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      一種等離子體刻蝕電紡纖維膜SERS基底的制備方法與流程

      文檔序號(hào):11614134閱讀:440來源:國知局
      一種等離子體刻蝕電紡纖維膜SERS基底的制備方法與流程

      本發(fā)明屬于拉曼檢測(cè)技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種等離子體刻蝕電紡纖維膜sers基底的制備方法。



      背景技術(shù):

      表面增強(qiáng)拉曼散射(sers)作為一種強(qiáng)有力的化學(xué)和生物分析光譜技術(shù),在分析化學(xué)、生物醫(yī)藥和環(huán)境檢測(cè)等方面具有十分廣闊的應(yīng)用前景。由于表面等離子體共振效應(yīng),金銀等貴金屬納米粒子常常被用作sers基底材料。值得注意的是,金銀納米粒子比較容易團(tuán)聚,其所構(gòu)成的sers基底性能較不穩(wěn)定,為此,需要將這些納米粒子負(fù)載在特定基底上。靜電紡絲纖維膜由于具有較大的比表面積和簡(jiǎn)單易得的優(yōu)勢(shì)而成為負(fù)載貴金屬納米粒子的理想基底。

      以往制備負(fù)載貴金屬納米粒子電紡纖維膜的方法主要有:1.將制備好的纖維膜浸泡在預(yù)先制備好的金屬納米粒子溶膠中;2.將聚合物與金屬納米粒子的前驅(qū)體結(jié)合,電紡成纖維膜后再用化學(xué)或者熱處理的方法制備出金屬納米粒子;3.將聚合物與金屬納米粒子溶液混合后靜電紡絲成纖維膜。但由于這些金屬納米粒子大多分布在纖維的內(nèi)部,它們的sers性能往往容易受到影響。因此,為了提高sers性能,必須使納米粒子最大限度地暴露在纖維表面。



      技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

      本發(fā)明的目的在于提供一種等離子體刻蝕電紡纖維膜sers基底的制備方法,以通過簡(jiǎn)便的方法制備出性能優(yōu)異的sers基底。具體是一種采用靜電紡絲技術(shù)制備的復(fù)合纖維膜通過氣體等離子體處理后,得到的復(fù)合纖維膜sers基底。該sers基底具有良好的增強(qiáng)效果和信號(hào)可重復(fù)性。

      本發(fā)明是通過以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的:一種等離子體刻蝕電紡纖維膜sers基底的制備方法,包括將聚合物與金屬銀納米粒子的前驅(qū)體結(jié)合,通過靜電紡絲技術(shù)制備出復(fù)合納米纖維膜,然后再通過氣體等離子體刻蝕處理復(fù)合納米纖維膜,纖維膜表面的金屬銀納米粒子的前驅(qū)體被還原成金屬銀納米粒子,得到聚合物/金屬銀納米粒子復(fù)合纖維膜sers基底。

      與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明具有如下的優(yōu)勢(shì):

      (1)本發(fā)明所制備的sers基底是結(jié)合靜電紡絲技術(shù)和等離子體刻蝕技術(shù)得到的。該sers基底不僅保留了靜電紡絲纖維膜所具有的比表面積大的優(yōu)勢(shì),而且還通過氣體等離子體刻蝕技術(shù)使得原位還原形成的金屬銀納米粒子更多地暴露在纖維表面,從而提高了纖維膜的sers增強(qiáng)效果。

      (2)本發(fā)明的制備方法十分簡(jiǎn)便,周期短,所得到的sers基底具有良好的增強(qiáng)效果和信號(hào)重復(fù)性,在拉曼檢測(cè)的理論研究與實(shí)際應(yīng)用方面具有重要意義。

      附圖說明

      圖1為本發(fā)明實(shí)施例14制備的sers基底在不同放大倍數(shù)下的掃描電鏡圖。

      圖2為本發(fā)明實(shí)施例14制備的sers基底信號(hào)可重復(fù)性測(cè)試的拉曼光譜圖。以濃度為10-4m的r6g為探針分子,隨機(jī)選取20個(gè)點(diǎn),進(jìn)行sers基底的信號(hào)可重復(fù)性檢測(cè)。由圖可以看出:20個(gè)隨機(jī)點(diǎn)的拉曼信號(hào)強(qiáng)度基本一致,該基底具有良好的信號(hào)可重復(fù)性。

      圖3為不同濃度的r6g探針分子在本發(fā)明實(shí)施例14制備的sers基底上的拉曼測(cè)試譜圖。從圖中可以看出,該基底能檢測(cè)的r6g分子的最低濃度為10-12m。

      圖4為不同刻蝕功率及刻蝕時(shí)間下制備的sers基底的拉曼光譜圖和1641cm-1拉曼位移處對(duì)應(yīng)的拉曼強(qiáng)度分布圖。圖中a和c為拉曼光譜圖,b和d為拉曼強(qiáng)度分布圖。

      圖5為在不同金屬銀納米粒子的前驅(qū)體的含量下制備的sers基底的拉曼光譜圖和1641cm-1拉曼位移處對(duì)應(yīng)的拉曼強(qiáng)度分布圖。圖中a為拉曼光譜圖,b為拉曼強(qiáng)度分布圖。

      具體實(shí)施方式

      本發(fā)明通過改變金屬銀納米粒子的前驅(qū)體的含量、氣體等離子體刻蝕時(shí)間和刻蝕功率調(diào)節(jié)纖維膜sers基底的sers性能。

      為使本發(fā)明的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚明了,以下結(jié)合具體實(shí)施例,并參照附圖,對(duì)本發(fā)明進(jìn)行進(jìn)一步詳細(xì)說明。

      作為本發(fā)明的一種具體實(shí)施方式,本發(fā)明所述制備方法中復(fù)合納米纖維膜放入等離子體刻蝕機(jī)中實(shí)現(xiàn)刻蝕處理;其中,刻蝕處理的工藝參數(shù)為:刻蝕過程中氣體流量為10cc/min,壓力為100mtorr,刻蝕功率為25w~100w,刻蝕時(shí)間為1~8min。

      當(dāng)然,為了使聚合物與金屬銀納米粒子的前驅(qū)體能夠更好的結(jié)合,可事先將聚合物溶于溶劑中,然后將前驅(qū)體溶解于混合溶液中再進(jìn)行靜電紡絲。下面提供本發(fā)明的一些實(shí)施例,在這些實(shí)施例中,金屬銀納米粒子的前驅(qū)體為agno3,聚合物為聚丙烯腈(pan)。并且復(fù)合納米纖維膜的制備方法為:

      (1)pan/agno3溶液的配置:將agno3粉末溶解在濃度為10wt%的pan/dmf溶液中,避光攪拌24h;

      (2)pan/agno3電紡纖維膜的制備:使用(1)所得到的pan/agno3溶液進(jìn)行靜電紡絲,紡絲工藝參數(shù)為:電壓15kv,針頭到收集板的距離15cm,進(jìn)料速率500μl/h,紡絲時(shí)間1h,得到pan/agno3復(fù)合納米纖維膜。

      本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)清楚的是,聚合物除了可采用pan之外,還可采用聚偏氟乙烯、聚苯乙烯等等任何一種可用于靜電紡絲的聚合物;而金屬銀納米粒子的前驅(qū)體除了可采用agno3外,也可采用其他前驅(qū)體。另外,氣體除了氬氣外,還可采用氦氣或氧氣等氣體,但是由于本發(fā)明中形成的是金屬銀納米粒子,而金屬銀納米粒子易被氧化,所以采用了氣體中的氬氣。在實(shí)驗(yàn)室中,氬氣相對(duì)于其他氣體更安全、更常見,因此本發(fā)明在具體實(shí)施例中采用的氣體均是氬氣。

      下面通過具體實(shí)施例,進(jìn)一步闡述本發(fā)明。

      原料處理

      (1)pan/agno3溶液的制備方法,具體包括以下步驟:

      按pan:agno3的質(zhì)量比分別為10:1,10:3,10:5,10:7的比例,將agno3粉末加入到濃度為10wt%的pan/dmf溶液中,避光攪拌24h,待用。

      (2)pan/agno3電紡纖維膜的制備方法,具體包括以下步驟:

      將上述pan/agno3溶液取出一部分裝入10ml的注射器中,針頭內(nèi)徑為0.7mm,在施加電壓為15kv,針頭到收集板的距離為15cm,進(jìn)料速率為500μl/h的條件下進(jìn)行1h靜電紡絲。

      在原料處理時(shí),本發(fā)明所采用的高壓電源為產(chǎn)自天津市東文高壓電源廠型號(hào)為dw-p503-1acdf的高壓電源,所采用的注射器為產(chǎn)自美國kdscientific公司型號(hào)為legato的微型注射泵,在進(jìn)行刻蝕處理所采用的是產(chǎn)自美國plasmaetch公司型號(hào)為pe-25的等離子體刻蝕機(jī)。

      另外,通過以下各實(shí)施例對(duì)獲得的具有最佳sers性能的pan/ag復(fù)合纖維膜進(jìn)行了sers基底的信號(hào)可重復(fù)性測(cè)試:以濃度為10-4m的r6g為探針分子,隨機(jī)選取20個(gè)點(diǎn),進(jìn)行sers基底的信號(hào)可重復(fù)性檢測(cè)。并且采用不同濃度的r6g為探針分子,對(duì)獲得的pan/ag復(fù)合纖維膜的sers性能進(jìn)行了檢測(cè)。

      表1各實(shí)施例刻蝕處理參數(shù)

      表1中,實(shí)施例1至4是不同刻蝕功率對(duì)sers基底性能影響對(duì)比。由圖4可以看出,隨著功率的增加,拉曼強(qiáng)度也增加,而后基本不變,在50w時(shí),sers增強(qiáng)效果基本達(dá)到最大。這可能是由于隨著功率的繼續(xù)增加,納米粒子的尺寸不均勻,復(fù)合納米纖維膜的表面也遭到破壞造成的,因此當(dāng)聚合物采用pan、金屬銀納米粒子的前驅(qū)體為agno3時(shí),刻蝕功率50w為最佳刻蝕功率,此時(shí)sers增強(qiáng)效果較佳。

      表1中實(shí)施例5至12是不同刻蝕時(shí)間對(duì)sers基底性能影響對(duì)比。由圖4可看出,隨著處理時(shí)間的增加,拉曼強(qiáng)度也在增加,但在3min后,強(qiáng)度的增加不是太明顯。而且4min時(shí),拉曼強(qiáng)度的偏差也較大,這可能是由于復(fù)合納米纖維膜表面遭到破壞,導(dǎo)致形成的納米粒子不均勻造成的,結(jié)合sem結(jié)果,選擇3min作為等離子體處理的最佳時(shí)間。因此當(dāng)聚合物采用pan、金屬銀納米粒子的前驅(qū)體為agno3時(shí),刻蝕時(shí)間3min為最佳刻蝕時(shí)間,此時(shí)sers增強(qiáng)效果較佳。

      在研究不同刻蝕條件對(duì)sers增強(qiáng)效果的影響時(shí),我們除了要選擇較大的拉曼強(qiáng)度作為參考標(biāo)準(zhǔn)以外,還要保持復(fù)合納米纖維膜的完整性,這樣才能保證得到的纖維基底具有很好的重復(fù)性和利用價(jià)值。因此,在后續(xù)的實(shí)驗(yàn)中,我們選擇的等離子體處理?xiàng)l件是50w處理3min。表1中實(shí)施例13至15是不同金屬銀納米粒子的前驅(qū)體的含量對(duì)sers基底性能影響對(duì)比。由圖5可看出,隨著硝酸銀含量的增加,sers強(qiáng)度先增加而后降低。因此,選擇pan與agno3的質(zhì)量比為10:5作為最佳實(shí)驗(yàn)條件。

      表1中,實(shí)施例16與其他實(shí)施例的區(qū)別在于:實(shí)施例16所得到的pan/agno3電紡纖維膜未經(jīng)刻蝕處理,直接用作sers基底,但是其拉曼信號(hào)強(qiáng)度不明顯。

      由上述實(shí)施例對(duì)比可知,通過改變金屬銀納米粒子的前驅(qū)體的含量、氬氣等離子體刻蝕時(shí)間和刻蝕功率實(shí)現(xiàn)了纖維膜sers基底的sers性能的調(diào)節(jié)。而且本發(fā)明所述的纖維膜sers基底具有良好的增強(qiáng)效果和信號(hào)可重復(fù)性。并且,當(dāng)聚合物采用pan、金屬銀納米粒子的前驅(qū)體為agno3時(shí),優(yōu)選的刻蝕條件是50w處理3min,優(yōu)選的pan與agno3的質(zhì)量比為10:5。

      上述實(shí)施例是本發(fā)明的具體實(shí)施例,僅僅是為了說明本發(fā)明所作的舉例,并非是對(duì)發(fā)明的實(shí)施方式的限定。對(duì)于該領(lǐng)域的技術(shù)人員可在不脫離本發(fā)明技術(shù)原理的基礎(chǔ)上做出其他不同形式的變化和變動(dòng),這并不影響本發(fā)明的實(shí)質(zhì)內(nèi)容。

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