子水。
3.根據(jù)權利要求2所述的光學晶體的清洗方法，其特征在于，所述步驟(I)中，先放入去離子水、丙二醇正丁醚，混勻，添加丙二醇甲醚，混勻后，再添加乙醇，混勻后，最后再添加異丙醇，充分混勻。
4.根據(jù)權利要求1所述的光學晶體的清洗方法，其特征在于，所述步驟(5)中，將光學晶體在70° C 80° C烘干:Γ5分鐘。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種光學晶體的清洗方法，包括步驟選取潔凈的容器，按照重量百分比計，放入丙二醇正丁醚5%-10%、丙二醇甲醚5%-10%、乙醇10%-20%、異丙醇20%-30%、水40%-50%，充分混勻；將待清洗的光學晶體放入上述容器內清洗2~3分鐘；將光學晶體取出，用水清洗1~2分鐘；反復以上步驟操作3~5次；將光學晶體烘干。本發(fā)明的優(yōu)點在于，能夠有效去除，瀝青，松香，石蠟等凝膠物，氫氟酸、石蠟、瀝青、松香等各種附著物，清洗速度快，效率較高；同時本發(fā)明的清洗液低毒，對人體傷害小，使用方便，清除污跡快捷，清洗潔凈度高。
文檔編號C11D7/50GK103071641SQ201310029818
公開日2013年5月1日 申請日期2013年1月25日 優(yōu)先權日2013年1月25日
發(fā)明者萬文, 萬黎明 申請人:安徽環(huán)巢光電科技有限公司