專利名稱：遮陽型雙銀可鋼低輻射鍍膜玻璃的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及玻璃深加工中的鍍膜技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種遮陽型雙銀可鋼低輻射鍍膜玻璃。
背景技術(shù)：
隨著現(xiàn)代建筑工業(yè)及汽車等行業(yè)對(duì)裝飾安裝材料需求的不斷提升，作為常用材料之一的玻璃，人們對(duì)其品質(zhì)的要求也越來越高。玻璃是建筑物和汽車不可缺少的組成部分， 承擔(dān)著許多重要的功能，包括美化建筑物和汽車的外觀、采光及給室內(nèi)帶來開闊的視野。普通玻璃陽光透過率很高，但對(duì)紅外線等反射率卻很低，大部分太陽光透過玻璃進(jìn)入室內(nèi)，從而會(huì)加熱物體，而這些室內(nèi)的能量又會(huì)以輻射形式通過玻璃散失掉。據(jù)統(tǒng)計(jì)，建筑物中通過門窗散失的熱量約占整個(gè)建筑采暖或制冷能耗的50%，而通過玻璃流失的熱量就占整個(gè)窗戶的80%左右?，F(xiàn)有技術(shù)是通過在玻璃上鍍低輻射膜或者使用低輻射貼膜，鍍膜玻璃的隔熱性大大改善，如目前市場(chǎng)上普遍采用的單銀低輻射玻璃就是能將太陽光中的紅外線排除在外， 同時(shí)又可以將室內(nèi)物體二次輻射熱反射回去的特種玻璃，這種低輻射鍍膜玻璃越來越受到人們的歡迎。但是，現(xiàn)有單銀低輻射玻璃在使用過程中，其在性能、遮陽系數(shù)、可見光透光率和U值(傳熱系數(shù))等方面的表現(xiàn)都比較普通，無法達(dá)到市場(chǎng)對(duì)高性能產(chǎn)品的要求。同時(shí)， 現(xiàn)有低輻射鍍膜產(chǎn)品鋼前鋼后數(shù)據(jù)漂移大，抗氧化能力差，也會(huì)造成產(chǎn)品良率下降。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的技術(shù)目的是解決現(xiàn)有技術(shù)中的問題，提供一種光學(xué)性能更好的低輻射鍍膜玻璃。本發(fā)明的技術(shù)方案是一種遮陽型雙銀可鋼低輻射鍍膜玻璃，包括玻璃基板和鍍制在所述玻璃基板上的膜系，其特征在于，所述膜系包括的膜層自玻璃基板向外依次有第一電介質(zhì)層、第一保護(hù)層、第一功能層、第二保護(hù)層、中間電介質(zhì)組合層、第二功能層、第三保護(hù)層及頂層電介質(zhì)組合層；所述第一電介質(zhì)層包括第一 Si3N4層；所述第一保護(hù)層、第二保護(hù)層、第三保護(hù)層為NiCr、NiCrOx> NiCrNx或Nb2O5層中的一種或者幾種構(gòu)成的組合層；所述第一功能層、第二功能層為Ag層；所述中間電介質(zhì)組合層包括縱向疊置的第一 ZnSnO3層和ZnO層，所述ZnO層位于所述第一 ZnSnO3層與第二功能層之間；所述頂層電介質(zhì)組合層包括縱向疊置的第二 ZnSnO3層和第二 Si3N4層，所述第二 ZnSnO3層位于所述第二 Si3N4層和第三保護(hù)層之間。作為優(yōu)選的技術(shù)方案所述第一 Si3N4層的膜層厚度范圍為20-40nm，優(yōu)選厚度值為21. Inm ；
所述第一保護(hù)層的NiCr、NiCrOx、NiCrNx或Nb2O5層的膜層厚度范圍為O. 5-3. 5nm, 優(yōu)選的厚度值為O. 9nm ；所述第一功能層Ag層的厚度范圍9-15nm,優(yōu)選厚度值為14. 3nm ；所述第二保護(hù)層的NiCr、NiCrOx> NiCrNx或Nb2O5層的厚度范圍為2_3. 5nm,優(yōu)選厚度值為2. Inm ；所述中間電介質(zhì)組合層的第一 ZnSnO3層膜層厚度范圍為60_85nm,優(yōu)選厚度值為 63nm ；所述中間電介質(zhì)組合層的ZnO層膜層厚度范圍為4. 5-10. 5nm,優(yōu)選厚度值為 IOnm ；所述第二功能層Ag層的膜層厚度范圍為15-18nm，優(yōu)選厚度值為15. 6nm ；所述第三保護(hù)層的NiCr、NiCrOx, NiCrNx或Nb2O5層的膜層厚度范圍為O. 5_3nm， 優(yōu)選厚度值為O. 6nm ；所述頂層電介質(zhì)組合層的第二 ZnSnO3層膜層厚度范圍為10-15. 5nm,優(yōu)選厚度值為 12. 5nm ；所述頂層電介質(zhì)組合層的第二 Si3N4層膜層厚度范圍為16-20. 5nm，優(yōu)選厚度值為 17. 9nm。本發(fā)明的有益效果本發(fā)明的鍍膜玻璃產(chǎn)品可鋼化，且鋼前鋼后數(shù)據(jù)漂移小，所述膜系的各膜層之間粘附力強(qiáng)，鍍膜產(chǎn)品機(jī)械性能好，抗氧化能力強(qiáng)，且具有遮陽、低輻射等特性。


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I是本發(fā)明鍍膜玻璃的結(jié)構(gòu)示意2為具體實(shí)施例一鍍膜玻璃鋼前的膜面反射光譜曲線圖； 3為具體實(shí)施例一鍍膜玻璃鋼前的玻璃面反射光譜曲線圖 4為具體實(shí)施例一鍍膜玻璃鋼前的可見光透射圖譜；
5為具體實(shí)施例二鍍膜玻璃鋼后的膜面反射光譜曲線圖； 6為具體實(shí)施例二鍍膜玻璃鋼后的玻璃面反射光譜曲線圖 7為具體實(shí)施例二鍍膜玻璃鋼后的可見光透射圖譜；
8為具體實(shí)施例三鍍膜玻璃鋼后的膜面反射光譜曲線圖； 9為具體實(shí)施例三鍍膜玻璃鋼后的玻璃面反射光譜曲線圖 10為具體實(shí)施例三鍍膜玻璃鋼后的可見光透射圖譜。
具體實(shí)施例方式為了闡明本發(fā)明的技術(shù)方案及技術(shù)目的，下面結(jié)合附圖及具體實(shí)施方式
對(duì)本發(fā)明做進(jìn)一步的介紹。如圖I所示，一種遮陽型雙銀可鋼低輻射鍍膜玻璃，包括玻璃基板I和鍍制在所述玻璃基板I上的膜系，所述膜系包括的膜層自玻璃基板I(縱向)向外依次為第一電介質(zhì)層2、第一保護(hù)層3、第一功能層4、第二保護(hù)層5,中間電介質(zhì)組合層6、 第二功能層7、第三保護(hù)層8及頂層電介質(zhì)組合層9 ；
所述第一電介質(zhì)層2包括第一 Si3N4層；所述第一保護(hù)層3、第二保護(hù)層5、第三保護(hù)層8為NiCr (鎳鉻合金)、NiCrOx、 NiCrNx或Nb2O5層中的一種構(gòu)成的單層或者幾種構(gòu)成的組合層；所述第一功能層4、第二功能層7均為Ag層；所述中間電介質(zhì)組合層6包括縱向疊置的第一 ZnSnO3層和ZnO層,所述ZnO層位于所述第一 ZnSnO3層和第二功能層之間，即所述第一 ZnSnO3層相較所述ZnO層更臨近于第二保護(hù)層5 ；所述頂層電介質(zhì)組合層9包括縱向疊置的第二 ZnSnO3層和第二 Si3N4層，所述第二 ZnSnO3層位于所述第二 Si3N4層和第三保護(hù)層之間。所述第一 Si3N4層的膜層厚度范圍為20_40nm ；所述第一保護(hù)層3的NiCr、NiCrOx, NiCrNx或Nb2O5層的膜層厚度范圍為
O.5-3. 5nm ；所述第一功能層4的Ag層厚度范圍8_15nm ；所述第二保護(hù)層5的NiCr、NiCrOx, NiCrNx或Nb2O5層的厚度范圍為2-3. 5nm ；所述中間電介質(zhì)組合層6的第一 ZnSnO3層膜層厚度范圍為60_85nm ；所述中間電介質(zhì)組合層6的ZnO層膜層厚度范圍為4. 5-10. 5nm ；所述第二功能層7的Ag層的膜層厚度范圍為15_18nm ；所述第三保護(hù)層8的NiCr、NiCrOx、NiCrNx或Nb2O5層的膜層厚度范圍為O. 5_3nm ；所述頂層電介質(zhì)組合層9的第二 ZnSnO3層膜層厚度范圍為10-15. 5nm ；所述頂層電介質(zhì)組合層9的第二 Si3N4層膜層厚度范圍為16-20. 5nm。具體實(shí)施例一所述膜系在本實(shí)施例中的具體材料結(jié)構(gòu)為玻璃基板/513隊(duì)/附0/^8/附0/21^1103/2110/^8/附0/21151103/513隊(duì)。上述結(jié)構(gòu)中第一電介質(zhì)層2的第一 Si3N4層的膜層厚度為21. Inm ；第一保護(hù)層3的NiCr層的膜層厚度為O. 9nm ；第一功能層4的Ag層的膜層厚度為14. 3nm ；第二保護(hù)層5的NiCr層的膜層厚度為2. Inm ； 中間電介質(zhì)組合層6的第一 ZnSnO3層膜層厚度為63nm ；中間電介質(zhì)組合層6層的ZnO層膜層厚度為IOnm ；第二功能層7的Ag層膜層厚度為15. 6nm ；第三保護(hù)層8的NiCr層的膜層厚度為O. 6nm ；頂層電介質(zhì)組合層9的第二 ZnSnO3層膜層厚度為12. 5nm ；頂層電介質(zhì)組合層9的弟_. Si3N4層I旲層厚度為17. 9nm。用上述工藝參數(shù)鍍制的鍍膜玻璃(玻璃為5mm普通白玻)，其光學(xué)性能根據(jù)對(duì)本產(chǎn)品進(jìn)行的膜面反射、玻璃面反射及可見光透射測(cè)試，在對(duì)色坐標(biāo)中本實(shí)施例鍍膜玻璃的參數(shù)分別為(a*和b*代表色度坐標(biāo)，其中a*代表紅-綠軸，b*代表黃-藍(lán)軸。)I)、膜面反射測(cè)試:可見光膜面反射率=5. 4% ;a* = 10. 3 ;b* = -14. 5 ；2)、玻璃面反射測(cè)試可見光玻璃面反射率=13. 1% ;a*值=-2. 3 ;b* = -5. 5 ；
3)、可見光透射測(cè)試可見光透過率=56. I % ；a* = -6. 5 ；b* = -4. 5。如圖2-圖4所示，本實(shí)施例鍍膜玻璃產(chǎn)品在可見光段具有很低的反射率，在紅外光段具有很高的反射率，其可見光透過率約在56%左右，并具有遮陽、低輻射特性，且鍍膜后的玻璃膜層抗氧化性好，膜層粘附力強(qiáng)。具體實(shí)施例二 所述膜系在本實(shí)施例中的具體材料結(jié)構(gòu)為玻璃基板/513隊(duì)/附0/^8/附0/21^1103/2110/^8/附0(^/21151103/513隊(duì)。上述結(jié)構(gòu)中第一電介質(zhì)層2的第一 Si3N4層的膜層厚度為34. 8nm ；第一保護(hù)層3的NiCr層的膜層厚度為2. Ixm ；第一功能層4的Ag層的膜層厚度為9. 5nm ；第二保護(hù)層5的NiCr層的膜層厚度為2. Ixm ；中間電介質(zhì)組合層6的第一 ZnSnO3層膜層厚度為84. Inm ； 中間電介質(zhì)組合層6的ZnO層膜層厚度為5. Onm ；第二功能層7的Ag層膜層厚度為15. 9nm ；第三保護(hù)層8的NiCrOx層的膜層厚度為I. 9nm ；頂層電介質(zhì)組合層9的弟_. ZnSnO3層I吳層厚度為15. Onm ；頂層電介質(zhì)組合層9的弟_. Si3N4層I吳層厚度為19. 9nm。用上述工藝參數(shù)制出的鍍膜玻璃(玻璃為5mm普通白玻)在鋼化后，其光學(xué)性能根據(jù)對(duì)其進(jìn)行的膜面反射、玻璃面反射及可見光透射測(cè)試，在對(duì)色坐標(biāo)中本實(shí)施例鋼化后的參數(shù)分別為I)、膜面反射測(cè)試可見光膜面反射率=5. 5% ;a* = -6. 7 ;b* = -19. 4 ；2)、玻璃面反射測(cè)試:可見光玻璃面反射率=14. 8% ;a*值=-I. 7 ;b* = -14. 4 ；3)、可見光透射測(cè)試可見光透過率=52. 4% ;a* = -5. O ;b* = -I. 3。如圖5-圖7所示，本實(shí)施例鍍膜玻璃產(chǎn)品即使在鋼化后，在可見光段仍具有很低的反射率，在紅外光段具有很高的反射率，其輻射率為O. 024。同時(shí)本實(shí)施例還具有結(jié)構(gòu)穩(wěn)定、抗氧化性強(qiáng)、鋼前鋼后產(chǎn)品參數(shù)數(shù)據(jù)漂移小的優(yōu)點(diǎn)，如下表所示，表一為對(duì)本實(shí)施例鍍膜玻璃鋼化前和鋼化后的數(shù)據(jù)對(duì)比，其中R □為方塊電阻。表一
參數(shù)測(cè)試項(xiàng)目Ya*b*Rn ( ohm/□)鋼前鋼后鋼前鋼后鋼前鋼后鋼前鋼后玻璃面反射13. 713. 6-I. I-3. 3-13. 9-13. O3. I2. 3膜面反射5. O6. 22. 7I. 4-29. 8-26. 權(quán)利要求
1.一種遮陽型雙銀可鋼低輻射鍍膜玻璃，包括玻璃基板和鍍制在所述玻璃基板上的膜系，其特征在于，所述膜系包括的膜層自玻璃基板向外依次為第一電介質(zhì)層、第一保護(hù)層、第一功能層、第二保護(hù)層、中間電介質(zhì)組合層、第二功能層、第三保護(hù)層及頂層電介質(zhì)組合層；所述第一電介質(zhì)層包括第一 Si3N4層；所述第一保護(hù)層、第二保護(hù)層、第三保護(hù)層為NiCr、NiCrOx> NiCrNx或Nb2O5層中的一種或者幾種構(gòu)成的組合層；所述第一功能層、第二功能層為Ag層；所述中間電介質(zhì)組合層包括縱向疊置的第一 ZnSnO3層和ZnO層，所述ZnO層位于所述第一 ZnSnO3層和所述第二功能層之間；所述頂層電介質(zhì)組合層包括縱向疊置的第二 ZnSnO3層和第二 Si3N4層，所述第二 ZnSnO3層位于所述第二 Si3N4層和第三保護(hù)層之間。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的一種遮陽型雙銀可鋼低輻射鍍膜玻璃，其特征在于所述第一 Si3N4層的膜層厚度范圍為20-40nm ；所述第一保護(hù)層的NiCr、NiCrOx, NiCrNx或Nb2O5層的膜層厚度范圍為O. 5-3. 5nm ；所述第一功能層Ag層的厚度范圍8-15nm ；所述第二保護(hù)層的NiCr、NiCrOx, NiCrNx或Nb2O5層的厚度范圍為2_3. 5nm ；所述中間電介質(zhì)組合層的第一 ZnSnO3層膜層厚度范圍為60-85nm ；所述中間電介質(zhì)組合層的ZnO層膜層厚度范圍為4. 5-10. 5nm ；所述第二功能層Ag層的膜層厚度范圍為15-18nm ；所述第三保護(hù)層的NiCr、NiCrOx, NiCrNx或Nb2O5層的膜層厚度范圍為O. 5_3nm ；所述頂層電介質(zhì)組合層的第二 ZnSnO3層膜層厚度范圍為10-15. 5nm ；所述頂層電介質(zhì)組合層的第二 Si3N4層膜層厚度范圍為16-20. 5nm。
全文摘要
一種遮陽型雙銀可鋼低輻射鍍膜玻璃，包括玻璃基板和鍍制在所述玻璃基板上的膜系，所述膜系包括的膜層自玻璃基板向外依次有第一電介質(zhì)層、第一保護(hù)層、第一功能層、第二保護(hù)層、包括由ZnSnO3層和ZnO層構(gòu)成的中間電介質(zhì)組合層、第二功能層、第三保護(hù)層以及包括由ZnSnO3層和Si3N4層構(gòu)成的頂層電介質(zhì)組合層。本發(fā)明的玻璃鍍膜產(chǎn)品可鋼化，鋼前鋼后數(shù)據(jù)漂移小，所述膜系的各膜層之間粘附力強(qiáng)，鍍膜產(chǎn)品機(jī)械性能好，抗氧化能力強(qiáng)，且具有遮陽、低輻射等特性。
文檔編號(hào)C03C17/36GK102584031SQ20121003112
公開日2012年7月18日 申請(qǐng)日期2012年2月10日 優(yōu)先權(quán)日2012年2月10日
發(fā)明者林嘉宏 申請(qǐng)人:林嘉宏