專利名稱:一種SiC纖維表面復(fù)合梯度涂層制備方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本發(fā)明涉及復(fù)合材料的制備技術(shù),具體地說(shuō)是一種連續(xù)SiC纖維表面C/A1203 復(fù)合梯度涂層的制備方法。
背景技術(shù):
SiC纖維具有高比強(qiáng)度、高比模量、抗腐蝕、耐磨損、熱穩(wěn)定性好等性能優(yōu) 點(diǎn),可用作鈦基材f4(包括鈦合金和Ti-Al金屬間化合物)的增強(qiáng)體。與基j材才料 相比,SiC纖維增強(qiáng)鈦基復(fù)合材料密度更低,強(qiáng)度和剛度更高,可應(yīng)用于更高溫 度,因此是一類重要的高技術(shù)結(jié)構(gòu)材料,在航空航天工業(yè)中具有明確的應(yīng)用前景。
為了保護(hù)纖維,改善界面性能,在制備纖維時(shí),大都對(duì)其表面進(jìn)行了涂層處 理。纖維表面涂層在復(fù)合材料界面起反應(yīng)層、阻擋層和緩沖層的作用。也就是說(shuō), 涂層可以和基體發(fā)生適當(dāng)?shù)姆磻?yīng),提高界面的結(jié)合強(qiáng)度。同時(shí)也要阻止界面的過(guò) 度反應(yīng),保護(hù)纖維,以改善纖維與基體的化學(xué)相容性。另外,涂層也能在界面提 供一個(gè)過(guò)渡層,以緩和因纖維與基體熱膨脹系數(shù)和齊性模量的不同而產(chǎn)生的界面 應(yīng)力,以改善纖維與基體的物理相容性。SiC纖維表面一般進(jìn)行涂炭處理,富碳 涂層既彌補(bǔ)了纖維表面的缺陷,提高了纖維的強(qiáng)度又保證了與金屬基體的適度化 學(xué)反應(yīng),改善了界面性能。
連續(xù)SiC纖維增強(qiáng)鈦合金基復(fù)合材料由于自身的良好性能主要應(yīng)用于飛機(jī)發(fā) 動(dòng)機(jī)的葉輪及葉環(huán)等高溫部件上,由于SiC-Tl和C-Ti體系都是化學(xué)不平衡體系, 所以在制備的過(guò)程中會(huì)產(chǎn)生脆性的界面反應(yīng)層,而且在使用的過(guò)程中,界面反應(yīng) 會(huì)繼續(xù)進(jìn)行,反應(yīng)區(qū)厚度不斷長(zhǎng)大。隨著化學(xué)反應(yīng)的進(jìn)行,纖維表面的富C涂層 級(jí)漸減少,直至消失。這時(shí)鈦合金基體就會(huì)與SiC纖維直接反應(yīng),生成性能更 差的界面反應(yīng)層,從而損傷纖維,造成纖維力學(xué)性能的下降。
發(fā)明內(nèi)容
為了解決一般碳涂層不能滿足界面的復(fù)雜要求這個(gè)技術(shù)難題,本發(fā)明的目的
是提供一種連續(xù)SiC纖維表面C/Al203復(fù)合梯度涂層的制備方法,采用本發(fā)明能 夠制備出強(qiáng)度較高且與鈦合金基體界面性能穩(wěn)定的SiC纖維。
3為了實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明的技術(shù)方案是
一種SiC纖維表面復(fù)合梯度涂層制備方法,按如下步驟操作 第一步,富碳涂層SiC纖維的制備;
第二步,將生產(chǎn)的SiC纖維纏繞在樣品支架上,然后放入磁控濺射儀真空室
內(nèi);
第三步,當(dāng)真空室的真空度優(yōu)于1.0xl0,a時(shí),轉(zhuǎn)動(dòng)樣品支架,對(duì)其進(jìn)行加 熱,加熱溫度在300^600° C之間,升溫速度為5 10。C/分鐘,保溫1 4小時(shí);
第四步,保溫結(jié)束后,首先通入氬氣,使真空室的氣體分壓在5xl0,a 5Pa 之間,然后通入氧氣,氣體充分混合后,氬氣和氧氣的分壓比l: (0.5 5);
第五步,啟動(dòng)射頻反應(yīng)濺射電源,耙材為鋁耙,控制靶功率在100W 500W 之間,f謝時(shí)間為0.5 3小時(shí),濺射結(jié)束后,關(guān)閉氣路,保持真空度優(yōu)于lxl0—3Pa 下,降溫至40。C以下。
所述第一步中,采用7K銀電極加熱或射頻加熱化學(xué)氣相沉積工藝,在SiC纖 維反應(yīng)管的尾部通入乙炔氣體,乙炔在90(M300。C分解,在SiC纖維的表面沉 積成0.5 5nm的富碳涂層。
所述第二步中,將生產(chǎn)的含富碳涂層SiC纖維,利用精密數(shù)控纏繞機(jī)組,纏 繞在圓形樣品支架上。
所述第四步中,首先通入氬氣時(shí),真空室的氣體分壓,范圍為0.1Pa~0.5Pa 之間;然后通入氧氣時(shí),氣體充分混合后,氬氣和氧氣的分壓比優(yōu)選范圍為1: (0.7 3)。
戶;M第五步中,射頻濺射的電源頻率為13.6MHz,功率匹配器的自偏壓達(dá)到 80~160V。
本發(fā)明具有如下優(yōu)點(diǎn)
1、 本發(fā)明具有涂層的SiC纖維與沒有涂層的SiC纖維相比較,明顯提高了纖
維的縱向抗拉強(qiáng)度。
2、 本發(fā)明具有C/Al203復(fù)合涂層的SiC纖維在與基體復(fù)合后,能夠在高溫、 長(zhǎng)時(shí)間的工作^#下保持復(fù)合材料的界面的穩(wěn)定性,從而提高了復(fù)合材料的高溫 性能。
3、 本發(fā)明利用射頻磁控反應(yīng)濺射技術(shù)可以制備組元梯度分布的SiC纖維,并 且涂層的厚度可以精確控制,為實(shí)現(xiàn)優(yōu)化和設(shè)計(jì)復(fù)合材料的界面提供了可能。
圖1 (a)-圖1 (b)為實(shí)施例1中Al203涂層Al、 O原子的XPS圖譜。其中, 圖l (a)為O原子的XPS圖譜;圖l (b)為A1原子的XPS圖譜。
圖2 (a)-圖2 (b)為實(shí)施例2中^203涂層Al、 O原子的XPS圖譜。其中, 圖2 (a)為O原子的XPS圖譜;圖2 (b)為A1原子的XPS圖譜。
圖3 (a)-圖3 (b)為實(shí)施例3中Al203涂層Al、 O原子的XPS圖譜。其中, 圖3 (a)為O原子的XPS圖譜;圖3 (b)為A1原子的XPS圖譜。 圖4為實(shí)施例1中S iC纖維表面A1203涂層Al 、 O的原子百分比。 圖5為實(shí)施例2中S iC纖維表面A1203涂層Al 、 O的原子百分比。 圖6為實(shí)施例3中S iC纖維表面A1203涂層Al 、 O的原子百分比。 圖7為實(shí)施例4中S iC纖維表面A1203涂層Al 、 O的原子百分比。 圖8為實(shí)施例5中S iC纖維表面A1203涂層Al 、 O的原子百分比。
具體實(shí)駄式
本發(fā)明SiC纖維表面復(fù)合梯度涂層制備方法,按如下步驟操作
1、 富碳涂層制備
采用7K銀電極加熱^I寸頻加熱化學(xué)氣相沉積工藝,在sc纖維反應(yīng)管(反應(yīng)
管內(nèi)徑為18 30mm)的尾部通入乙炔氣體,乙炔在90(M300。C分解,在SiC纖 維反應(yīng)管內(nèi)的SiC纖維(直徑95 105pm)表面沉積成0.5 5pm的富碳涂層;
2、 將生產(chǎn)的含富碳涂層SiC纖維,利用精密數(shù)控纏繞機(jī)組,纏繞在圓形樣品 支架上,然后放入磁控濺射儀真空室內(nèi);
3、 當(dāng)真空室的真空度優(yōu)于1.0xl0,a時(shí),轉(zhuǎn)動(dòng)樣品支架,對(duì)其進(jìn)行加熱,加 熱Mit在30(K60(fC之間,升溫速度為5 l(fC/分鐘,保溫14小時(shí);
4、 保溫結(jié)束后,首先通入氬氣,使真空室的氣體分壓在5x10—》a 5Pa之間, 然后通入氧氣,氣體充分混合后,氬氣和氧氣的分壓比l: (0.5 5);
5、 啟動(dòng)射頻反應(yīng)濺射電源,靶材為鋁靶,控制耙功率在100W 500W之間, 濺射時(shí)間為0.5~3小時(shí),射頻濺射的電源頻率為13.6MHz,功率匹配器的自偏壓 達(dá)到80 160V。濺射結(jié)束后,關(guān)閉氣路,保持真空度優(yōu)于lxl0—3pa下,降溫至40 。C以下。
實(shí)施例1
本實(shí)施例采用射頻加熱化學(xué)氣相沉積生產(chǎn)的SiC纖維(SiC纖維的規(guī)格是長(zhǎng)度300米,直徑100nm),乙炔在920 。C裂解沉積,制備出長(zhǎng)度為300米具有 0.5pm富碳涂層的SiC纖維。將生產(chǎn)的SiC纖維纏繞在樣品支架上,方j(luò)(A真空室 內(nèi)。當(dāng)真空室的真空度為5xlO,a時(shí),轉(zhuǎn)動(dòng)將品支架,對(duì)其進(jìn)行加熱,力I]熱溫度 在350。C,升溫速度為6。C/分鐘,保溫1小時(shí)。保溫結(jié)束后,首先通入氬氣,使 真空室的氣體分壓在3xlO"Pa,然后通入氧氣,氣體充分混合后,氬氣和氧氣的 分壓比l: 0.66。啟動(dòng)射頻反應(yīng)濺射電源,控制輸出功率在360W,濺射時(shí)間為2 小時(shí),射頻濺射的電源頻率為13.6MHz,自偏壓120V,保持真空度5xl()4pa,降 溫至40 。C以下。制備出具有內(nèi)層5pm富碳涂層、外層為0.2|imAl2O3梯度涂層的 SiC纖維。XPS測(cè)試結(jié)果如圖4所示,橫坐標(biāo)為亥鵬時(shí)間代表樣品不同深度,600 秒接近0.12拜可以看到A1、 O原子比基本為3: 2 ,內(nèi)部與表面有一些偏差是 由于表面有一些吸附原子。
本實(shí)施例中,獲得連續(xù)SiC纖維表面C/Al203復(fù)合梯度涂層的主要性能指標(biāo) 與沒有涂層的SiC纖維相比較略有上升,與C涂層相比較,強(qiáng)度基本沒有下降。
實(shí)施例2
本實(shí)施例采用射頻加熱化學(xué)氣相沉積生產(chǎn)的SiC纖維(SiC纖維的規(guī)格是 長(zhǎng)度280米,直徑95pm),乙炔在1280°C裂解沉積,制備出長(zhǎng)度為280米具有 4,富碳涂層的SiC纖維。將生產(chǎn)的SiC纖維纏繞在樣品支架上,方1A真空室內(nèi)。 當(dāng)真空室的真空度為8xl0,a時(shí),轉(zhuǎn)動(dòng)將品支架,對(duì)其進(jìn)行加熱,加熱驗(yàn)在550 °C,升溫速度為9。C/^I巾,保溫3小時(shí)。保溫結(jié)束后,首先通入氬氣,使真空室 的氣體分壓在3.1xlO"Pa,然后通入氧氣,氣體充分混合后,氬氣和氧氣的分壓 比l: 1。啟動(dòng)射頻反應(yīng)f謝電源,控制靶功率在370W,濺射時(shí)間為2小時(shí),射 頻濺射的電源頻率為13.6MHz,自偏壓115V,保持真空度8xl()4pa,降溫至40。C 以下。帝U備出具有內(nèi)層3,富碳涂層、外層為l)amAl2Cb梯度涂層的SiC纖維。 XPS測(cè)試結(jié)果如圖5所示,可以看出樣品的不同深度Al、 O原子比基本為2: 3 表面與內(nèi)部原子占百分比略有不同是由于表面吸附一些氧原子的原因。
本實(shí)施例中,獲得連續(xù)SiC纖維表面C/Al203復(fù)合梯度涂層的主要性能指標(biāo) 與沒有涂層的SiC纖維相比較略有上升,與C涂層相比較,強(qiáng)度基本沒有下降。
實(shí)施例3
本實(shí)施例采用射頻加熱化學(xué)氣相沉積生產(chǎn)的SiC纖維(SiC纖維的規(guī)格是 長(zhǎng)度350米,直徑105jim),乙炔在100(TC裂解沉積,制備出長(zhǎng)度為350米具有
60.5Mm富碳涂層的SiC纖維。將生產(chǎn)的SiC纖維纏繞在樣品支架上,放入真空室 內(nèi)。當(dāng)真空室的真空度為4xl0,a時(shí),轉(zhuǎn)動(dòng)將品支架,對(duì)其進(jìn)行加熱,加熱纟驢 在45(TC,升溫速度為8°(3/分鐘,保溫2小時(shí)。保溫結(jié)束后,首先通入氬氣,使 真空室的氣體分壓在3xlO"Pa,然后通入氧氣,氣體充分混合后,氬氣和氧氣的 分壓比l: 1.5。啟動(dòng)射頻反應(yīng)濺射電源,控制耙功率在390W,濺射時(shí)間為2小 時(shí),射頻濺射的電源頻率為13.6MHz,自偏壓保持在120V。保持真空度4xl()4pa, 降溫至40 。C以下。制備出具有內(nèi)層2Hm富碳涂層、外層為0.6pmAl2O3梯度涂層 的SiC纖維。XPS測(cè)試結(jié)果如圖6所示,可以看出樣品的不同深度A1、 O原子比 基本為2: 3,越靠近內(nèi)部A1、 0原子百分比越接近Al203的化學(xué)計(jì)量比。本實(shí)施 例中,獲得連續(xù)SiC纖維表面C/Al203復(fù)合梯度涂層的主要性能指標(biāo)與沒有涂層 的SiC纖維相比較略有上升,與C涂層相比較,強(qiáng)度基本沒有下降。
從圖1-圖3給出的實(shí)施例1-3的XPS圖譜,可以得到涂層中Al、 O原子的結(jié) 合能,與數(shù)據(jù)庫(kù)中A1203的Al與O的結(jié)合能相吻合,可以確定涂層確實(shí)為A1203。
實(shí)施例4
本實(shí)施例采用7乂銀電極加熱化學(xué)氣相沉積生產(chǎn)的SiC纖維(SiC纖維的規(guī)格 是長(zhǎng)度200米,直徑95pm),乙炔在900。C裂解沉積,制備出長(zhǎng)度為200米具 有2,富碳涂層的SiC纖維。將生產(chǎn)的SiC纖維纏繞在樣品支架上,放入真空室 內(nèi)。當(dāng)真空室的真空度為2xl()4pa時(shí),轉(zhuǎn)動(dòng)將品支架,對(duì)其進(jìn)行加熱,加熱^jt 在30(TC,升溫速度為5。C/射中,保溫2小時(shí)。保溫結(jié)束后,首先通入氬氣,使 真空室的氣體分壓在3xlO"Pa,然后通入氧氣,氣體充分混合后,氬氣和氧氣的 分壓比l: 1.1。啟動(dòng)射頻反應(yīng)濺射電源,控制靶功率在390W,濺射時(shí)間為l小 時(shí),射頻M的電源頻率為13.6MHz,自偏壓控制在120Vo保持真空度2xlO^Pa, 降溫至40。C以下。制備出具有內(nèi)層2pm富碳涂層、外層為0.6pmAl203梯度涂層 的SiC纖維。XPS測(cè)試結(jié)果如圖7所示,結(jié)果表明Al203梯度涂層中Al和O的 原子百分比為2: 3。
本實(shí)施例中,獲得連續(xù)SiC纖維表面C/Al203復(fù)合梯度涂層的主要性能指標(biāo) 與沒有涂層的SiC纖維相比較略有上升,與C涂層相比乾強(qiáng)度基本沒有下降。
實(shí)施例5
本實(shí)施例采用水銀電極加熱化學(xué)氣相沉積生產(chǎn)的SiC纖維(SiC纖維的規(guī)格 是長(zhǎng)度400米,直徑105pm),乙炔在1300。C裂解沉機(jī)制備出長(zhǎng)度為400米具有5)im富碳涂層的SiC纖維。將生產(chǎn)的SiC纖維纏繞在樣品支架上,方j(luò)(A真空 室內(nèi)。當(dāng)真空室的真空度為lxlO^Pa時(shí),轉(zhuǎn)動(dòng)將品支架,對(duì)其進(jìn)行加熱,加熱溫 度在60(TC,升溫速度為l(fC/分鐘,保溫4小時(shí)。保溫結(jié)束后,首先通入氬氣, 使真空室的氣體分壓在2.9Pa,然后通入氧氣,氣體充分混合后,氬氣和氧氣的分 壓比l: 1.2。啟動(dòng)射頻反應(yīng)濺射電源,控制靶功率在390W,濺射時(shí)間為6小時(shí), 射頻濺射的電源頻率為13.6MHz,自偏壓控帝贓120V。保持真空度lxl()4pa,降 溫至40。C以下。制備出具有內(nèi)層2nm富碳涂層、外層為1.5)imAl203梯度涂層的 SiC纖維。XPS測(cè)試結(jié)果如圖8所示,結(jié)果表明A1203梯度涂層中Al和0的原子 百分比為2: 3。
本實(shí)施例中,獲得連續(xù)SiC纖維表面C/Al203復(fù)合梯度涂層的主要性能指標(biāo) 與沒有涂層的SiC纖維相比較略有上升,與C涂層相比較,強(qiáng)度基本沒有下降。
以上實(shí)施例表明改變氬氣與氧氣分壓比和延長(zhǎng)濺射時(shí)間均不會(huì)影響涂層的化 學(xué)成分以及性能指標(biāo)。
實(shí)施例結(jié)果表明,簡(jiǎn)單碳涂層一般不能滿足界面的復(fù)雜要求,設(shè)計(jì)多層涂層 或梯度涂層是研帝眵功能涂層的一條重要的出路。纖維表面涂層的選擇要從材料 的物理特性以及反應(yīng)熱力學(xué)和動(dòng)力學(xué)等角度綜合考慮。涂層既不能降低纖維的性 能又要在復(fù)合材料的高溫、長(zhǎng)時(shí)間的工作條件下保持界面的穩(wěn)定。氧化鋁是熱力 學(xué)最穩(wěn)定的氧化物之一,而且其彈性模量介于SiC纖維和鈦合金之間,因此可以 作為富碳涂層的SiC纖維的外表面涂層,制備出含C/A1203復(fù)合涂層的SiC纖維。 復(fù)合涂層提高了纖維的性能又能在復(fù)合材料的高溫、長(zhǎng)時(shí)間的工作條件下保持界 面的穩(wěn)定性。
8
權(quán)利要求
1、一種SiC纖維表面復(fù)合梯度涂層制備方法,其特征在于,按如下步驟操作第一步,富碳涂層SiC纖維的制備;第二步,將生產(chǎn)的SiC纖維纏繞在樣品支架上,然后放入磁控濺射儀真空室內(nèi);第三步,當(dāng)真空室的真空度優(yōu)于1.0×10-3Pa時(shí),轉(zhuǎn)動(dòng)樣品支架,對(duì)其進(jìn)行加熱,加熱溫度在300~600℃之間,升溫速度為5~10℃/分鐘,保溫1~4小時(shí);第四步,保溫結(jié)束后,首先通入氬氣,使真空室的氣體分壓在5×10-2Pa~5Pa之間,然后通入氧氣,氣體充分混合后,氬氣和氧氣的分壓比1(0.5~5);第五步,啟動(dòng)射頻反應(yīng)濺射電源,靶材為鋁靶,控制靶功率在100W~500W之間,濺射時(shí)間為0.5~3小時(shí),濺射結(jié)束后,關(guān)閉氣路,保持真空度優(yōu)于1×10-3Pa下,降溫至40℃以下。
2、 按照權(quán)利要求1所述的SiC纖維表面復(fù)合梯度涂層制備方法,其特征在于, 所述第一歩中,采用7K銀電極加熱或射頻加熱化學(xué)氣相沉積工藝,在SiC纖維反 應(yīng)管的尾部通入乙炔氣體,乙炔在900~1300°C分解,在SiC纖維的表面沉積成 0.5 5pm的富碳涂層。
3、 按照權(quán)利要求1所述的SiC纖維表面復(fù)合梯度涂層制備方法,其特征在于, 所述第二步中,將生產(chǎn)的含富碳涂層SiC纖維,利用精密數(shù)控纏繞機(jī)組,纏繞在 圓形樣品支架上。
4、 按照權(quán)利要求1所述的SiC纖維表面復(fù)合梯度涂層制備方法,其特征在于, 所述第四步中,首先通入氬氣時(shí),真空室的氣體分壓,范圍為0.1Pa~0.5Pa之 間;然后通入氧氣時(shí),氣體充分混合后,氬氣和氧氣的分壓比優(yōu)選范圍為1:(0.7 3)。
5、 按照權(quán)利要求1所述的SiC纖維表面復(fù)合梯度涂層制備方法,其特征在于, 所述第五歩中,射頻濺射的電源頻率為13.6MHz,功率匹配器的自偏壓達(dá)到 80 160V。
全文摘要
本發(fā)明涉及復(fù)合材料的制備技術(shù),具體地說(shuō)是一種連續(xù)SiC纖維表面C/Al<sub>2</sub>O<sub>3</sub>復(fù)合梯度涂層的制備方法,按如下步驟操作第一步,富碳涂層SiC纖維的制備;第二步,將生產(chǎn)的SiC纖維纏繞在樣品支架上,然后放入磁控濺射儀真空室內(nèi);第三步,當(dāng)真空室的真空度優(yōu)于1.0×10<sup>-3</sup>Pa時(shí),轉(zhuǎn)動(dòng)樣品支架,對(duì)其進(jìn)行加熱、保溫;第四步,保溫結(jié)束后,首先通入氬氣,然后通入氧氣,使氣體充分混合;第五步,啟動(dòng)射頻反應(yīng)濺射電源進(jìn)行濺射,濺射結(jié)束后,關(guān)閉氣路,保持真空度優(yōu)于1×10<sup>-3</sup>Pa下,降溫至40℃以下。本發(fā)明可以解決一般碳涂層不能滿足界面的復(fù)雜要求這個(gè)技術(shù)難題,采用本發(fā)明能夠制備出強(qiáng)度較高且與鈦合金基體界面性能穩(wěn)定的SiC纖維。
文檔編號(hào)C04B41/45GK101497536SQ20081001028
公開日2009年8月5日 申請(qǐng)日期2008年1月30日 優(yōu)先權(quán)日2008年1月30日
發(fā)明者銳 楊, 王玉敏, 石南林, 鵬 肖, 雷家峰 申請(qǐng)人:中國(guó)科學(xué)院金屬研究所