專利名稱：：高紅外反射涂層的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及用于玻璃和其它基底的薄膜涂層。特別的，本發(fā)明涉及對紅外輻射的反射特別強(qiáng)的低輻射涂層。還提供了沉積薄膜涂層的方法和設(shè)備。
背景技術(shù)：
：低輻射涂層在本領(lǐng)域中是公知的。通常，它們包括一層或兩層紅外反射膜和兩層或更多層透明介電膜。一般為導(dǎo)電金屬(如銀、金或銅)的紅外反射膜通過涂層減小了熱傳遞。介電膜用于抗紅外反射膜的反射，并用于控制涂層的其它性能和特性，例如顏色和耐久性。其中通常使用的介電材料包括鋅、錫、銦、鉍和鈦的氧化物。大多數(shù)可商購的低輻射涂層具有一個或兩個銀層，各銀層夾在兩個透明介電膜的涂層之間。在低輻射涂層中增加銀膜的數(shù)量可以增大其紅外反射。然而，這也會降低涂層的可見光透射，和/或負(fù)面地影響涂層的顏色，和/或降低涂層的耐久性?；蛟S由于這些原因，具有三個銀層的低輻射涂層過去沒有占據(jù)較大市場。提供包括三個可輻射涂層并具有理想涂層性能和特性的低輻射涂層是理想的。圖1的曲線圖顯示了可商購的雙層銀低輻射涂層的光譜性能。圖2的曲線圖顯示了根據(jù)本發(fā)明的某些實施方案的高紅外反射涂層的光譜性能。圖3的曲線圖比較了根據(jù)本發(fā)明的某些實施方案的高紅外反射涂層與可商購的雙層銀低輻射涂層的光譜性能。圖4為具有根據(jù)本發(fā)明的某些實施方案的高紅外反射涂層的基底的截面?zhèn)纫晥D的示意圖。圖5為具有根據(jù)本發(fā)明的某些實施方案的高紅外反射涂層的多板隔熱玻璃單元(multiple-paneinsulatingglazingunit)的部分剖開截面?zhèn)纫晥D的示意圖。圖6為根據(jù)本發(fā)明的某些實施方案中使用的涂布機(jī)的截面?zhèn)纫晥D的示意圖。發(fā)明概述在某些實施方案中，本發(fā)明提供了具有相對的第一和第二主表面的涂覆的透明玻璃(例如窗玻璃)。在這些實施方案中，所述涂覆的玻璃是包括其它玻璃的多板隔熱玻璃單元的一部分。隔熱玻璃單元具有玻璃間空間，該涂覆的玻璃的第二主表面暴露于所述玻璃間空間。在該組實施方案中，第二主表面具有薄層電阻小于2.5Q/口，且輻射率小于0.03的低輻射涂層。該低輻射涂層包含三個紅外反射膜區(qū)域，在本發(fā)明的實施方案中，所述三個紅外反射膜區(qū)域的組合厚度優(yōu)選地至少為425埃。優(yōu)選地，本發(fā)明的實施方案的涂覆玻璃的可見光透射率大于0.60。在一些情況中，所述涂覆的玻璃的主要尺寸為至少一米。本發(fā)明的某些實施方案提供了具有相對的第一和第二主表面的涂覆的透明玻璃(例如窗玻璃)。在這些實施方案中，所述玻璃是包括其它玻璃的多板隔熱玻璃單元的一部分。隔熱玻璃單元具有玻璃間空間，該涂覆的玻璃的第二主表面暴露于所述玻璃間空間。在該組實施方案中，第二主表面具有薄層電阻小于2.5Q/口，且輻射率小于0.03的低輻射涂層。該低輻射涂層包含三個紅外反射膜區(qū)域，并包括位于第二主表面和所述三個紅外反射膜區(qū)域中最接近第二主表面的紅外反射膜區(qū)域之間的透明介電膜。在本發(fā)明的實施方案中，在最內(nèi)層紅外反射膜區(qū)域和涂層的第二主表面之間具有折射率為1.7或更大，小于190埃的透明介電膜。在一些情況中，所述涂覆的玻璃的主要尺寸為至少一米。在某些實施方案中，本發(fā)明提供了主表面具有低輻射涂層的涂覆基底。這里，從所述主表面向外，所述涂層包含第一透明介電膜區(qū)域；包含銀的第一紅外反射膜區(qū)域；第二透明介電膜區(qū)域；包含銀的第二紅外反射膜區(qū)域；第三透明介電膜區(qū)域；包含銀的第三紅外反射膜區(qū)域；及第四透明介電膜區(qū)域。在該組實施方案中，涂覆的基底的總可見光透射率大于55%，涂覆的基底的光譜透射曲線的透射峰位于可見光波長范圍內(nèi)，并且該光譜透射曲線的半峰寬小于360nm。某些實施方案提供了主表面具有低輻射涂層的基底。這里，涂層包含具有厚度的第一紅外反射膜區(qū)域，具有厚度的第二紅外反射膜區(qū)域，和具有厚度的第三紅外反射膜區(qū)域。在本發(fā)明的實施方案中，第三紅外反射膜區(qū)域的厚度大于第二紅外反射膜區(qū)域的厚度，且第二紅外反射膜區(qū)域的厚度大于第一紅外反射膜區(qū)域的厚度。從所述主表面向外，所述涂層包含第一透明介電膜區(qū)域；第一紅外反射膜區(qū)域；第二透明介電膜區(qū)域；第二紅外反射膜區(qū)域；第三透明介電膜區(qū)域；第三紅外反射膜區(qū)域；和第四透明介電膜區(qū)域。優(yōu)選地，第一、第二和第三紅外反射膜區(qū)域均包含銀。在本發(fā)明的實施方案中，該涂層的第一反射區(qū)域比例等于第一紅外反射膜區(qū)域的厚度與第二紅外反射膜區(qū)域的厚度的比，該涂層的第二反射區(qū)域比例等于第二紅外反射膜區(qū)域的厚度與第三紅外反射膜區(qū)域的厚度的比，且第一和第二反射區(qū)域比例中的至少一個小于0.85。具體實施方案下面參考附圖進(jìn)行詳細(xì)描述，其中，不同附圖中的相同元件具有相同的標(biāo)記數(shù)字。附圖不需要標(biāo)度，描述了選擇的實施方案，并且不限制本發(fā)明的范圍。本領(lǐng)域技術(shù)人員可以知道，給出的實例具有很多可用的替代方式，但都落入本發(fā)明的范圍內(nèi)。單層和雙層銀的低輻射涂層在本領(lǐng)域中已已知多年。單層銀低輻射涂層提供了有利的紅外反射，通常大約為97%。雙層銀的低輻射涂層在高可見光透射和高紅外反射方面提供了進(jìn)一步的改進(jìn)。然而，使用雙層銀的低輻射涂層所能得到的紅外反射水平實際上有最高限度。例如，盡管增大雙層銀涂層中的銀含量可以使紅外反射增大到97%以上，但在要求其它性能(高可見光透射、良好的顏色、耐久性等)的平衡的雙層銀涂層中難以獲得更高的紅外反射，例如98.5%以上。圖1的曲線圖顯示了非常有利的商購雙層銀低輻射涂層的光譜性能。該曲線圖顯示了具有雙層銀低輻射涂層的玻璃板的透射(在可見光波長范圍內(nèi)向上凸的曲線)和玻璃側(cè)反射(在可見光波長范圍內(nèi)向下凹的曲線)。盡管該特別的雙層銀涂層提供了優(yōu)異的光譜性能，但據(jù)報道傳統(tǒng)的雙層銀涂層在紅外波長范圍的透射在5-50。/。之間(美國專利No.6,262,830，第6欄，第43-51行)。圖2的曲線圖顯示了根據(jù)本發(fā)明某些實施方案的高紅外反射涂層的光譜性能。這里，該曲線圖也顯示了具有高紅外反射涂層的玻璃板的透射(在可見光波長范圍內(nèi)向上凸的曲線)和玻璃側(cè)反射(在可見光波長范圍內(nèi)向下凹的曲線)。本發(fā)明的涂層7的紅外反射比雙層銀涂層的高得多。通過參考圖3可以最好地理解這一點，圖3的曲線圖顯示了高紅外反射涂層7與雙層銀涂層的光譜性能。這里，可以對由這兩種涂層獲得的紅外反射水平進(jìn)行并行比較?？梢钥闯?，本發(fā)明的涂層7獲得了比雙層銀涂層高得多的紅外反射。還可以看出這兩種涂層的可見光透射水平是相當(dāng)?shù)?。另外，本發(fā)明的涂層7(用實線描繪的曲線)的可見光波長和紅外波長間的截止(cutoff)比雙層銀涂層(用圓圈描繪的曲線)的陡得多。因此，一般認(rèn)為與雙層銀低輻射涂層相比，高紅外反射涂層7在能量效率方面提供了量子躍遷，與單層銀低輻射涂層相比更是如此。本發(fā)明的高紅外反射涂層具有許多有益的性能。隨后的討論報道一些這些性質(zhì)。在一些情況中，這里報道了在一個表面18上具有本發(fā)明的涂層7的單層(即整塊)玻璃12的性能。在其它情況中，報道了在其#2表面18上具有本發(fā)明的涂層7的IG單元3的這些性能。在這些情況中，所報道的性能是對于IG單元的，其中，兩個玻璃都是具有填充了90%氬氣和10%空氣的絕緣混合氣的a1/2英寸玻璃間空間的2.2mm透明鈉-藥浮法玻璃。當(dāng)然，這些特性并不限制本發(fā)明。除非另有說明，本發(fā)明的論述報道是在標(biāo)準(zhǔn)ASHRAE條件下使用公知的WINDOW5.2a計算機(jī)程序(例如，玻璃數(shù)據(jù)的計算中心)進(jìn)行測定。如上所述，高紅外反射涂層7提供了極其優(yōu)異的隔熱性能。涂層7包含三個紅外反射膜區(qū)域100、200和300。這些膜區(qū)域通常是銀或另一種導(dǎo)電材料，并且它們在涂層中賦予了極其優(yōu)異的低薄層電阻。例如，本發(fā)明涂層7的薄層電阻低于3.0n/口。優(yōu)選地，該涂層7的薄層電阻低于2.5Q/口(例如低于2.0Q/口、低于1.75Q/口、低于1.5Q/口)。盡管可以選擇并改變所需要的薄層電阻的水平以適應(yīng)不同的應(yīng)用，但很多優(yōu)選的涂層實施方案(例如下面列表的示例膜層疊體)提供了低于1.4Q/口(例如約1.25-1.3^/口)的薄層電阻?？梢允褂?點探針(4-pointprobe)以標(biāo)準(zhǔn)的方式來測量涂層的薄層電阻。也可以使用本領(lǐng)域已知的用于計算薄層電阻的其它方法。涂層7還具有極其優(yōu)異的低輻射。例如，涂層7的輻射率低于0.06。優(yōu)選地，該涂層7的輻射率低于0.04(例如低于0.03，或者甚至低于0.025)。盡管可以選擇并改變所需要的輻射率水平以適應(yīng)不同的應(yīng)用，但許多優(yōu)選的涂層實施方案(例如下面列表的示例膜層疊體)提供了低于0.023的輻射率，例如約為0.020。相反，透明玻璃的未涂覆的玻璃通常具有約0.84的輻射率。術(shù)語"輻射率"是本領(lǐng)域公知的。根據(jù)其公知含義本文使用的該術(shù)語表示在相同溫度下由表面發(fā)出的輻射與由黑體發(fā)出的輻射的比例。輻射率是吸收和反射都有的特性。它通常由公式E-l-反射率來表示。本發(fā)明的輻身寸率《直可以由"StandardTestMethodForEmittanceofSpecularSurfacesUsingSpectrometricMeasurements"NFRC301-93"中說明的來測定，其全部教導(dǎo)并入本申請中作為參考。可以通過將測量的薄層電阻乘以0.016866來計算輻射率。例如，使用該方法可以確定薄層電阻為約1.25的涂層7的輻射率約為0.021。除了低薄層電阻和低輻射率以外，本發(fā)明的涂層7提供了極其優(yōu)異的日照得熱量性能。眾所周知，窗戶的日照得熱量系數(shù)(SHGC)是入射太陽輻射通過窗戶接收的百分比。在多種應(yīng)用中，低日照得熱量窗戶具有獨(dú)特的優(yōu)點。例如，在溫暖的氣候下，具有低日照得熱量的窗戶特別理想。例如，對美國南部的建筑物的日照得熱量系數(shù)一般推薦為約0.4及其以下。另外，暴露在大量不需要的日照下的窗戶也得益于低日照得熱量系數(shù)。例如，建筑物東側(cè)或西側(cè)的窗戶在早上和下午往往得到大量的日照。對于這種應(yīng)用，曰照得熱量系數(shù)對于保持建筑物內(nèi)部舒適的環(huán)境來說起到關(guān)鍵作用。因此，提供這種具有低日照得熱量系數(shù)的涂層(即低日照得熱量涂層)非常有益。低日照得熱量涂層對于很多窗戶的應(yīng)用是非常理想的。有時在低日照得熱量涂層中要作出權(quán)衡，選擇實現(xiàn)低SHGC的膜具有將可見光透射率降低至低于理想水平和/或?qū)⒖梢姽夥瓷渎试龃笾粮哂诶硐胨降淖饔谩Ｒ蚨?，具有這些涂層的窗戶可能具有不能接受的低可見光透射和/或有些鏡子似的外觀。本發(fā)明的涂層7提供了極其優(yōu)異的低日照得熱量系數(shù)。例如，本發(fā)明的IG單元3的日照得熱量系數(shù)低于0.4。優(yōu)選地，本發(fā)明的IG單元3的日照得熱量系數(shù)低于0.35(例如低于0.33，或者在一些情況下甚至低于0.31)。盡管可以選擇并改變需要的SHGC水平以適應(yīng)不同的應(yīng)用，但一些優(yōu)選的實施方案(例如當(dāng)涂層7為下面所列表的示例膜層疊體的一個)提供了日照得熱量系數(shù)低于0.3(例如為0.25-0.29之間，比如約0.27)的IG單元3。這里使用的術(shù)語"日照得熱量系數(shù)"具有其公知的含義。參考NFRC200-93(1993)，其全部教導(dǎo)并入本申請中作為參考?？梢允褂霉腤INDOW5.2a計算機(jī)程序中嵌入的方法來計算SHGC。結(jié)合上面討論的有益的隔熱性能，本發(fā)明的涂層7具有極其優(yōu)異的光學(xué)性能。如上所述，有時在低日照得熱量涂層中作出權(quán)衡，選擇以獲得良好隔熱性能的膜具有將可見光透射限制至低于理想水平的作用。相反，本發(fā)明的涂層7提供了總可見光透射與隔熱性能極其優(yōu)異的組合。例如，本發(fā)明的IG單元3(和本發(fā)明的玻璃12，無論是整塊或者作為IG單元3的一部分)具有大于0.45(即大于45%)的可見光透射率Tv。優(yōu)選地，本發(fā)明的IG單元3(和本發(fā)明的玻璃12，無論是整塊或者隔離的)具有大于0.55(例如大于0.6)的可見光透射率Tv。盡管可以選擇并改變需要的可見光透射率大小以適應(yīng)不同的應(yīng)用，但某些優(yōu)選的實施方案(例如，其中涂層7為下面所列表的示例膜層疊體的一個)提供了可見光透射率大于0.65(例如約0.66)的IG單元3(或玻璃12，它可以是整塊或者IG單元3的一部分)。在一個具體的實施方案組中，選擇膜區(qū)域的厚度和組成來獲得大于0.7、大于0.71、或者甚至大于0.72的可見光透射率。在一些情況中，選擇膜區(qū)域的厚度和組成來獲得約0.73的可見光透射率。這里，可以將紅外反射膜區(qū)域變薄來提供需要的透射率。術(shù)語"可見光透射率"是本領(lǐng)域中公知的，并根據(jù)其公知的含義在本文中使用?？梢愿鶕?jù)NFRC300，StandardTestMethodforDeterminingtheSolarandInfraredOpticalPropertiesofGlazingMaterialsandFadingResistanceofSystems(NationalFenestrationRatingCouncilIncorporated,2001年12月采用，2002年1月出版)來測定可見光透射率以及可見光反射率?？梢允褂霉腤INDOW5.2a計算機(jī)程序計算這些以及其它報道的光學(xué)性能。優(yōu)選地，涂覆的基底(即本發(fā)明的玻璃)12具有峰值透射位于可見光波長范圍內(nèi)的光譜透射曲線。這在圖2中是很明顯的。在某些實施方案中，該光譜透射曲線的半峰寬小于360nm、小于320nm、小于300nm、小于290nm、小于275nm、或者甚至小于250nm。在這些實施方案中，涂層7提供了非常有利的窄透射曲線，該曲線理想地具有跨越可見光范圍的高可見光透射率，并同時在高度透射的可見光波長與高度反射的紅外波長間提供了極其優(yōu)異的陡斜率。在某些實施方案中，涂層7另外地(即與具有上述的任何最大半峰寬一起)或可選地獲得大于50nm、大于100nm、大于150nm、或者甚至大于175nm的半峰寬。這對于在可見光譜的大部分提供高水平的可見光透射率是理想的。本發(fā)明的涂層7在低日照得熱量系數(shù)方面提供了極其優(yōu)異的效率，這是與高可見光透射率一起獲得的?？梢姽馔干渎?作為整體的一部分)與SHGC的比例這里指本發(fā)明的IG單元3的可見光熱效率比。該比例優(yōu)選地大于2、大于2.2，在一些情況中甚至大于2.3。某些優(yōu)選的實施方案(例如，其中涂層7為下面所列表的示例膜層疊體中的一個)提供了可見光熱效率比大于2.0而小于2.5(例如約2.44)的IG單元3。另一個要考慮的有用參數(shù)是T74Q，即在740nrn處的透射率。本發(fā)明的涂層7可以提供特別低的T，，而同時提供高可見光透射率和優(yōu)良的顏色性能。例如，本發(fā)明的玻璃12的T，優(yōu)選低于0.30，或者甚至低于0.20?；蛟S更優(yōu)選地，本發(fā)明的玻璃12(當(dāng)為整塊，或者為隔熱單元的一部分時)的T74。低于0.15(例如低于0.1，或者甚至低于0.05)。盡管可以選擇并改變在740nm處所需要的透射率水平以適應(yīng)不同的應(yīng)用，但某些優(yōu)選的實施方案(例如，當(dāng)涂層7為下面列表的示例膜層疊體中的一個時)提供了T，約為0.04的涂覆的玻璃12(可以為整塊或IG單元3的一部分)。圖4示例了某些實施方案，這些實施方案中提供了具有主表面18的涂覆基底12，該主表面18具有高紅外反射、低輻射涂層7。通常，從主表面18向外，該涂層依次包括第一透明介電膜區(qū)域20、第一紅外反射膜區(qū)域100、第二透明介電膜區(qū)域40、第二紅外反射膜區(qū)域200、第三透明介電膜區(qū)域60、第三紅外反射膜區(qū)域300和第四透明介電膜區(qū)域80。在圖4中，顯示了任選的隔離膜區(qū)域105、205、305，但這些并不是所有的實施方案都需要的。各個紅外反射膜區(qū)域100、200、300可以有利地包含銀(任選地至少50原子百分比為銀，有時主要由銀組成)。此外，在一些實施方案中，紅外反射膜區(qū)域100、200、300中至少一個的厚度大于150埃、大于175埃、或者甚至大于200埃。另外地或者可選地，第一、第二和第三紅外反射膜區(qū)域的組合厚度可以任選地大于425A、大于450A、大于460A,比如約477A。在一些情況中，第一、第二和第三紅外反射膜區(qū)域100、200、300為厚度分別為122A、149A和206A的銀層。一組實施方案提供了具有低輻射涂層7的涂覆的基底(例如涂覆的玻璃，如窗玻璃，任選地具有至少1米、或者至少1.2米的主要尺寸)，該低輻射涂層7包含組合厚度在420A和575A之間的三個紅外反射膜區(qū)域100、200、300。下面進(jìn)一步詳細(xì)描述紅外反射膜區(qū)域100、200、300。簡言之，一些優(yōu)選實施方案以銀層的形式提供了這些膜區(qū)域，各銀層主要由銀組成的，這三層任選地為涂層中僅有的銀層。在一個這種具體的實施方案中，基底12為主要尺寸至少為1米(或者至少1.2米)的玻璃板，且該玻璃板為包括至少一個另外的玻璃板的多板隔熱玻璃單元的一部分，其中多板單元具有玻璃間空間1500，該空間可以任選地抽真空、填充空氣、或填充空氣和絕緣氣體(例如氬氣)。第一透明介電膜區(qū)域20施加在基底12的主表面18上(有時直接在其上)。該膜區(qū)域20可以具有包括至少一些(或者任選地主要組成為)透明介電膜的任何組分。在一些情況中，第一透明介電膜區(qū)域20是單層。在其它情況中，它包含多個層。如美國專利No.5，296，302(其中關(guān)于可用的介電材料的教導(dǎo)并入本申請中作為參考)所述，為此目的的可用的介電膜材料包括鋅、錫、銦、鉍、鈦、鉿、鋯的氧化物以及它們的合金。也可以使用包含氮化硅和/或氧氮化硅的膜。第一透明介電膜區(qū)域20可以是單一介電材料的單層。如果使用單層，通常優(yōu)選此內(nèi)部介電層由氧化鋅和氧化錫(例如在下面的表1中，指"Zn+0")的混合物形成。但是，應(yīng)該理解，這種單層可以由兩層或多層不同的介電材料代替。在某些實施方案中，第一透明介電膜區(qū)域20包含有坡度的膜厚度，膜的組成隨著離基底12距離的增大而變化(例如，以漸進(jìn)的方式)。在一些具體的實施方案中，第一透明介電膜區(qū)域20包含折射率為1.7或更大的膜(任選地包含氧化鋅，例如氧化鋅錫)。例如，在第一紅外反射膜區(qū)域100和基底12的表面18之間，可以有利地提供折射率為1.7或更大的所希望的總厚度的膜。在一些情況中，該所希望的總厚度小于190埃、小于175埃、小于165埃、小于145埃，或者甚至小于140埃。再次參考圖4，第一紅外反射膜區(qū)域以標(biāo)記數(shù)字IOO來標(biāo)識。該膜區(qū)域100優(yōu)選地與第一透明介電膜區(qū)域20的外面相連接，即直接物理接觸?？梢允褂萌魏魏线m的紅外反射材料。銀、金和銅，以及它們的合金都是最常用的紅外反射膜材料。優(yōu)選地，紅外反射膜主要由銀組成，或者由銀與不超過約5%的另一種金屬組合組成，例如另一種金屬選自金、鉑和鈀。但是，并不要求如此。在施加隨后的膜和/或任何熱處理(例如回火)期間需要保護(hù)紅外反射膜時，第一隔離膜區(qū)域105可以任選地設(shè)置在第一紅外反射膜區(qū)域100之上并相連接?？梢蕴峁┰摳綦x膜區(qū)域105來保護(hù)下面的紅外反射膜區(qū)域100不受化學(xué)侵蝕。在這種情況中，可以使用任何材料，例如容易氧化的材料。在某些實施方案中，施加鈦金屬薄層，在一些情況中(例如其中氧化物膜反應(yīng)地直接沉積在這種隔離膜區(qū)域上的情況)，在沉積上面的膜時至少最外層的鈦金屬轉(zhuǎn)變?yōu)榫哂胁煌瘜W(xué)計量的氧化鈦。在另一個實施方案中，隔離膜區(qū)域105以鈮層沉積。包含鈮的可用的隔離層在PCT國際公開No.WO97/48649中有詳細(xì)討論。該P(yáng)CT公開中有關(guān)隔離層的教導(dǎo)并入本申請中作為參考?？梢允褂闷渌牧?，例如鎳、鉻、鎳-鉻等。任選的隔離膜區(qū)域的示例厚度一般在3-25A的范圍內(nèi)，例如3-18A。如果需要，可以使用較大的厚度。在一組實施方案中，涂層7包含三個紅外反射膜區(qū)域，在其中至少一個上面(并且任選在各隔離膜區(qū)域之上)直接提供隔離膜區(qū)域，該隔離膜區(qū)域以非金屬形式沉積(例如選自氧化物、氮化物和氧氮化物，包括它們的不足化學(xué)計量形式的非金屬材料)。在這組實施方案中，每個這種隔離膜區(qū)域的厚度可以在這里所述的任一個任選的隔離膜區(qū)域的范圍內(nèi)。相關(guān)的方法實施方案包括在以非金屬的形式沉積一個或多個阻隔膜區(qū)域的方法中，按順序沉積這里公開的任何涂層實施方案的膜區(qū)域。在某些優(yōu)選的實施方案中，第一隔離膜區(qū)域105具有特別小的厚度，例如小于15A、小于10A、小于7A、小于6A，或者甚至小于5A。盡管圖4中未顯示出，但隔離膜區(qū)域也可以任選地設(shè)置在第一紅外反射膜區(qū)域100的下面。第二透明介電膜區(qū)域40位于第一紅外反射膜區(qū)域100和第二紅外反射膜區(qū)域200之間。因此，膜區(qū)域40也可以稱作"間隔"膜區(qū)域。該第一間隔膜區(qū)域40可以為單一透明介電材料的單層，或者可以為不同透明介電材料的多層。在一些情況中，第二透明介電膜區(qū)域40包含至少三個透明介電層。任選地，有至少五個、或者至少七個這種層。作為使用一個或多個不連續(xù)的層的替代方式，部分或全部第二透明介電膜區(qū)域40可以具有漸次變化的組成(任選地特征為，隨著離基底的距離的增大，從一個透明介電材料逐漸轉(zhuǎn)變至另一個透明介電材料)。下面說明的膜區(qū)域是第二紅外反射膜區(qū)域200。該膜區(qū)域200優(yōu)選地與第二透明介電膜區(qū)域40的外面相連接?？梢允褂萌魏魏线m的紅外反射材料，例如銀、金和銅，或者包括這些金屬中的一種或多種的合金。在一些具體的實施方案中，紅外反射膜主要由銀組成，或由銀與不超過約5%的另一種金屬組合組成，例如另一種金屬選自金、鉑和鈀。當(dāng)需要保護(hù)第二紅外反射膜區(qū)域200時，第二隔離膜區(qū)域205可以任選地設(shè)置在第二紅外反射膜區(qū)域200之上并相連接。該隔離膜區(qū)域205可以包含例如容易氧化的任何材料。在某些實施方案中，施加鈦金屬薄層，并且在一些情況中(例如其中氧化物膜反應(yīng)地直接沉積在該隔離膜區(qū)域205上的情況)，在沉積上面的膜時至少最外層的鈦金屬轉(zhuǎn)變?yōu)榫哂胁煌瘜W(xué)計量的氧化鈦。在另一個實施方案中，隔離膜區(qū)域205以鈮，或所述非金屬隔離膜材料的一種的層沉積?？梢允褂闷渌牧希珂?、鉻、鎳-鉻等。任選的第二隔離膜區(qū)域205的合適厚度一般在3-25A，或者3-18A。如果需要，可以使用較大的厚度。在某些實施方案中，第二隔離膜區(qū)域205具有特別小的厚度，例如小于15A、小于10A、小于7A、小于6A，或者甚至小于5A。盡管圖4中未顯示出，但隔離膜區(qū)域也可以任選地設(shè)置在第二紅外反射膜區(qū)域200的下面。第三透明介電膜區(qū)域60位于第二紅外反射膜區(qū)域200和第三紅外反射膜區(qū)域300之間。該透明介電膜區(qū)域60也是間隔膜區(qū)域，并可以稱為第二間隔膜區(qū)域。第三透明介電膜區(qū)域60可以為單一透明介電材料的單層，或者可以為不同透明介電材料的多層。在一些情況中，第三透明介電膜區(qū)域60包含至少三個透明介電層。任選地，有至少五個、或者至少七個這種層。作為一個或多個不連續(xù)層的替代方式，部分或全部第三透明介電膜區(qū)域60可以具有漸次變化的組成。下面說明的膜區(qū)域為第三紅外反射膜區(qū)域300。該膜區(qū)域300優(yōu)選與第三透明介電膜區(qū)域60的外面相連接?？梢允褂萌魏魏线m的紅外反射材料(例如銀、金、銅，或者包括這些金屬中的一種或多種的合金)。在一些具體的實施方案中，第三紅外反射膜區(qū)域300主要由銀組成，或由銀與不超過約5%的另一種金屬的組合組成，例如另一種金屬選自金、鉑和鈀。當(dāng)需要保護(hù)第三紅外反射膜區(qū)域300時，第三隔離膜區(qū)域305可以任選地設(shè)置在第三紅外反射膜區(qū)域300之上并相連接。該隔離膜區(qū)域305可以包含例如容易氧化的任何材料。在某些實施方案中，施加鈦金屬薄層，并且在有些情況中(例如其中氧化物膜反應(yīng)地直接沉積在這種隔離膜區(qū)域305上的情況)，在沉積上面的膜時至少最外層的鈦金屬轉(zhuǎn)變?yōu)榫哂胁煌瘜W(xué)計量的氧化鈦。在另一個實施方案中，隔離膜區(qū)域305以鈮，或所述非金屬隔離膜材料的一種的層沉積?？梢允褂枚喾N其它材料，例如鎳、鉻、鎳-鉻等。任選的第三隔離膜區(qū)域305的合適厚度一般為3-25A，或者3-18A。如果需要，可是使用較大的厚度。在某些實施方案中，第三隔離膜區(qū)域305具有特別小的厚度，例如小于15A、小于10A、小于7A、小于6A，或者甚至小于5A。盡管圖4中未顯示出，但隔離膜區(qū)域也可以任選地設(shè)置在第三紅外反射膜區(qū)域300的下面。在某些實施方案中提供大量隔離膜區(qū)域的情況下，可以有利地使用一個或多個厚度極小的隔離膜區(qū)域。因此，在一些實施方案中，直接在至少一個紅外反射膜區(qū)域之上提供厚度小于7A、小于6A，或者甚至小于5A的隔離膜區(qū)域。此外，在一些實施方案中，涂層7包括三個隔離膜區(qū)域105、205、305，并且所有這三層隔離膜區(qū)域的組合厚度小于30A、小于25A、小于20A、小于18A，或者甚至小于15A。第四透明介電膜區(qū)域80比第三紅外反射膜區(qū)域300距離基底12更遠(yuǎn)。在一些實施方案中，但不是全部，該膜區(qū)域80限定了涂層的最外面77(該面可以任選地暴露在外，即不被任何其它膜或基底覆蓋)。第四透明介電膜區(qū)域80可以為單一透明介電材料的單層，或者可以為不同透明介電材料的多層。在一些情況中，第四透明介電膜區(qū)域80包含至少三個透明介電層。任選地，有至少五個、或者至少七個這種層。作為使用一個或多個不連續(xù)層的替代方式，部分或全部第四透明介電膜區(qū)域80可以具有漸次變化的組成。因此，可以理解本發(fā)明的涂層7理想地包括至少四個透明介電膜區(qū)域20、40、60、80。在一些實施方案中，涂層7包含一個或多個、兩個或更多，或者三個或更多氮化物或氧氮化物膜，例如至少一個、至少兩個，或者甚至至少三個包含氮化硅和/或氧氮化硅的膜。在一些這種實施方案中，涂層7包括至少一個厚度小于150埃、小于140埃，或者甚至小于125埃的氮化物或氧氮化物膜(任選地包含氮化硅和/或氧氮化硅)，和至少一個厚度大于50埃、大于75埃、大于100埃、大于150埃、或者甚至大于175埃的其它氮化物或氧氮化物膜(任選地含有氮化硅和/或氧氮化硅)。在一些情況中，后面提到的膜位于第一紅外反射膜區(qū)域100和第二紅外反射膜區(qū)域200之間，或者位于第二紅外反射膜區(qū)域200和第三紅外反射膜區(qū)域300之間。即，它形成間隔膜區(qū)域中的一個，或者是間隔膜區(qū)域中的一個的一部分。參考下面的表3?？梢愿淖儽景l(fā)明涂層7的總厚度以適合不同應(yīng)用的要求。在某些優(yōu)選的實施方案中，涂層7的總物理厚度大于1750埃、大于1800埃、大于1900埃、或者甚至大于2000埃。對于該申請書中公開的任何實施方案，涂層的總厚度可以任選地落入本段中說明的任何一個或多個范圍內(nèi)。在一個具體的實施方案組中，第三紅外反射膜區(qū)域300的厚度大于第二紅外反射膜區(qū)域200的厚度，且第二紅外反射膜區(qū)域200的厚度大于第一紅外反射膜區(qū)域100的厚度。這組實施方案在提供優(yōu)良的反射色彩性能方面是有利的。在這些實施方案的一個分組中，第一紅外反射膜區(qū)域100、第二紅外反射膜區(qū)域200和第三紅外反射膜區(qū)域300各包含(或者主要組成為)銀。對于本申請文件，第一反射區(qū)域比例定義為第一紅外反射膜區(qū)域100的厚度與第二紅外反射膜區(qū)域200的厚度的比例，且第二反射區(qū)域比例定義為第二紅外反射膜區(qū)域200的厚度與第三紅外反射膜區(qū)域300的厚度的比例。在一些具體的實施方案中，第一和第二反射區(qū)域比例中的至少一個小于0.85、小于0.83、或者甚至小于0.80。任選地，第一和第二反射區(qū)域比例都小于0.83，例如分別為約0.819和0.723。在該組的一些實施方案中，紅外反射膜區(qū)域100、200、300中至少一個的厚度大于150A、大于175A、或者甚至大于200A。另外地或者可選地，第一、第二和第三紅外反射膜區(qū)域的組合厚度可以任選地大于425A、大于450A、甚至大于460A，如約477A。在一些情況中，第一、第二和第三紅外反射膜區(qū)域100、200、300為厚度分別為122A、149A和206A的銀層。在該組的一些實施方案中，第一介電膜區(qū)域20包含折射率為1.7或更大的膜(任選地包含氧化鋅，例如氧化鋅錫)。例如，在第一紅外反射膜區(qū)域100和基底12的表面18之間，可以有利地提供折射率為1.7或更大的膜的所希望的總厚度。在某些實施方案中，所希望的總厚度小于l卯埃、小于175埃、小于165埃、小于145埃、或者甚至小于140埃。對于本公開來說，主要介電區(qū)域比例(primarydielectric-regionratio)定義為第一透明介電膜區(qū)域20的厚度與第四透明介電膜區(qū)域80的厚度的比例。該比例可以有利地低于0.75、或者甚至低于0.6，而同時任選地大于0.34、大于0.35、大于0.37、或者甚至大于0.40。在一個示例的實施方案中，該比例為約0.47?？梢匀芜x地采用這些范圍中任何一個或多個內(nèi)的主要介電區(qū)域比例，用于該組的任何實施方案，或者本申請文件所公開的任何其它實施方案。下面的表1顯示了可有利地用作高紅外反射涂層7的一個示例膜層疊體表1<table>tableseeoriginaldocumentpage17</column></row><table>下面的表2顯示了可有利地用作高紅外反射涂層7的另外三個示例的膜層疊體表2<table>tableseeoriginaldocumentpage17</column></row><table>下面的表3顯示了可有利地用作高紅外反射涂層7的另一個示例的膜層疊體-表3<table>tableseeoriginaldocumentpage18</column></row><table>本發(fā)明包括制備涂覆的基底(例如涂覆的玻璃板)的方法。本發(fā)提供了方法實施方案，其中使用任何一種或多種薄膜沉積技術(shù)，按順序沉積這里公開的任何實施方案的膜區(qū)域。根據(jù)本發(fā)明的方法，提供了具有表面18的基底12。如果需要，該表面18可以通過適當(dāng)?shù)南礈旎蚧瘜W(xué)制備來制成。本發(fā)明的涂層7沉積在基底12的表面18，例如作為一系列不連續(xù)的層、作為厚度有坡度的膜、或者作為包括至少一個不連續(xù)的層和至少一個厚度有坡度的膜的組合。一種優(yōu)選的方法利用工業(yè)中常用的DC磁控濺射。參考Chapin's的美國專利No.4,166,018，其教導(dǎo)并入本申請中作為參考。簡言之，磁控濺射包括將基底輸送通過一系列低壓區(qū)(或"室"或"隔間")基底，其中，順序地施加構(gòu)成涂層的各個膜區(qū)域。通常在惰性氣氛(如氬氣)中從金屬源或"靶"濺射金屬膜。為了沉積透明介電膜，所述靶可由電介質(zhì)本身(例如氧化鋅或氧化鈦)形成。更一般地，通過在反應(yīng)性氣氛中濺射金屬耙來施加介電膜。例如，為了沉積氧化鋅，可以在氧化氣氛中濺射鋅耙；通過在含有氮?dú)獾姆磻?yīng)性氣氛中濺射硅靶(其可以摻雜鋁等以改善導(dǎo)電性)來沉積氮化硅?？梢酝ㄟ^改變基底的速度和/或改變靶上的功率來控制沉積膜的厚度。在基底上沉積薄膜的另一種方法包括等離子體化學(xué)汽相沉積。參考美國專利No.4，619，729(Johncock等)和美國專利No.4，737,379(Hudgens等)，這兩個文獻(xiàn)均并入本申請中作為參考。這種等離子體化學(xué)汽相沉積包括通過等離子體來分解氣相源，接著在固體表面(例如玻璃基底)上形成膜?？梢酝ㄟ^改變基底通過等離子體區(qū)時基底的速度，和/或改變功率和/或各區(qū)域內(nèi)的氣流速度來調(diào)整膜的厚度?，F(xiàn)在參考圖6，該圖中描述了根據(jù)本發(fā)明的某些實施方案沉積高紅外反射涂層7的示例方法。圖6中示意地顯示的涂布機(jī)用于沉積涂層7，該涂層7從主表面18向外順序包括包含氧化鋅錫的第一透明介電膜區(qū)域20、包含銀的第一紅外反射膜區(qū)域100、包含鈦的第一隔離膜區(qū)域105、包含氧化鋅錫的第二透明介電膜區(qū)域40、包含銀的第二紅外反射膜區(qū)域200、包含鈦的第二隔離膜區(qū)域205、包含氧化鋅錫的第三透明介電膜區(qū)域60、包含銀的第三紅外反射膜區(qū)域300、包含鈦的第三隔離膜區(qū)域305和第四透明介電膜區(qū)域80，該膜區(qū)域80包括在包含氧化鋅錫的層上包含氮化硅的最外層。繼續(xù)參考圖6，將基底12置于涂布機(jī)的起始點，并傳送至第一涂覆區(qū)CZ1(例如，沿著輸送輥10來傳送基底)。該涂覆區(qū)CZ1具有三個濺射室(或"隔間")，C1至C3，它們共同用于沉積包含氧化鋅錫的第一透明介電膜區(qū)域20。所有這三個隔間都具有包含鋅和錫的混合物的濺射耙。圖中所示每個隔間都有兩個圓柱形濺射靶，但數(shù)量和類型(例如圓柱與平面)可以按需要來改變。這些前面的六個靶在氧化氣氛中濺射，以沉積形式為包含鋅和錫的氧化物膜的第一透明介電膜區(qū)域20。這里的氧化氣氛可以主要由壓力為約4xl(^mbar的氧(例如約100%的02)組成?？蛇x地，該氣氛可以包含氬氣和氧氣。參考下面的表4，將約36.7kW的功率施加于前面的兩個靶，將約34.6kW的功率施加于接著的兩個靶，并將35.5kW的功率施加于最后的兩個靶?；?2在這六個靶下面以約310英寸每分鐘的速率傳送，同時在所述的功率水平下濺射各靶，從而沉積形式為包含鋅和錫的氧化物膜，且厚度為約159埃的第一透明介電膜區(qū)域20。然后將基底12傳送到第二涂覆區(qū)CZ2，其中，第一紅外反射膜區(qū)域100直接施加在第一透明介電膜區(qū)域20之上。第二涂覆區(qū)CZ2具有惰性氣氛(例如壓力約為4xl(T3mbar的氬氣)。該涂覆區(qū)CZ2的活性濺射隔間C4和C5各具有平面靶，但靶的數(shù)量和類型可以改變。隔間C4中的靶是金屬銀靶，而隔間C5中的靶是金屬鈦靶?；自阢y靶下面以約310英寸每分鐘的速率傳送，同時在約7.1kW的功率下濺射該靶，從而沉積形式為厚度約為122埃的銀膜的第一紅外反射膜區(qū)域20。然后將基底在隔間C5中的鈦靶下面?zhèn)魉?，同時在約7.8kW的功率下濺射該耙，從而沉積形式為包含鈦的膜，并且厚度為約20埃的第一隔離膜區(qū)域105。然后將基底12傳送通過第三涂覆區(qū)CZ3、第四涂覆區(qū)CZ4和第五涂覆區(qū)CZ5，在這些區(qū)中，施加了形式為包含鋅和錫的氧化物膜的第二透明介電膜區(qū)域40。第三涂覆區(qū)CZ3和第四涂覆區(qū)CZ4各具有三個活性濺射隔間。第五涂覆區(qū)CZ5具有兩個活性濺射隔間(可以有不用的隔間和/或涂覆區(qū))。在C6-C13的各隔間中，安裝了各包含(即包括的可濺射的靶材包含)鋅和錫的混合物的兩個圓柱形靶。這些C6-C13的各隔間具有氧化氣氛。例如，第三涂覆區(qū)CZ3、第四涂覆區(qū)CZ4和第五涂覆區(qū)CZ5中的氧化氣氛可以各自主要由壓力為約4xl(^mbar的氧氣(例如約100%的02)組成?？蛇x地，這些氣氛中的一種或多種可以包含氬氣和氧氣。如下面的表4所示，將約50.2kW的功率施加于第三涂覆區(qū)CZ3中的前面的兩個靶，將約45.1kW的功率施加于該涂覆區(qū)CZ3中的接著的兩個靶，并將約49.5kW的功率施加于該區(qū)CZ3中的最后的兩個靶。此處，將約53.1kW的功率施加于第四涂覆區(qū)CZ4中的前面的兩個靶，將約47.7kW的功率施加于該涂覆區(qū)CZ4中的接著的兩個耙，并將約44.8kW的功率施加于該區(qū)CZ4中的最后的兩個靶。此外，將約49.0kW的功率施加于第五涂覆區(qū)CZ5中的前面的兩個靶，并將約45.6kW的功率施加于該涂覆區(qū)CZ5中的接著的兩個靶?；?2在涂覆區(qū)3-5(即由CZ3至CZ5)中所有所述的靶下面?zhèn)魉?，同時以約310英寸每分鐘的速率傳送該基底并在所述的功率水平下濺射各靶，從而施加形式為包含鋅和錫的氧化物膜，且厚度為約562埃的第二透明介電膜區(qū)域40。然后將基底12傳送到第六涂覆區(qū)CZ6，其中，第二紅外反射膜區(qū)域200直接施加在第二透明介電膜區(qū)域40之上。第六涂覆區(qū)CZ6具有惰性氣氛(例如壓力為約4xl0'3mbar的氬氣)。該涂覆區(qū)CZ6中的濺射隔間C14和C15各具有平面靶。隔間C14中的靶是金屬銀靶，而隔間C15中的靶是金屬鈦靶。對銀靶施加約8.9kW的功率，同時將基底在該靶下面以約310英寸每分鐘的速率傳送，以沉積厚度約149埃的金屬銀膜的第二紅外反射膜區(qū)域200。然后將基底在隔間C15中的金屬鈦靶下面?zhèn)魉?以相同的速度)，對該靶施加約8.1kW的功率，以沉積包含鈦并且厚度為約20埃的第二隔離膜區(qū)域205。然后將基底12傳送通過第七涂覆區(qū)CZ7、第八涂覆區(qū)CZ8和第九涂覆區(qū)CZ9，在其中一起施加了第三透明介電膜區(qū)域60。這些涂覆區(qū)各具有三個濺射隔間，并且各隔間具有兩個圓柱形靶(隔間C16至隔間C18在CZ7中，隔間C19至C21在CZ8中，且隔間C22至C24在CZ9中)。這里的耙都包含可濺射材料，其為鋅和錫的混合物。這些涂覆區(qū)中每一個都具有主要由氧氣組成的氧化氣氛(例如壓力為約4X10—3mbar的約100%的02)。可選地，該氣氛可以包含氬氣和氧氣。將約50.3kW的功率施加于第七涂覆區(qū)CZ7中的前面的兩個耙，將約45.5kW的功率施加于該涂覆區(qū)CZ7中的接著的兩個耙，并將約48.9kW的功率施加于該區(qū)CZ7中的最后的兩個靶。將約52.5kW的功率施加于第八涂覆區(qū)CZ8中的前面的兩個靶，同時將約48.2kW的功率施加于該涂覆區(qū)CZ8中的接著的兩個靶，并將約44.7kW的功率施加于該區(qū)CZ8中的最后的兩個勒。將約49.0kW的功率施加于第九涂覆區(qū)CZ9中的前面的兩個耙，同時將約45.5kW的功率施加于該涂覆區(qū)CZ9中的接著的兩個靶，并將約47.8kW的功率施加于該區(qū)CZ9中的最后的兩個靶?；?2在所有這些耙下面(即，在CZ7至CZ9中的所有靶下面)以約310英寸每分鐘的速率傳送，同時在所述的功率水平下濺射各靶，從而施加形式為包含鋅和錫的氧化物膜，且厚度為約655埃的第三透明介電膜區(qū)域60。然后將基底12傳送到施加第三紅外反射膜區(qū)域300的第十涂覆區(qū)CZIO。該涂覆區(qū)CZ10含有惰性氣氛(例如壓力為約4xl0—3mbar的氬氣)。該涂覆區(qū)CZ10中的活性隔間C25和C26各具有平面靶。隔間C25中的靶是金屬銀靶，而隔間C26中的靶是金屬鈦靶。對銀靶施加約12.6kW的功率，同時該基底在該靶下面以約310英寸每分鐘的速率傳送，從而沉積厚度約為206埃的銀膜的第三紅外反射膜區(qū)域300。然后將基底在室C26中的鈦靶下面?zhèn)魉?，同時在約8.1kW的功率水平下濺射該靶，從而沉積形式為包含鈦的膜，并且厚度為約20埃的第三隔離膜區(qū)域305。然后將基底12傳送通過第十一涂覆區(qū)CZll、第十二涂覆區(qū)CZ12和第十三涂覆區(qū)CZ13，在其中一起沉積了第四透明介電膜區(qū)域80的內(nèi)部。第十一涂覆區(qū)CZ11具有各有兩個圓柱形靶的三個濺射隔間(隔間C27至隔間C29在CZll中)。第十二涂覆區(qū)CZ12僅有一個活性濺射隔間C30，并且該隔間C30具有兩個圓柱形靶。第十三涂覆區(qū)CZ13具有三個濺射隔間，并且各隔間具有兩個圓柱形靶(隔間C31至C33在CZ13中)。在涂覆區(qū)CZll至CZ13中所述的各個耙包含可濺射的耙材，其為鋅和錫的混合物。涂覆區(qū)CZll至CZ13各具有主要由氧組成的氧化氣氛(例如壓力為約4xl0—3mbar的約100%的02)?？蛇x地，這些氣氛中的一種或多種可以包含氬氣和氧氣。將約17.9kW的功率施加于第十一涂覆區(qū)CZ11中的前面的兩個靶，將約21.1kW的功率施加于該涂覆區(qū)CZll中的接著的兩個靶，并將約19.6kW的功率施加于該區(qū)CZU中的最后的兩個靶。將約20.1kW的功率施加于第十二涂覆區(qū)CZ12中的兩個靶。將約21.5kW的功率施加于第十三涂覆區(qū)CZ13中的前面的兩個靶，將約19.4kW的功率施加于該第十三涂覆區(qū)CZ13中的接著的兩個靶，并將約19.3kW的功率施加于該區(qū)CZ13中的最后的兩個靶。基底12在CZll至CZ13中所有所述的靶下面以約310英寸每分鐘的速率傳送，同時在所述的功率水平下濺射各靶，從而以包含鋅和錫，且厚度為約236埃的氧化物膜來施加第四透明介電膜區(qū)域80的內(nèi)部。最后，基底傳送至第十四涂覆區(qū)CZ14，在其中施加了第四透明介電膜區(qū)域80的最外部。該區(qū)CZ14具有三個濺射隔間C34-C36,各含有氮?dú)鈿夥眨芜x地具有一些氬氣，壓力為約4xl(^mbar。該涂覆區(qū)CZ14中的隔間C34至C36各具有兩個圓柱形靶。這些靶各包含具有少量鋁的硅的可濺射靶材。將約31.9kW的功率施加于第十四涂覆區(qū)CZ14中的前面的兩個靶，將約34.0kW的功率施加于該區(qū)CZ14中的接著的兩個靶，并將約37.4kW的功率施加于該區(qū)CZ14中的最后的兩個靶?；?2在CZ14中的所有靶下面以約310英寸每分鐘的速率傳送，同時在所述的功率水平下濺射各靶，從而以包含硅和少量鋁，且厚度為約101埃的氮化物膜來施加第四透明介電膜區(qū)域80的最外部。<table>tableseeoriginaldocumentpage23</column></row><table>權(quán)利要求1、主表面具有低輻射涂層的涂覆的基底，從主表面向外，該涂層包含a)第一透明介電膜區(qū)域；b)包含銀的第一紅外反射膜區(qū)域；c)第二透明介電膜區(qū)域；d)包含銀的第二紅外反射膜區(qū)域；e)第三透明介電膜區(qū)域；f)包含銀的第三紅外反射膜區(qū)域；g)第四透明介電膜區(qū)域；其中所述涂覆的基底的總可見光透射率大于55％，其中所述涂覆的基底的光譜透射曲線的透射峰位于可見光波長范圍內(nèi)，并且其中所述光譜透射曲線的半峰寬小于360nm。2、權(quán)利要求1的涂覆的基底，3、權(quán)利要求l的涂覆的基底，4、權(quán)利要求1的涂覆的基底，5、權(quán)利要求1的涂覆的基底，6、權(quán)利要求1的涂覆的基底，區(qū)域的組合厚度大于425埃。7、權(quán)利要求6的涂覆的基底，區(qū)域的組合厚度大于450埃。其中所述半峰寬小于300nm。其中所述半峰寬小于250nm。其中所述半峰寬大于100nm。其中所述半峰寬大于150nm。其中所述第一、第二和第三紅外反射膜其中所述第一、第二和第三紅外反射膜8、權(quán)利要求l的涂覆的基底，其中所述總可見光透射率大于60%。9、權(quán)利要求l的涂覆的基底，其中所述總可見光透射率大于65%。10、權(quán)利要求l的涂覆的基底，其中所述涂層的輻射率低于0.02。11、權(quán)利要求IO的涂覆的基底，其中所述輻射率低于0.015。12、權(quán)利要求1的涂覆的基底，其中所述第一透明介電膜區(qū)域包含折射率為1.7或更大的膜，并且其中在第一紅外反射膜區(qū)域和所述基底的主表面之間有折射率為1.7或更大的所希望的總厚度的膜，所述所希望的總厚度小于190埃。13、權(quán)利要求12的涂覆的基底，其中所述所希望的總厚度小于175埃。14、權(quán)利要求12的涂覆的玻璃，其中所述低輻射涂層的總厚度大于1800埃。15、權(quán)利要求14的涂覆的玻璃，其中所述低輻射涂層的總厚度大于1900埃。16、權(quán)利要求1的涂覆的基底，其中所述第一、第二和第三紅外反射膜區(qū)域均為主要由銀組成的銀層，并且其中這三個銀層是涂層中僅有的銀層。17、權(quán)利要求16的涂覆的基底，其中所述基底是主要尺寸至少為一米的玻璃板，并且其中所述玻璃板是包括至少另一個玻璃板的多板隔熱玻璃窗單元的一部分，其中多板隔熱玻璃窗單元具有玻璃間空間。全文摘要本發(fā)明提供了對紅外輻射高反射的低輻射涂層。該涂層包括三個紅外反射膜區(qū)域，這三個紅外反射膜區(qū)域可以均包含銀。文檔編號C03C17/36GK101321703SQ200680045445公開日2008年12月10日申請日期2006年10月10日優(yōu)先權(quán)日2005年10月11日發(fā)明者K·哈蒂格申請人:卡迪奈爾鍍膜玻璃公司