一種x射線碘化銫閃爍屏襯底的清潔方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種X射線碘化銫閃爍屏襯底的清潔方法，具體步驟包括：先用洗滌劑把襯底先清洗，然后再用離子水沖干凈；將濃硫酸：雙氧水按2：1的比例混合配置；將第一次沖洗好的襯底放到piranha溶液里侵泡；將浸泡好的襯底取出，用大量去離子水沖干凈；將第二次沖洗好的襯底用酒精沖洗，最后用氮?dú)獯蹈伞Ｍㄟ^(guò)上述方式，本發(fā)明一種X射線碘化銫閃爍屏襯底的清潔方法可以將襯底徹底的清洗干凈，使得濺射后薄膜與襯底具有足夠的結(jié)合力。
【專利說(shuō)明】一種X射線碘化銫閃爍屏襯底的清潔方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及襯底的清潔方法，尤其涉及一種X射線碘化銫閃爍屏襯底的清潔方法。
【背景技術(shù)】
[0002]在工業(yè)及醫(yī)療行業(yè)中X射線探測(cè)器被廣泛的應(yīng)用，作為X射線探測(cè)器必不可少的閃爍體部分也越來(lái)越重要。對(duì)于一些新型的醫(yī)用閃爍體，制備單晶時(shí)十分困難，發(fā)展多晶陶瓷閃爍體是目前最重要的研究方向，多晶陶瓷閃爍體具有成本低、加工性能好，易于進(jìn)行性能裁剪等優(yōu)點(diǎn)，是目前醫(yī)用閃爍體的首選。
[0003]作為閃爍層常用的材料通常有摻雜鈉的碘化銫(Cs1:Na)、摻雜鉈的碘化銫(Cs1:TL)、碘化鈉(NaI)、硫氧化禮(Gd2O2S)等。然而在制造過(guò)程中襯底的清洗往往達(dá)不到要求，丙酮、無(wú)水乙醇超聲清洗過(guò)的襯底，表面還是會(huì)有油污，濺射后薄膜與襯底的結(jié)合力不夠。如在襯底上面打Ni/Cr緩沖層，然后再打Au電極，做完的薄膜拿到壓焊機(jī)去拉引線的時(shí)候，引線經(jīng)常會(huì)把電極膜給帶出來(lái)。如何把襯底清洗干凈成了一個(gè)不得不解決的難題。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明主要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種X射線碘化銫閃爍屏襯底的清潔方法。
[0005]為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本發(fā)明采用的一個(gè)技術(shù)方案是:一種X射線碘化銫閃爍屏襯底的清潔方法，具體步驟包括:
第一次沖洗襯底:先用洗滌劑把襯底先清洗，然后再用離子水沖干凈；
配置piranha溶液:將濃硫酸:雙氧水按2:1的比例混合配置；
浸泡襯底:將第一次沖洗好的襯底放到piranha溶液里侵泡；
第二次沖洗襯底；將浸泡好的襯底取出，用大量去離子水沖干凈；
吹干襯底:將第二次沖洗好的襯底用酒精沖洗，最后用氮?dú)獯蹈伞?br> [0006]在本發(fā)明一個(gè)較佳實(shí)施例中，所述襯底的材質(zhì)為S1、SiO2, TiO2和Pt中的任意一種。在本發(fā)明一個(gè)較佳實(shí)施例中，所述浸泡襯底的時(shí)間大于10分鐘。
[0007]在本發(fā)明一個(gè)較佳實(shí)施例中，所述piranha溶液需即配即用，用完稀釋后倒掉，不能密封保存，有爆炸的危險(xiǎn)。
[0008]本發(fā)明的有益效果是:本發(fā)明一種X射線碘化銫閃爍屏襯底的清潔方法可以將襯底徹底的清洗干凈，使得濺射后薄膜與襯底具有足夠的結(jié)合力。
【具體實(shí)施方式】
[0009]下面對(duì)本發(fā)明的較佳實(shí)施例進(jìn)行詳細(xì)闡述，以使本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)和特征能更易于被本領(lǐng)域技術(shù)人員理解，從而對(duì)本發(fā)明的保護(hù)范圍做出更為清楚明確的界定。
[0010]本發(fā)明實(shí)施例包括:一種X射線碘化銫閃爍屏襯底的清潔方法，具體步驟包括: 第一次沖洗襯底:先用洗滌劑把襯底先清洗，然后再用離子水沖干凈。
[0011]配置piranha溶液:將濃硫酸:雙氧水按2:1的比例混合配置,所述piranha溶液需即配即用，用完稀釋后倒掉，不能密封保存，有爆炸的危險(xiǎn)。
[0012]浸泡襯底:將第一次沖洗好的襯底放到piranha溶液里侵泡,所述浸泡襯底的時(shí)間大于10分鐘。
[0013]第二次沖洗襯底；將浸泡好的襯底取出，用大量去離子水沖干凈。
[0014]吹干襯底:將第二次沖洗好的襯底用酒精沖洗，最后用氮?dú)獯蹈伞?br> [0015]所述襯底的材質(zhì)為S1、SiO2, TiO2和Pt中的任意一種。
[0016]下面對(duì)本發(fā)明的一種X射線碘化銫閃爍屏襯底的清潔方法的工作原理進(jìn)行詳細(xì)介紹。
[0017]清潔時(shí)首先用洗滌劑把襯底先清洗，然后再用離子水沖干凈，然后配置piranha溶液，將濃硫酸:雙氧水按2:1的比例混合配置，將第一次沖洗好的襯底放到piranha溶液里侵泡，浸泡時(shí)間大于10分鐘，將浸泡好的襯底取出，用大量去離子水沖干凈，最后將第二次沖洗好的襯底用酒精沖洗，最后用氮?dú)獯蹈伞?br> [0018]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明一種X射線碘化銫閃爍屏襯底的清潔方法可以將襯底徹底的清洗干凈，使得濺射后薄膜與襯底具有足夠的結(jié)合力。
[0019]以上所述僅為本發(fā)明的實(shí)施例，并非因此限制本發(fā)明的專利范圍，凡是利用本發(fā)明說(shuō)明書內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)或等效流程變換，或直接或間接運(yùn)用在其他相關(guān)的【技術(shù)領(lǐng)域】，均同理包括在本發(fā)明的專利保護(hù)范圍內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種X射線碘化銫閃爍屏襯底的清潔方法，其特征在于，具體步驟包括: 第一次沖洗襯底:先用洗滌劑把襯底先清洗，然后再用離子水沖干凈； 配置piranha溶液:將濃硫酸:雙氧水按2:1的比例混合配置； 浸泡襯底:將第一次沖洗好的襯底放到piranha溶液里侵泡； 第二次沖洗襯底；將浸泡好的襯底取出，用大量去離子水沖干凈； 吹干襯底:將第二次沖洗好的襯底用酒精沖洗，最后用氮?dú)獯蹈伞?br> 2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種X射線碘化銫閃爍屏襯底的清潔方法，其特征在于:所述襯底的材質(zhì)為S1、Si02、Ti02和Pt中的任意一種。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種X射線碘化銫閃爍屏襯底的清潔方法，其特征在于:所述浸泡襯底的時(shí)間大于IO分鐘。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種X射線碘化銫閃爍屏襯底的清潔方法，其特征在于:所述piranha溶液需即配即用，用完稀釋后倒掉，不能密封保存，有爆炸的危險(xiǎn)。
【文檔編號(hào)】B08B3/02GK103706592SQ201310628611
【公開日】2014年4月9日 申請(qǐng)日期:2013年12月2日 優(yōu)先權(quán)日:2013年12月2日
【發(fā)明者】范波 申請(qǐng)人:江蘇龍信電子科技有限公司